一种用于涉氚光学元件离子束刻蚀的装置及方法

    公开(公告)号:CN118315256A

    公开(公告)日:2024-07-09

    申请号:CN202410468256.9

    申请日:2024-04-17

    IPC分类号: H01J37/32

    摘要: 本发明公开了一种用于涉氚光学元件离子束刻蚀的装置及方法,包括真空刻蚀腔室、取放样小门、负压抽风系统、离子束刻蚀设备和控制系统;真空刻蚀腔室的内壁内侧设置有防氚内衬,取放样小门设置于真空刻蚀腔室舱门上,负压抽风系统用于使真空刻蚀腔室内产生负压环境,离子束刻蚀设备设置于真空刻蚀腔室内,控制系统用于控制离子束刻蚀设备对光学元件进行刻蚀处理;本发明可用于涉氚元件的离子束刻蚀,不会因氚的特殊性质导致真空刻蚀腔室材料发生断裂韧性下降甚至失效,安全可靠。可有效避免打开腔室舱门时的放射性物质外泄,有效保护操作人员和周围环境。无需对真空刻蚀腔室内壁进行频繁清洁,避免人员清洁导致的放射性接触,同时保持的设备长期运行下的低放射性。

    一种光学元件在线拆装洁净转运装置及光学元件拆装方法

    公开(公告)号:CN117429870A

    公开(公告)日:2024-01-23

    申请号:CN202311648605.7

    申请日:2023-12-05

    IPC分类号: B65G47/90 B23P19/00

    摘要: 本发明公开了一种光学元件在线拆装洁净转运装置及光学元件拆装方法,涉及光学元件的拆装维护技术领域,光学元件在线拆装洁净转运装置包括上装洁净箱、第一平移机构、第二平移机构和抓取机构,所述第一平移机构位于所述上装洁净箱的外部,所述第二平移机构和所述抓取机构均位于所述洁净箱的内部,所述第一平移机构能够驱动所述第二平移机构和所述抓取机构上下运动,所述第二平移机构能够驱动所述抓取机构上下运动,所述抓取机构用于抓取和释放光学元件。本发明通过第一平移机构、第二平移机构和抓取机构实现对光学元件位置的精确定位和调整,以解决光学元件精密安装和在线洁净更换的问题。

    一种光机模块手操箱
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115524042A

    公开(公告)日:2022-12-27

    申请号:CN202211240613.3

    申请日:2022-10-11

    IPC分类号: G01L5/00

    摘要: 本发明公开一种光机模块手操箱,涉及光机模块安装技术领域,包括箱体,所述箱体上开设有用于与光机组件对接的连接口,所述箱体内设置有推送单元,所述推送单元上能够安装光机模块,且所述推送单元连接有驱动机构,所述驱动机构能够驱动所述推送单元使所述推送单元上的光机模块穿过所述连接口;所述连接口处设置有密封闸板,当所述箱体与所述光机组件对接时,所述密封闸板能够打开,以使所述光机模块能够穿过所述连接口,当所述箱体与所述光机组件分离时,所述密封闸板能够封闭所述连接口;所述箱体上设置有用于供人手操作的手操作口,所述手操作口上设置有密封组件。本发明能够实现光机模块在洁净环境下的各种安装姿态的集成安装。

    精密定位与柔性对接系统

    公开(公告)号:CN105502142A

    公开(公告)日:2016-04-20

    申请号:CN201510410156.1

    申请日:2015-07-13

    IPC分类号: B66C1/10

    摘要: 本发明公开了一种精密定位与柔性对接系统,包括吊臂,吊臂通过滑轮系统设有钢绳;与钢绳下端连接的夹具臂;可转动地安装在夹具臂一端的夹具头;撑杆和撑台构成的随动支撑结构,撑杆下端铰接在夹具臂上;悬摆内圈和悬摆外圈,钢绳穿过悬摆内圈,悬摆外圈固定在撑台一端;悬摆调平机构,该悬摆调平机构一端铰接在悬摆内圈上端,另一端与吊臂固定。本发明通过撑杆和撑台组成的随动支撑结构与吊钩共同作用,确保夹具头和夹具臂始终处于双吊点柔性悬挂状态,使大口径光机模块安装过程具有柔顺性,并通过调平结构使大口径光机模块在安装过程中始终保持静力平衡状态,通过空间姿态调整,实现大口径光机模块的空间精密定位,并与安装位之间进行柔性对接。

