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公开(公告)号：CN118421405A
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202410529518.8
申请日：2024-04-29
申请人： 武汉鼎泽新材料技术有限公司 , 湖北鼎龙控股股份有限公司
IPC分类号： C11D1/14 , C11D1/22 , C11D1/28 , C11D1/26 , C11D1/12 , C11D1/18 , C11D1/37 , C11D3/30 , C11D3/36 , C11D3/20 , C11D3/34 , C11D3/33 , C11D3/60 , H01L21/302 , B08B3/08
摘要： 本发明公开了一种化学机械抛光后清洗组合物，包含：碱性pH调节剂，螯合剂，羟胺化合物，磺酸类表面活性剂，腐蚀抑制剂，余量为水；所述螯合剂的量为0.001wt％～0.005wt％，所述磺酸类表面活性剂的量为0.001wt％～0.008wt％；所述磺酸类表面活性剂包括十二烷基二苯醚二磺酸、牛磺酸、聚氧乙烯醚磺酸、甲基椰油酰基牛磺酸、吡啶类磺酸及其盐中的一种或多种。本发明加入少量的磺酸类表面活性剂，有效的降低了清洗液的表面张力，增强了清洗液在铜表面的润湿性，使清洗液对铜的清洁能力进一步得到了增强，并且可以有效降低螯合剂的使用。
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公开(公告)号：CN118126002A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202410253294.2
申请日：2024-03-06
申请人： 华东理工大学
IPC分类号： C07D307/64 , C11D1/26 , C09K23/12 , C09K23/32 , C09K23/16
摘要： 本发明涉及一种N‑烷基呋喃甲胺磺酸盐及其制备方法与应用，所述N‑烷基呋喃甲胺磺酸盐为呋喃基表面活性剂，该表面活性剂具有良好的表面活性、乳化性、抗钙性，在民用洗涤和工业清洗行业中具有较大的应用潜力。所述N‑烷基呋喃甲胺磺酸盐制备方法的具体步骤如下：首先将糠醛、脂肪胺、硫酸镁混合并进行羰胺化反应；其次用硼氢化钠进行还原反应；最后用氯磺酸进行磺化反应制备得到目标产物，该制备方法反应时间短、反应条件温和。所述N‑烷基呋喃甲胺磺酸盐在民用洗涤和工业清洗中的应用。与现有技术相比，本发明提供的表面活性剂具有良好的表面活性、乳化性、抗钙性，在民用洗涤和工业清洗行业中具有较大的应用潜力。
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公开(公告)号：CN114058447A
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202210046809.2
申请日：2022-01-17
申请人： 杭州安誉科技有限公司
摘要： 本发明属于光电倍增管技术领域，具体涉及一种光电倍增管用光电阴极及其制备方法。本发明提供了一种光电倍增管用光电阴极，以铜铍合金为支撑基板，Be2N3薄膜为光电子反射层，K2CsSb薄膜为光电子发射层，弥补了现有技术中光电阴极材料量子效率低、稳定性差、噪声大的问题。
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公开(公告)号：CN1699530B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200510067628.4
申请日：2005-03-18
申请人： 气体产品与化学公司
IPC分类号： C11D1/26 , G03F7/42 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/32 , G03F7/0048 , G03F7/091 , G03F7/16 , G03F7/168 , G03F7/3021 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40 , G03F7/425
摘要： 将含有一种或多种表面活性剂的处理溶液用于减少半导体器件制造过程中的缺陷数量。在某些实施方案中，当该处理溶液在图案化的光致显影剂层的显影过程中或之后用作冲洗液时，其可减少显影后的缺陷，例如图案损坏或线宽粗糙度。还公开了一种使用本发明的处理溶液，使涂覆了光致抗蚀剂的多个基底上的缺陷数量减少的方法，该缺陷例如为图案损坏和/或线宽粗糙度。
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公开(公告)号：CN1157832A
公开(公告)日：1997-08-27
申请号：CN96121352.3
申请日：1996-12-21
申请人： 花王株式会社
CPC分类号： C08G65/2615 , C08G65/2657 , C08G65/269
