曝光数据产生装置
    91.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101206408B

    公开(公告)日:2011-05-18

    申请号:CN200710159754.1

    申请日:2007-12-21

    Inventor: 奥山隆志

    CPC classification number: G03F7/70291 G03F7/70508

    Abstract: 本发明提供曝光数据产生装置。所述曝光数据产生装置包括第一存储器、第二存储器和曝光数据存储器。第一存储器按位图格式存储绘图数据,作为用于曝光的第一数据。第二存储器存储第二数据,根据所述第一数据,所述第二数据在列方向的数据单位被转换为各个单元的信息的分辨率单位。曝光数据存储器存储曝光数据,所述曝光数据是通过在每个列单位的对第三数据的脉冲传输而获得的光栅数据。将第二数据重新排列并转换为第三数据,其中,将第二数据在列方向的各个单元的数据排列改变为行方向。所述单元构成根据所述曝光数据进行曝光的数字微镜装置的显示元素。

    描图系统、描图资料修正装置及方法、基板的制造方法

    公开(公告)号:CN101097407B

    公开(公告)日:2011-01-26

    申请号:CN200710112531.X

    申请日:2007-06-20

    Inventor: 三好久司

    Abstract: 本发明提供描图系统、描图资料修正装置及方法、基板的制造方法,从而对应于基板等的被描图体的变形而适当地修正描图位置,形成精度佳的描图图案。在使用DMD等的光调变组件的描图装置中,使用CCD而量测四个对准孔的位置。然后,在维持从基准矩形(Z0)的一对边(TA1、TA2)及一对边(TB1、TB2)算起的距离比(m∶n及M∶N)的情况下,使描图资料的位置坐标,即描图位置相对于变形后的四角形(Z)的一对边(TA1、TA2)及一对边(TB1、TB2)而沿X、Y方向移动。

    短弧型高压放电灯和灯装置

    公开(公告)号:CN1873903B

    公开(公告)日:2010-07-07

    申请号:CN200610082019.0

    申请日:2006-03-31

    CPC classification number: H01J9/326 H01J61/34 H01J61/368 H01J61/86

    Abstract: 本发明提供了一种耐用性得以提高的短弧型高压放电灯以及包括该短弧型高压放电灯的灯装置。玻璃材料进入其中的玻璃材料部分(52A)分别设置在电极轴(5402)的外周表面(5406)和被密封金属箔(56)的弯曲部分(58)之间、电极轴(5402)的两侧上,在玻璃材料部分(52A)、电极轴(5402)的外周表面(5406)和弯曲部分(58)中存在与密封空间(60)连续的间隙(S3)。由玻璃材料部分(52A)面对间隙(S3)的表面(52-1)与弯曲部分(58)形成的角度为钝角(ψ)。换句话说,由玻璃材料部分(52A)面对间隙(S3)的表面(52-1)与被密封金属箔(56)的弯曲部分(58)的表面(5602)形成的角度为钝角(ψ)。

    光源装置
    94.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101048027B

    公开(公告)日:2010-06-23

    申请号:CN200610148626.2

    申请日:2006-11-20

    Abstract: 本发明的课题是提供一种光源装置,该光源装置自动地判断安装在光源装置中的放电灯是否为适当的放电灯,如果是适当的放电灯,则管理放电灯的使用状态以及使用历史。作为解决手段,该光源装置具有:放电灯,其具有灯头(1)以及在该灯头(1)上显示与放电灯有关的灯数据的灯数据显示部(2),该灯头(1)由用圆板状的抵接面(12)封闭了一端面的大直径的圆筒状的基部(11)以及贯通圆板状的抵接面的中央而同轴状地植入设置的小直径的突出部(13)构成;以及灯头座(3),其保持该放电灯的灯头而进行通电,在灯头座(3)上设置了读取灯数据显示部(2)的数据的读取装置。

    投影曝光装置
    95.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101546132A

    公开(公告)日:2009-09-30

    申请号:CN200910117907.5

    申请日:2009-02-23

    Abstract: 本发明提供一种投影曝光装置,该投影曝光装置缩短了伴随基板的更换的遮光体的取出和再设置所需要的时间,并具有对应于多样的遮光区域的简易的遮光体。投影曝光装置(100)向掩膜照射包含紫外线的光线,借助于投影光学系由通过掩膜的光线对涂布了负性光致抗蚀剂的基板进行曝光。该投影曝光装置具有:至少2个用于遮蔽光线的第1遮光体(84);以及使第1遮光体从基板的外侧向基板的中心移动的第1移动部(82、83、86),并且在使第1遮光体向基板的中心移动时,第1遮光体对基板的整个周边部进行遮光。

