公开(公告)号：CN1627185A

公开(公告)日：2005-06-15

申请号：CN200410100630.2

申请日：2004-12-08

申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司

发明人： 张仲兴 ,  林佳惠 ,  陈俊光

IPC分类号： G03F1/08 ,  G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC分类号： G03F1/34

摘要： 本发明是关于一种无铬膜层相位移光罩，包括：一透光基底；至少一第一相位移图案，由至少一环状凹陷所构成；以及一第一次解析透光图案，是由上述环状凹陷所环绕的透光基底所构成，以与上述第一相位移图案构成曝光时所欲之转移图案，此外，本发明亦关于上述光罩的制造方法以及其制造半导体装置的方法。

公开(公告)号：CN1534380A

公开(公告)日：2004-10-06

申请号：CN200310124030.5

申请日：2003-12-31

申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司

发明人： 张仲兴 ,  林建宏 ,  林本坚 ,  林佳惠 ,  金持正 ,  林进祥 ,  梁辅杰 ,  陈政宏 ,  何邦庆

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/00 ,  H01L21/00

CPC分类号： G03F1/20 ,  G03B27/42 ,  G03F1/00 ,  G03F7/70475

摘要： 本发明公开了一种转移光罩图形的方法与装置以及制造光罩的方法，可藉以补偿光罩接合区(Stitching Area)因为接合效应(Stitching Effect)所产生的误差。本发明的转移光罩图形的方法至少包括以下步骤。首先，提供用以产生一光罩的一数据文件，并将此数据文件分成复数个部分，其中每一部分至少包括一主要图形区与一接合区，且此接合区至少包括一几何图形。然后，于接合区形成一组几何特征，其中于一照射过程后此组几何特征形成一半色调灰阶曝光剂量分布。

公开(公告)号：CN1470943A

公开(公告)日：2004-01-28

申请号：CN03121435.5

申请日：2003-03-27

申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司

发明人： 戴昌铭 ,  张仲兴 ,  游展汶 ,  林本坚

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F1/16

CPC分类号： G03F1/32 ,  G03F1/30 ,  G03F1/70 ,  G03F7/2026

摘要： 本发明揭露一种光罩组合，包括：一第一光罩，具有平行且交错排列的复数相位0度透光区与复数相位180度透光区；以及一第二光罩，具有一透明基底与一条状遮光层，其中上述条状遮光层覆盖于上述透明基底部分表面，上述条状遮光层的宽度不小于上述相位0度透光区与上述相位180度透光区的间距。本发明亦揭露透过光罩组合曝光以形成细线图案的方法。

公开(公告)号：CN1325994C

公开(公告)日：2007-07-11

申请号：CN200410100630.2

申请日：2004-12-08

申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司

发明人： 张仲兴 ,  林佳惠 ,  陈俊光

IPC分类号： G03F1/08 ,  G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC分类号： G03F1/34

摘要： 本发明是关于一种无铬膜层相位移光罩，包括：一透光基底；至少一第一相位移图案，由至少一环状凹陷所构成；以及一第一次解析透光图案，是由上述环状凹陷所环绕的透光基底所构成，以与上述第一相位移图案构成曝光时所欲之转移图案，此外，本发明亦关于上述光罩的制造方法以及其制造半导体装置的方法。

公开(公告)号：CN1271474C

公开(公告)日：2006-08-23

申请号：CN200310124030.5

申请日：2003-12-31

申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司

发明人： 张仲兴 ,  林建宏 ,  林本坚 ,  林佳惠 ,  金持正 ,  林进祥 ,  梁辅杰 ,  陈政宏 ,  何邦庆

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC分类号： G03F1/20 ,  G03B27/42 ,  G03F1/00 ,  G03F7/70475

摘要： 本发明公开了一种转移光罩图形的方法与装置以及制造光罩的方法，可藉以补偿光罩接合区(Stitching Area)因为接合效应(Stitching Effect)所产生的误差。本发明的转移光罩图形的方法至少包括以下步骤。首先，提供用以产生一光罩的一数据文件，并将此数据文件分成复数个部分，其中每一部分包括一主要图形区与一邻近该主要图形区的接合区，且此接合区至少包括一几何图形。然后，于接合区形成一组几何特征，其中于一照射过程后此组几何特征形成一半色调灰阶曝光剂量分布。

公开(公告)号：CN1259597C

公开(公告)日：2006-06-14

申请号：CN03121435.5

申请日：2003-03-27

申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司

发明人： 戴昌铭 ,  张仲兴 ,  游展汶 ,  林本坚

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F1/16

CPC分类号： G03F1/32 ,  G03F1/30 ,  G03F1/70 ,  G03F7/2026

摘要： 本发明揭示一种光罩组合，包括：一第一光罩，具有平行且交错排列的多个相位0度透光区与多个相位180度透光区，且任一相位0度透光区与相邻的相位180度透光区具有相同的间距；以及一第二光罩，具有一透明基底与一条状遮光层，其中上述条状遮光层覆盖于上述透明基底部分表面，上述条状遮光层的宽度不小于上述相位0度透光区与上述相位180度透光区的间距。本发明亦揭示透过光罩组合曝光以形成细线图案的方法。

公开(公告)号：CN2777600Y

公开(公告)日：2006-05-03

申请号：CN200420117467.6

申请日：2004-12-08

申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司

发明人： 张仲兴 ,  林佳惠 ,  陈俊光

IPC分类号： G03F1/08 ,  G03F1/00 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F1/34

摘要： 本实用新型是关于一种无铬膜层相位移光罩，包括：一透光基底；至少一第一相位移图案，由至少一环状凹陷所构成；以及一第一次解析透光图案，是由上述环状凹陷所环绕的透光基底所构成，以与上述第一相位移图案构成曝光时所欲之转移图案。