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公开(公告)号：CN115838175B
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202211362206.X
申请日：2022-11-02
Applicant: 新特能源股份有限公司 , 新特硅基新材料有限公司
IPC: C01B33/107
Abstract: 本发明提供一种去除氯硅烷中碳杂质的方法及系统，方法包括：将多晶硅生产过程中的含碳氯硅烷与还原尾气混合，以使二者中的物料进行反应，对反应后的混合物料进行冷凝，以使反应后的混合物料中的氯硅烷冷凝成液体，对冷凝产生的气体进行吸附，以去除其中的甲烷，对冷凝产生的液体进行精馏，以去除其中的甲基三氯硅烷。本发明在不需要催化剂和/或原料浓缩的前提下，利用还原尾气余热促进甲基二氯硅烷反应的进行，使其转化成更高沸点的甲基三氯硅烷和更低沸点的甲烷气体，不仅技术手段简单、而且能够提高三氯氢硅与甲基氯硅烷杂质的分离效率，降低分离能耗，同时也为还原尾气热能利用提供了新思路。
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公开(公告)号：CN118908212A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202411161138.X
申请日：2024-08-21
Applicant: 新特能源股份有限公司 , 新特硅基新材料有限公司
IPC: C01B32/354 , C01B33/107
Abstract: 本发明公开了一种用于氯硅烷除杂吸附剂及其制备方法，该方法包括以下步骤：1)将表面活性剂溶于有机溶剂和水中，得到第一溶液；2)将硅源和共结构导向剂溶于水中，得到第二溶液，其中，共结构导向剂结构式为RSiX3，X为水解性官能团，R为有机官能团；3)将第二溶液加入到第一溶液中，得到第三溶液；4)将第三溶液通过水热反应进行晶化处理，生成介孔结构的有机官能团改性的二氧化硅，得到吸附剂。相较于常用的后处理方法，本发明采用内源法引入与杂质有强化学亲和力的功能基团，通过在硅源前体中加入共结构导向剂，与表面活性剂模板发生共组装，在不影响孔道结构性质的前提下，能够引入更多的有机官能团且其均匀分布在材料表面。
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公开(公告)号：CN117342563A
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN202310828196.2
申请日：2023-07-06
Applicant: 新特能源股份有限公司 , 新特硅基新材料有限公司
IPC: C01B33/107
Abstract: 本发明公开了一种除去多晶硅高沸物中的铝的方法、氯铝酸离子液体、应用、多晶硅高沸物的催化裂解方法，除去多晶硅高沸物中的铝的方法包括以下步骤：向多晶硅高沸物中通入离子液体，该离子液体包括吡咯烷类离子液体和/或哌啶类离子液体，加热，使离子液体中的阳离子与多晶硅高沸物中的三氯化铝结合形成氯铝酸离子液体。具有良好的除铝效果，能够有效地将多晶硅高沸物中的三氯化铝转化为氯铝酸离子液体，得到的氯铝酸离子液体呈液态，避免了传统除铝工艺形成固渣造成设备管道堵塞的问题；离子液体具有较长的使用寿命，且易于回收和再利用，具有较好的经济性和环保性。
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公开(公告)号：CN119080013A
公开(公告)日：2024-12-06
申请号：CN202411234507.3
申请日：2024-09-03
Applicant: 新特能源股份有限公司 , 新特硅基新材料有限公司
IPC: C01B33/18
Abstract: 本发明公开了一种二氧化硅及其制备方法，该方法包括以下步骤：1)配制氨水溶液；2)配制醇水溶液，其中醇的分子式为CnH2n+1OH，n＝4、5、6；3)将氨水溶液、四氯化硅同时加入到醇水溶液中，四氯化硅发生水解反应；4)过滤、洗涤、干燥、煅烧，得到二氧化硅。本发明具有以下有益效果：在碱催化成核过程中，大基团的醇类溶剂通过位阻效应，减慢四氯化硅形成介稳过渡态的速率。四氯化硅水解成核的位点相应减少，更多的硅羟基会自身聚合让颗粒粒径变大，进而提高二氧化硅的粒径。醇类溶剂更容易在洗涤的过程中洗去，不残留在二氧化硅的表面，降低产品的碳含量。本发明的方法工艺流程简单，溶剂无毒无害，原料易得，投资规模小。
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公开(公告)号：CN115838175A
公开(公告)日：2023-03-24
申请号：CN202211362206.X
申请日：2022-11-02
Applicant: 新特能源股份有限公司 , 新特硅基新材料有限公司
IPC: C01B33/107
Abstract: 本发明提供一种去除氯硅烷中碳杂质的方法及系统，方法包括：将多晶硅生产过程中的含碳氯硅烷与还原尾气混合，以使二者中的物料进行反应，对反应后的混合物料进行冷凝，以使反应后的混合物料中的氯硅烷冷凝成液体，对冷凝产生的气体进行吸附，以去除其中的甲烷，对冷凝产生的液体进行精馏，以去除其中的甲基三氯硅烷。本发明在不需要催化剂和/或原料浓缩的前提下，利用还原尾气余热促进甲基二氯硅烷反应的进行，使其转化成更高沸点的甲基三氯硅烷和更低沸点的甲烷气体，不仅技术手段简单、而且能够提高三氯氢硅与甲基氯硅烷杂质的分离效率，降低分离能耗，同时也为还原尾气热能利用提供了新思路。