    曝光装置
    96.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101470357A

    公开(公告)日:2009-07-01

    申请号:CN200810185297.8

    申请日:2008-12-25

    Abstract: 本发明提供一种不需要复杂的结构就能够一边使粘着辊与转印辊接触一边对掩模表面和载物台表面或者工件表面同时进行除尘的曝光装置。对于各曝光部(2、4)内的清洁单元(12),使粘着辊(57、57)突出并旋转自如地枢轴支承在分别与掩模(10)和载物台(8)对置的一侧。这两个粘着辊(57、57)的外周面和平行于该粘着辊地枢轴支承的大径转印辊(58)的外周面彼此接触。进而,Y-Z载物台(40)使粘着辊(57)与掩模(10)接触并对该掩模(10)的表面进行除尘,使粘着辊(57)与载物台(8)的上表面接触并对该载物台(8)的上表面进行除尘。另外,反转装置(9)使吸附基座(30)以旋转轴为中心进行旋转,吸附基座(30)越过水平方向停止在倾斜的位置,在利用清洁单元(13)对工件(W)的表面进行除尘之后,使所述吸附基座(30)朝向水平方向。

    周边曝光装置及其方法
    97.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100501575C

    公开(公告)日:2009-06-17

    申请号:CN200610143731.7

    申请日:2006-11-03

    Abstract: 本发明提供一种周边曝光装置及其方法,该周边曝光装置及其方法可对应于在周边区域的任何位置上形成识别标记,并可使污染基板表面的原因达到最小限度。周边曝光装置具有:紫外线照射单元和照射区域调节遮板机构,照射区域调节遮板机构具有:第一识别标记遮蔽板,其包括对第一识别标记进行遮光的遮蔽部;第一识别标记遮蔽板用的移动装置,其沿着与基板的移动方向相同的方向,且与基板的移动速度同步的速度,使第一识别标记遮蔽板以横穿照射口的方式移动;图案区域遮蔽板,其对与基板的图案区域对应的位置进行遮光;以及图案区域遮蔽板用的移动装置,其使该图案区域遮蔽板对应于基板的周边区域的宽度而在对照射口进行遮光的方向上移动。

    光源装置
    98.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101330789A

    公开(公告)日:2008-12-24

    申请号:CN200810108167.4

    申请日:2008-05-30

    Inventor: 石锅荣彦

    Abstract: 一种并列安装多个放电灯并之亮灯的光源装置,结构简单,可靠性良好,利用IC芯片管理灯信息。在灯的基座上设置IC芯片。在灯的基座的两侧面设置作为连接器的凸状端子和凹状端子。利用通信线连接右端子部和与其对应的左侧端子的相邻端子。在最下端的端子上连接IC芯片。在光源装置上并列安装多个灯,将基座彼此连接后,各个灯的IC芯片与排列端头的基座的端子部连接。将排列端头的基座的端子部与读写装置连接,向IC芯片进行灯信息的读写。光源装置参照IC芯片的灯信息等,判断可否亮灯。在从制造阶段到亮灯结束后的期间内,随时向IC芯片写入灯信息、运输履历信息和亮灯履历信息。

    灯以及光源装置
    99.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101290859A

    公开(公告)日:2008-10-22

    申请号:CN200810091468.0

    申请日:2008-04-17

    Abstract: 本发明提供一种放电灯,其利用IC标签严密地管理放电灯的个别信息,使得能安全点亮。在封入高压气体的灯(1)的发光管(2)的中心轴上且在导电性灯头(4)的端部,隔着绝缘性帽(41)安装IC标签(40)。IC标签(40)上包覆遮蔽部(47),以防止点亮时损害IC标签(40)或噪声进入,但能向IC标签(40)读写信息。将灯(1)输送时受到异常冲击的履历、在异常温度下保管的履历或包装箱已开封的履历等输送信息记录到IC标签(40)中。光源装置参照写入IC标签(40)中的输送信息等判断可否点亮。能够在包括保管输送中或点亮中在内的从制造阶段起直到使用后的所有过程中对放电灯的个别信息进行管理,能始终安全地点亮。

    曝光绘图装置
    100.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101276157A

    公开(公告)日:2008-10-01

    申请号:CN200810088524.5

    申请日:2008-03-27

    CPC classification number: G02B13/143 G03F7/70208 G03F7/70283 G03F7/70291

    Abstract: 本发明的课题是提供一种曝光绘图装置,搭载着少数光源和多个空间光调制组件,确保高的运转率,且可进行温度管理。其解决方式为,曝光绘图装置(100)包括:光源(10),照射紫外线;第一照明光学系统(30),使来自光源的光束形成为平行光;有孔构件(20),设有用于将来自第一照明光学系统的光束分离成矩形的第一光束和矩形的第二光束的第一矩形窗(21)及第二矩形窗(21);第一及第二空间光调制装置(41),将在有孔构件中被分离的第一光束及第二光束进行空间调制;以及投影光学系统(60),将在这些第一及第二空间光调制装置(41)中被空间调制的第一光束和第二光束引导至被曝光体。

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