公开(公告)号：CN101321841B

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN200680040308.2

申请日：2006-10-27

Applicant: 三井金属鉱业株式会社

Inventor： 瓜生博美 ,  内野义嗣

IPC: C09K3/14

CPC classification number: C09K3/1409 ,  C01F17/0043

Abstract: 本发明的目的是提供氧化铈含量高的高纯度铈系研磨材料，该研磨材料的研磨速度得到了改善。本发明的铈系研磨材料的特征在于，它是相对于全部稀土类氧化物(TREO)的氧化铈的含量为90质量％以上的铈系研磨材料，相对于研磨材料总量，含有0.01～2.0质量％的选自Ti及原子序号80以下的5族～12族的元素的至少1种特定元素。

公开(公告)号：CN101365816B

公开(公告)日：2010-10-06

申请号：CN200780001938.3

申请日：2007-08-30

Applicant: 三井金属鉱业株式会社

Inventor： 松浦宜范 ,  附田龙马 ,  占部宏成 ,  久保田高史

IPC: C22C21/00 ,  C23C14/34 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1343

CPC classification number: C23C14/3414 ,  C22C21/00 ,  C23C14/16 ,  G02F1/13439 ,  G02F2203/02 ,  Y10T428/12611 ,  Y10T428/12736

Abstract: 本发明涉及反射型显示器，提供具有优异的反射特性且能与ITO和IZO等透明电极层直接接合的反射膜用铝类合金材料。本发明的在铝中含有镍和硼的反射膜用Al-Ni-B合金材料的特征在于，镍含量为1.5at％～4at％，硼含量为0.1at％～0.5at％，其余为铝。此外，进一步优选镍含量为1.5at％～3at％，硼含量为0.1at％～0.4at％。

公开(公告)号：CN101472844A

公开(公告)日：2009-07-01

申请号：CN200780023279.3

申请日：2007-06-26

Applicant: 三井金属鉱业株式会社

Inventor： 米田佳弘 ,  小仓宗二 ,  八岛勇

IPC: C01G33/00

CPC classification number: C01G33/00 ,  C01P2002/72 ,  C01P2006/12 ,  C01P2006/14 ,  C01P2006/40 ,  H01G9/052 ,  H01G9/0525

Abstract: 本发明的目的是提供可制得小型且具备大静电容量的电容器的一氧化铌。本发明的一氧化铌是由粒子构成的多孔质结构的一氧化铌，其特征在于，X射线衍射的衍射峰中，相当于(111)面的峰或相当于(200)面的峰的半宽度为0.21°～1.0°。该一氧化铌的比表面积及空隙率大，特别适用于电容器的用途。

公开(公告)号：CN100396750C

公开(公告)日：2008-06-25

申请号：CN03800767.3

申请日：2003-03-18

Applicant: 三井金属鉱业株式会社

Inventor： 望月直义

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/00

CPC classification number: C01F17/0043 ,  C01P2004/50 ,  C01P2006/80 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463

Abstract: 本发明的目的是提供只要与水等分散介质混合、就可调制出研磨材料粒子的分散状态被长时间维持的铈系研磨材料淤浆、且研磨完毕的研磨材料淤浆的后处理简单的粉末状铈系研磨材料。本发明的铈系研磨材料是包含含氯化合物的铈系研磨材料，其中所含的氯(元素)的总质量相当于铈系研磨材料中所含的全部稀土氧化物的质量的0.05%～5.0%。以该研磨材料为固形成分的研磨材料淤浆中的研磨材料粒子的分散维持性良好。因此，能够连续地供给固形成分浓度稳定的研磨材料淤浆。此外，不需要维持分散状态的分散剂。研磨材料使用后，不需要分散剂的分离处理，所以，使用完毕的研磨材料淤浆的后处理简单。

公开(公告)号：CN100357496C

公开(公告)日：2007-12-26

申请号：CN03815248.7

申请日：2003-06-27

Applicant: 三井金属鉱业株式会社

Inventor： 横田俊子 ,  高桥进 ,  松嶋英明 ,  土桥诚 ,  山本拓也

IPC: C25D15/00

CPC classification number: H05K1/162 ,  C25D15/02 ,  H05K3/384 ,  H05K2201/0154 ,  H05K2201/0209 ,  H05K2201/0355 ,  H05K2201/09309 ,  H05K2203/0723 ,  H05K2203/135

Abstract: 本发明提供使用含电介质填料的聚酰亚胺电镀液，形成膜厚均一性优良的含有电介质填料的电介质层的方法。本发明是在金属材料表面形成含电介质填料的聚酰亚胺覆盖膜的方法，其特征在于，它是通过电镀涂装法在金属材料表面形成含电介质填料的聚酰亚胺覆盖膜的方法，电介质填料采用呈近似球状的具有钙钛矿结构的电介质粉末，该电介质粉末的平均粒径D1A为0.05～1.0μm、激光衍射散射式粒度分布测定法所测得的重量累积粒径D50为0.1～2.0μm，并且采用重量累积粒径D50和图像分析所得到的平均粒径D1A、以D50/D1A表示的凝聚度的值在4.5以下。