    一种光机模块手操箱
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN115524042B

    公开(公告)日:2024-07-09

    申请号:CN202211240613.3

    申请日:2022-10-11

    IPC分类号: G01L5/00

    摘要: 本发明公开一种光机模块手操箱,涉及光机模块安装技术领域,包括箱体,所述箱体上开设有用于与光机组件对接的连接口,所述箱体内设置有推送单元,所述推送单元上能够安装光机模块,且所述推送单元连接有驱动机构,所述驱动机构能够驱动所述推送单元使所述推送单元上的光机模块穿过所述连接口;所述连接口处设置有密封闸板,当所述箱体与所述光机组件对接时,所述密封闸板能够打开,以使所述光机模块能够穿过所述连接口,当所述箱体与所述光机组件分离时,所述密封闸板能够封闭所述连接口;所述箱体上设置有用于供人手操作的手操作口,所述手操作口上设置有密封组件。本发明能够实现光机模块在洁净环境下的各种安装姿态的集成安装。

    一种涉氚光学元件干法无损去污除膜方法

    公开(公告)号:CN117930501A

    公开(公告)日:2024-04-26

    申请号:CN202410269186.4

    申请日:2024-03-08

    IPC分类号: G02B27/00 G02B1/12 B08B7/00

    摘要: 本发明属于光学元件技术领域,具体涉及一种涉氚光学元件干法无损去污除膜方法。本发明首先根据元件表面膜层和基底的折射率等光学特征参数,模拟计算元件透射率/反射率与膜层厚度间的函数关系曲线;接着,利用分光光度计光路对光学元件透射率/反射率进行在线监测,并依据模拟计算得到的透射率/反射率与膜层厚度关系曲线,实时计算监测剩余膜层厚度;采用反应离子束刻蚀的方法对光学元件进行去污和除膜处理,当在线监测显示膜层已被完全去除时,停止反应离子束刻蚀;最后,对元件表面的氚污染含量进行测量确认。本发明提供的方法绿色环保无氚化水产生,不破坏元件基底,可同步实现元件的去污和除膜两个目的。

    一种工件转移工装
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117817699A

    公开(公告)日:2024-04-05

    申请号:CN202410072146.0

    申请日:2024-01-18

    IPC分类号: B25J15/00 B65G47/90

    摘要: 本发明公开了一种工件转移工装,涉及工件转移设备技术领域,包括连接机构、第一驱动机构、第二驱动机构、第三驱动机构、第四驱动机构及第五驱动机构;连接机构能够拆卸连接于工件;第一驱动机构驱动连接机构相对于管道偏转;第二驱动机构驱动第一驱动机构在管道外侧沿远离或靠近管道外表面的方向上直线移动;第三驱动机构驱动第四驱动机构和第二驱动机构在管道外侧沿平行于管道轴向的方向上直线移动;第四驱动机构驱动第二驱动机构在管道外侧沿远离或靠近管道外表面的方向上偏转;第五驱动机构驱动第三驱动机构在管道外侧沿垂直于管道外表面的一轴线旋转。本发明提供的工件转移工装,便于对复杂转移路径的工件进行转移,提升工作效率。

    空间六自由度运动的六位移传感器动态测量法

    公开(公告)号:CN102636139A

    公开(公告)日:2012-08-15

    申请号:CN201210106028.4

    申请日:2012-04-12

    IPC分类号: G01B21/04 G01B21/22

    摘要: 本发明公开了一种空间六自由度运动的六位移传感器动态测量法,利用六位移传感器并联对运动物体进行空间六自由度运动的动态测量,主要包括构搭建六位移传感器并联测量机构、建立坐标系、坐标变换、位置逆解、位置正解等一系列步骤。测量机构包括上平台、拉线式位移传感器和下平台。测量机构构建好以后,建立适当坐标系经坐标变换找到拉线长度和上平台位姿关系,经逆解计算出初始拉线长度,再通过拉线长度的变化正解计算出被测物体空间六自由度运动的变化规律。本发明可同时测出被测运动物体六个自由度的运动规律,测量精度高,并且算法易于实现,可靠性强;应用范围广,可应用到并联机床、飞行模拟器、风洞试验模型装置、空间对接设备等国防重点领域中。

    一种涉氚光学元件干法无损去污除膜方法

    公开(公告)号:CN117930501B

    公开(公告)日:2024-09-20

    申请号:CN202410269186.4

    申请日:2024-03-08

    IPC分类号: G02B27/00 G02B1/12 B08B7/00

    摘要: 本发明属于光学元件技术领域,具体涉及一种涉氚光学元件干法无损去污除膜方法。本发明首先根据元件表面膜层和基底的折射率等光学特征参数,模拟计算元件透射率/反射率与膜层厚度间的函数关系曲线;接着,利用分光光度计光路对光学元件透射率/反射率进行在线监测,并依据模拟计算得到的透射率/反射率与膜层厚度关系曲线,实时计算监测剩余膜层厚度;采用反应离子束刻蚀的方法对光学元件进行去污和除膜处理,当在线监测显示膜层已被完全去除时,停止反应离子束刻蚀;最后,对元件表面的氚污染含量进行测量确认。本发明提供的方法绿色环保无氚化水产生,不破坏元件基底,可同步实现元件的去污和除膜两个目的。