摘要： 本发明提供了一种通过将一种烯化氧加聚到一种酯化合物上制备酯的烷氧基化合物的方法，其中，使用含有碱金属或碱土金属的氢氧化物、氧化物、有机酸盐和醇盐的催化剂，和二氧化硅和/或含有元素周期中第1、2、4、13或15族中的至少一种元素(N除外)的二氧化硅作助催化剂，制备所加聚的烯化的摩尔数量分布较窄，未反应的初始物料和副产物的含量低的酯的烷氧基化合物；还提供了一种通过所述方法制备的表面活性剂。
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公开(公告)号：CN118895184A
公开(公告)日：2024-11-05
申请号：CN202410926305.9
申请日：2024-07-11
申请人： 深圳市溢诚电子科技有限公司 , 华为技术有限公司
IPC分类号： C11D1/26 , C11D1/14 , C11D1/37 , C11D3/43 , C11D3/36 , C11D3/20 , C11D3/33 , C11D3/37 , C11D3/60 , B08B3/08 , B08B3/12 , B08B13/00 , H01L21/67
摘要： 本发明公开了一种应用于芯片的除油剂及使用方法，包括以下组分质量浓度：氢氧化钠0.5‑1.5g/L、有机溶剂2‑8g/L、表面活性剂100‑300mg/L、络合剂3‑6g/L、润湿剂1‑3g/L，余量为去离子水。该除油剂可以很好清洗晶圆表面，对指纹印、化学残留物具备优异的清洗能力，且本身不会残留在基材表面，易于水洗，同时对铝基材的微观表面具有微蚀作用提高铝表面的平整度。
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公开(公告)号：CN115997003A
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202180048124.5
申请日：2021-06-08
申请人： 联合利华知识产权控股有限公司
IPC分类号： C11D1/26
摘要： 基于呋喃的表面活性剂在洗涤剂中用于在使用期间降低或防止刺激性的用途。
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公开(公告)号：CN113512470A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN202110345815.3
申请日：2021-03-31
申请人： 杭州安誉科技有限公司
摘要： 本发明属于光电倍增管技术领域，具体涉及一种光电倍增管用光电阴极及其制备方法。本发明提供了一种光电倍增管用光电阴极，以铜铍合金为支撑基板，Be2N3薄膜为光电子反射层，K2CsSb薄膜为光电子发射层，弥补了现有技术中光电阴极材料量子效率低、稳定性差、噪声大的问题。
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公开(公告)号：CN110055139A
公开(公告)日：2019-07-26
申请号：CN201910275650.X
申请日：2019-04-08
申请人： 沧州硕金生物科技有限公司
摘要： 本发明提供一种清洗组合物，属于特种清洗物领域，其包括：(A)通式(1)所示的碘溴代苯丙烯化合物，和(B)通式(2)所示的表面活性剂，以及(C)选自由碱土金属盐组成的至少一种盐剂，以及(D)氯剂；C9H(10-a-b-c)DaIbBrc(1)，有益效果为：所述清洗组合物贮存稳定性较高，对含有大量难溶性加工油成分和/或水溶性加工油成分的污渍具有较高的清洗能力，同时所述清洗组合物对臭氧层破坏或全球变暖的疑虑较少，清洗组合物在处理污物时起泡较少，水锈不易析出，同时兼具漂白、杀菌作用。
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公开(公告)号：CN1699530A
公开(公告)日：2005-11-23
申请号：CN200510067628.4
申请日：2005-03-18
申请人： 气体产品与化学公司
IPC分类号： C11D1/26 , G03F7/42 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/32 , G03F7/0048 , G03F7/091 , G03F7/16 , G03F7/168 , G03F7/3021 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40 , G03F7/425
摘要： 将含有一种或多种表面活性剂的处理溶液用于减少半导体器件制造过程中的缺陷数量。在某些实施方案中，当该处理溶液在图案化的光致显影剂层的显影过程中或之后用作冲洗液时，其可减少显影后的缺陷，例如图案损坏或线宽粗糙度。还公开了一种使用本发明的处理溶液，使涂覆了光致抗蚀剂的多个基底上的缺陷数量减少的方法，该缺陷例如为图案损坏和/或线宽粗糙度。
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