公开(公告)号：CN100339308C

公开(公告)日：2007-09-26

申请号：CN02805493.8

申请日：2002-12-26

Applicant: 三井金属鉱业株式会社

Inventor： 东贤治 ,  渡边广幸 ,  宫下德彦

IPC: C01G35/00 ,  C01G33/00 ,  C30B29/30

CPC classification number: B82Y30/00 ,  C01G33/00 ,  C01G35/00 ,  C01P2004/64 ,  C01P2006/60 ,  C01P2006/62 ,  C01P2006/63 ,  C01P2006/64

Abstract: 本发明提供一种品质更加稳定、高品质的氧化钽或氧化铌粉末。该高品质的氧化钽或氧化铌粉末为L*a*b*表色系统中L*值在97以上、100以下的亮度极高的氧化钽或氧化铌粉末。这样的粉末杂质含量少、具有稳定的5价氧化物形态。另外，为了制造上述亮度极高的氧化钽或氧化铌粉末，在制造过程工序中的焙烧时及焙烧后的高温时，充分提供氧给焙烧品。

公开(公告)号：CN1300278C

公开(公告)日：2007-02-14

申请号：CN200410068551.8

申请日：2004-08-26

Applicant: 三井金属鉱业株式会社

Inventor： 望月直义 ,  小林大作 ,  下河原明 ,  山崎秀彦 ,  堂本幸辉

IPC: C09K3/14

Abstract: 本发明的铈系研磨材料含有氟，全稀土类氧化物换算质量(TREO)与研磨材料质量的质量比在90wt%以上，Th和U的合计含量与该TREO的质量比((Th+U)/TREO)在0.05wt%以下，布莱恩法平均粒径(DB)为1.5μm～2.5μm。为了确保必要的研磨速度，对进行了以布莱恩法平均粒径(DB)为基准的粒径设定的铈系研磨材料进行研磨材料粒子的粒度分布的控制。因此，铈系研磨材料制造时如果采用布莱恩法平均粒径(DB)作为粒度设定基准，则可获得钍和铀等的含有率有所减少、且具备高研磨速度的铈系研磨材料。

公开(公告)号：CN1300277C

公开(公告)日：2007-02-14

申请号：CN01816936.8

申请日：2001-10-02

Applicant: 三井金属鉱业株式会社

Inventor： 内野义嗣 ,  山崎秀彦 ,  桑原滋

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  C03C19/00

CPC classification number: C09K3/1463 ,  B24D3/344 ,  C03C19/00 ,  C09K3/1454

Abstract: 本发明提供了研磨材料，它是以含有氧化铈的稀土金属类氧化物为主要组分的玻璃用研磨材料，它能使磨粒的分散性良好、且降低磨粒沉淀物的硬度、并能稳定地实现高的研磨效率。本发明是以含有氧化铈的稀土金属类氧化物为主要组分的研磨材料，其中含有固化防止剂和分散剂，所述的固化防止剂用于在该研磨材料磨粒分散到分散介质时使该研磨材料磨粒的沉淀物变软，所述的分散剂用于使该研磨材料磨粒分散于分散介质中。

公开(公告)号：CN1256236C

公开(公告)日：2006-05-17

申请号：CN02806167.5

申请日：2002-12-12

Applicant: 三井金属鉱业株式会社

Inventor： 杉元晶子 ,  吉冈淳志 ,  土桥诚

IPC: B32B15/04

CPC classification number: C25D1/04 ,  B32B7/06 ,  B32B15/08 ,  B32B15/20 ,  H05K3/025 ,  Y10S428/926 ,  Y10S428/935 ,  Y10S428/938 ,  Y10T428/12903 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31678

Abstract: 本发明的目的是提供一种用于即使必经200℃以上温度压制加工制造印刷线路板，承载箔和电解铜箔层的剥离强度也稳定的可剥离型的带承载箔的电解铜箔。为达到该目的，采用在承载箔2的单面上具有接合界面层4并在该接合界面层4上配置有电解铜箔层3的具有如下特征的带承载箔的电解铜箔1等；该接合界面层4由金属氧化物ML和有机物质层OL构成。

公开(公告)号：CN1250766C

公开(公告)日：2006-04-12

申请号：CN01800183.1

申请日：2001-03-06

Applicant: 三井金属鉱业株式会社

Inventor： 久保田高史 ,  渡边弘

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/06 ,  B22D21/00

CPC classification number: C23C14/3414 ,  C23C14/0005 ,  C23C14/06 ,  C23C14/0688 ,  C23C14/22 ,  C23C14/3464

Abstract: 本发明涉及一种制造包括两种或更多种金属或非金属以及它们的化合物的复合材料的方法，具体而言，本发明涉及将分散材料很均匀地分散在复合材料的基材中，而适用性不依赖于复合材料组成的制造方法。本发明的特点是将构成基材的金属或非金属或它们的化合物的基材原料和构成分散材料的金属或非金属或它们的化合物的至少一种分散材料的原料同时或交替蒸发，蒸发的颗粒沉积在一底材上形成块状物体。