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公开(公告)号：CN118963076A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202410593379.5
申请日：2024-05-14
申请人： 三星SDI株式会社
摘要： 提供一种用于从含金属抗蚀剂移除边珠的组合物以及一种包括使用所述组合物来移除边珠的步骤的形成图案的方法及形成图案的系统。所述用于移除边珠的组合物包括：添加剂，包含选自磷酸、亚磷酸类化合物和次亚磷酸类化合物中的至少一者；羧酸类化合物；以及有机溶剂，其中选自磷酸、亚磷酸类化合物和次亚磷酸类化合物中的所述至少一者对羧酸类化合物的混合重量比为约9:1到约1.2:1。
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公开(公告)号：CN118963063A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202411036476.0
申请日：2024-07-31
申请人： 物元半导体技术(青岛)有限公司
IPC分类号： G03F7/16 , B05B9/04 , B05B15/40 , B05B12/00 , B05B15/55 , G03F7/30 , B01D29/00 , B01D53/26 , B08B3/02
摘要： 本发明设计一种化学品供应系统及控制方法，该系统包括：存储装置、喷洒装置和控制终端；其中，存储装置分别通过第一管路、第二管路和喷洒装置连通，以向喷洒装置供给或回收化学品；第一管路和第二管路中均设有过滤装置；喷洒装置包括化学品腔室、第一阀门、第二阀门和喷嘴；第一阀门设置在化学品腔室内；第一阀门关闭时，将化学品腔室分隔为第一腔室和第二腔室；第二阀门设置在第一腔腔室与第二管路的连接处；控制终端与第一阀门、第二阀门均连接，以控制阀门的开关。本发明通过回收喷洒装置中的化学品减少了非工艺期间的化学品消耗，同时，通过设置冗余的过滤装置确保了过滤的有效性，提高了光刻/显影工艺的稳定性和产品的质量。
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公开(公告)号：CN118963018A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202411051184.4
申请日：2024-07-31
申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1335 , G02F1/1362 , G02F1/1339 , G03F7/16 , G03F7/42
摘要： 本发明实施例公开一种彩膜结构及其制备方法、显示面板，其中，彩膜结构包括交叉设置的黑矩阵结构、滤光结构，黑矩阵结构远离滤光结构的一侧与滤光结构靠近所述黑矩阵结构一侧的距离为滤光结构的厚度的0.5～2倍；黑矩阵结构的厚度大于等于2.5微米并且小于等于6微米；黑矩阵结构的宽度大于等于1微米并且小于等于5微米。其黑矩阵结构远离所述滤光结构的一侧与所述滤光结构靠近所述黑矩阵结构一侧的距离为所述滤光结构的厚度的0.5～2倍，解决了大视角串色现象，并且，黑矩阵结构的厚度大于等于2.5微米并且小于等于6微米，宽度大于等于1微米并且小于等于5微米，兼具细线型和高厚度，提高了开口率和出光度，增强了视觉一致性和色彩表现。
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公开(公告)号：CN118888474A
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202410932606.2
申请日：2019-03-11
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/027 , G03F7/16 , G03F7/38
摘要： 本发明提供一种加热处理装置和加热处理方法。对形成于基板的涂布膜进行加热处理的加热处理装置具有载置部、加热部、环状体、盖体、中央排气部以及控制部，盖体具有外周排气部，外周排气部设置于环状体与盖体的接近部分的外侧，能够取入盖体的外方的氛围气体，其中，该控制部进行控制以进行以下工序：第一加热处理工序，在形成加热处理空间并且在加热处理空间内存在基板且在接近部分的环状体与盖体之间设置有间隙的状态下，一边通过外周排气部进行排气，一边进行基板的加热；以及第二加热处理工序，使中央排气部工作来对加热处理空间内进行排气，并且进行基板的加热。
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公开(公告)号：CN118818898A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202410472528.2
申请日：2024-04-19
申请人： 信越化学工业株式会社
摘要： 提供有机膜形成用组合物、有机膜形成方法和图案形成方法。[课题]提供基板(晶圆)上的成膜性(面内均匀性)和填埋特性优异且抑制了EBR工序时的隆起的有机膜形成用组合物、使用了该组合物的有机膜形成方法和图案形成方法。[解决手段]一种有机膜形成用组合物，其特征在于，其包含有机膜形成用树脂、聚合物和溶剂，所述聚合物包含下述通式(I)所示的结构单元，且包含下述通式(II)所示的结构单元和下述通式(III)所示的结构单元之中的至少一者，前述下述通式(I)所示的结构单元与下述通式(II)所示的结构单元和下述通式(III)所示的结构单元之中的至少一者形成无规共聚物，前述聚合物的氟含有率为5质量％～16质量％。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN118768164A
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202410781857.5
申请日：2024-06-17
申请人： 华虹半导体(无锡)有限公司
摘要： 本申请公开了一种光阻流量的监控方法和监控系统，该系统包括：信息采集转换器，用于获取至少两组流量信息组，每组流量信息组包括光阻流量信息以及获取光阻流量信息的监控时间，该光阻流量信息是传感器监控涂胶机台的每根作业管道进行涂胶作业时得到的信息，光阻流量信息用于指示作业管道在喷涂光阻时的流量；同步服务器，用于获取至少两组作业信息，每组作业信息包括作业时间和作业管道信息，根据监控时间和作业时间得到匹配信息，该匹配信息包括每组流量信息组和其对应的作业管道信息；控制设备，用于根据匹配信息确定是否存在具有流量故障的作业管道。
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公开(公告)号：CN118763028A
公开(公告)日：2024-10-11
申请号：CN202411216026.X
申请日：2024-09-02
申请人： 宁波润华全芯微电子设备有限公司
摘要： 本申请提供了一种用于匀胶显影设备的真空发生器组件及排气方法，其中，真空发生器组件包括：底座；通气口，通气口设置于底座侧面，包括：入气口，入气口设于底座一侧；第一排气口，第一排气口与入气口同侧；第二排气口，第二排气口与入气口另一侧；管道组件，管道组件连通通气口，包括：第一支路，第一支路连接第一排气口；电磁阀组件，电磁阀组件设置于底座上，包括：第一电磁阀，第一电磁阀设置于第一支路；发生器，发生器连接第一支路；其中，当发生器工作时，第二排气口吸入HDMS，当需要快速排出HDMS时，打开第一电磁阀，经过第一支路，通过第一排气口排出HDMS。本发明解决了如何解决HDMS排出不够及时，导致影响生产安全的问题。
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公开(公告)号：CN118707810A
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202411001051.6
申请日：2024-07-25
申请人： 迈睿捷(南京)半导体科技有限公司
发明人： 孙贤贤
摘要： 本发明涉及半导体制造技术领域，公开了一种用于涂胶显影烘烤单元晶圆抬升设计装置，包括导轨安装板和加热座，所述导轨安装板侧壁固定连接有升降导轨，所述顶出组件包括连接套，所述连接套与升降导轨滑动连接，所述连接套一侧侧壁固定连接有第一连接板，所述第一连接板一端固定连接有安装板，所述安装板顶端等角度固定连接有多个顶针。本发明中通过采用电机和滚珠丝杆传动的方式驱动顶出组件，使顶出组件上的顶针可以停在预设行程内的任意位置，且通过设置第一位置感应器和第二位置感应器，使得滑套在运动过程中，超出第一位置感应器和第二位置感应器的位置时，及时作出提示，确保顶出组件使其不超出预设行程，提高了装置的实用性。
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