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公开(公告)号：CN117003245A
公开(公告)日：2023-11-07
申请号：CN202210493824.1
申请日：2022-04-28
Applicant: 新特能源股份有限公司 , 新疆晶硕新材料有限公司
IPC: C01B33/107
Abstract: 本发明提供一种催化裂解含氧硅基高沸物的方法及装置，所述方法为：向反应器中加入高沸物原料、还原剂、还原催化剂进行还原反应，还原反应完成后，将反应后的高沸物原料、氯源、裂解催化剂送入反应器中进行裂解反应；其中，所述还原催化剂为高熵合金粉末；所述裂解催化剂的骨架为多孔材料，所述裂解催化剂的功能基包括酰胺基、氰基、酯基、吡咯、吡唑、吡啶和噻唑中的至少一种。本发明中提供了一种先催化还原后催化裂解的方法，该方法应用于高沸物(尤其是含氧硅基高沸物)的催化裂解时，能明显提高催化转化效率，使催化裂解条件更温和，有效促进了高沸物的绿色循环利用，降低了多晶硅生产的硅耗、氯耗、碱耗及生产成本。
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公开(公告)号：CN107513450B
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201610428486.8
申请日：2016-06-16
Applicant: 新特能源股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种除焦剂、制备除焦剂的系统及制备方法，除焦剂包括：硝酸盐、硫磺、炭粉、铝粉、活性粘土、分散剂、矿粉、铜盐和/或锰盐、强氧化剂及水，除焦剂为粘液状。本发明的除焦剂为具有高温滞留能力的均相粘液，增加了除焦剂的粘液相的表面能，避免了除焦剂的水相在进入锅炉的炉膛(1000～1400℃)内过早汽化，很难到达结焦部位，有效组分过早发生相关化学反应。相对于现有技术，本发明除焦剂的水相能够晚些汽化以及除焦剂的有效组分晚些发生相关化学反应，提高除焦效率。本发明中的除焦剂与焦块作用后，焦块碎化变小，起到预防由于焦块较大而容易在换热管(屏过换热器、高温过热器、高温再热器等)缝隙之间打拱而无法有效脱落。
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公开(公告)号：CN106517094B
公开(公告)日：2019-01-08
申请号：CN201510586054.5
申请日：2015-09-15
Applicant: 新特能源股份有限公司
IPC: C01B3/50 , C01B33/107
Abstract: 本发明公开了一种纯化有含磷杂质的高纯氢或高纯氯硅烷的方法，包括以下步骤：将有含磷杂质的高纯氢加热到500～800℃，所述高纯氢中的含磷杂质与氢气反应生成磷烷，再通过分子筛吸附所述磷烷，得到纯化过的高纯氢。通过将含磷杂质的高纯氢中的含磷杂质通过加热的方法转换成了磷烷，这样各种含磷杂质均还原反应生成了同一种物质磷烷，由于分子筛对通过其中的气体通过孔径的大小进行选择性吸附磷烷，从而提高了对于有含磷杂质的高纯氢中的磷烷的吸附能力，这样就大大提高了经过纯化过的高纯氢的纯度，进而提高了由纯化过的高纯氢作为原料生产出的多晶硅的品质，降低了多晶硅中的杂质含量。
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公开(公告)号：CN104928761B
公开(公告)日：2018-02-23
申请号：CN201410181197.3
申请日：2014-04-30
Applicant: 新特能源股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种硅片母合金的制备方法，该方法为将氯硅烷与第IIIA族元素的三氯化物、第IIIA族元素的氢化物、第VA族元素的三氯化物、第VA族元素氢化物中的一种在还原炉或外延生长炉内，通过氢气进行还原反应制得硅片母合金，其中，第IIIA族元素为硼或铝，第VA族元素为磷或砷。上述方法中的整个反应系统为密闭的系统，且反应原料不需要使用单质硅，避免了传统技术中需要将单质硅加热至熔融，并避免了熔融的硅与石英坩埚大的接触面积，避免了锑在硅里的固溶度较低，且避免了反应原料与空气的接触，减少了产品的缺陷。由于原料未使用单质硅，所以避免了多晶硅生长、拆炉、破碎、包装、转运、装填过程中引入杂质到硅片母合金中。
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公开(公告)号：CN119098170A
公开(公告)日：2024-12-10
申请号：CN202411210483.8
申请日：2024-08-29
Applicant: 新特能源股份有限公司
Abstract: 本发明公开一种催化剂的制备方法，包括：(1)将铜盐溶解后，加入硅源，搅拌均匀，得到溶液A；(2)将沉淀剂溶解，得到溶液B；(3)将去离子水加热至第一温度并维持，开启搅拌，再将溶液A和溶液B同时滴加到去离子水中，形成悬浊液，滴加完成后，将悬浊液进行老化处理；(4)将老化处理后的悬浊液趁热过滤，得到蓝色沉淀，再经洗涤、干燥后，得到催化剂中间体；(5)将催化剂中间体研磨成细粉后进行焙烧，得到催化剂产品。本发明还公开一种上述方法制备的催化剂及其应用。相比于现有技术，本发明制备的催化剂的活性组分分散度高，比表面积大，活性高，制备工艺简单，该催化剂应用于四氯化硅冷氢化反应可以使反应维持较高的转化率。
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