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公开(公告)号：CN101510506B
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：CN200910004114.2
申请日：2009-02-12
Applicant: 日新离子机器株式会社
Inventor： 日野雅泰
IPC: H01L21/265 , H01J37/317
CPC classification number: H01L21/265 , H01J37/20 , H01J37/304 , H01J37/3171 , H01J2237/20207 , H01J2237/20214 , H01J2237/20228 , H01J2237/20235 , H01J2237/31703
Abstract: 本发明提供了一种离子注入方法及设备。使用离子束的束电流、到基板的剂量、以及被设置为1的基板的扫描次数的初始值，计算基板的扫描速度。如果扫描速度处于范围之内，则将当前的扫描次数和当前的扫描速度分别设置为实际的扫描次数和实际的扫描速度。如果扫描速度高于范围的上限，则中断计算处理。如果扫描速度低于范围的下限，则以1递增扫描次数以计算校正的扫描次数。通过使用校正的扫描次数等等计算校正的扫描速度。重复以上步骤直到校正的扫描速度处于容许的扫描速度范围之内。
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公开(公告)号：CN118571737A
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202311022677.0
申请日：2023-08-14
Applicant: 日新离子机器株式会社
Abstract: 本发明提供离子束引出用电极、离子源和引出电极系统，能够抑制堆积物向引出电极系统的堆积，并且能够消除伴随于此的各种问题。离子束引出用电极具备：第一构件，形成有供离子束通过的离子束通过孔(20h)；第二构件，与第一构件对置配置，并且形成有离子束通过孔(20h)；加热器(50)，至少一部分配置在第一构件与第二构件之间；以及气体阻断构件(60)，阻断气体从离子束通过孔(20h)流动到第一构件与第二构件之间。
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公开(公告)号：CN114188202B
公开(公告)日：2024-05-07
申请号：CN202110715711.7
申请日：2021-06-25
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/20 , H01J37/317
Abstract: 本发明提供一种基板保持装置以及离子注入装置，能够抑制保持基板的支架变形。所述基板保持装置具备：保持基板的支架；与支架接合并规定支架的旋转轴的轴部件；以及支承轴部件的支架支承部件，通过使支架绕规定的旋转轴进行旋转动作而能够在倒伏位置与立起位置之间移动，支架具备：彼此分离地配置在旋转轴上的多个基板支承部件；以及将多个基板支承部件的一端部连结的第一连结部件，轴部件沿着所述旋转轴与各基板支承部件接合。
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公开(公告)号：CN110504148B
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN201811608893.2
申请日：2018-12-27
Applicant: 日新离子机器株式会社
Inventor： 山元徹朗
IPC: H01J37/08 , H01J37/317
Abstract: 本发明提供一种离子源。利用形成有离子束引出用的长孔的碳构件，抑制剥离后的堆积物横跨长孔而致使引出的离子束的束电流量减少。离子源(IS)具有形成有离子束引出用的长孔(H)的碳构件(C)，在长孔(H)的长边形成有切口(E)。
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公开(公告)号：CN116892063A
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202211484201.4
申请日：2022-11-24
Applicant: 日新离子机器株式会社
Abstract: 本发明提供汽化器及具备该汽化器的离子源、含铝蒸汽的生成方法，不利用氢气就能够解决引出电极的绝缘化问题。汽化器(1)具备：坩埚(2)，在内部配置有含铝的固体材料(7)；以及加热器(5)，加热坩埚(2)，坩埚(2)具备：含氯气体导入口(2b)，将含氯气体导入坩埚(2)；以及蒸汽释放口(2a)，向坩埚(2)的外部释放通过加热含氯气体与固体材料(7)的反应生成物而产生的含铝蒸汽。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108735648B
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN201810035985.X
申请日：2018-01-15
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，该静电吸盘具有在处理带有肋的晶片方面最适合的接地销配置。静电吸盘(E)支承在外周部具有环状的肋(R)的带有肋的晶片(W)，该静电吸盘(E)包括与晶片(W)接触的接地销(P)，接地销(P)与肋(R)接触。
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公开(公告)号：CN109516106B
公开(公告)日：2020-11-03
申请号：CN201711143720.3
申请日：2017-11-17
Applicant: 日新离子机器株式会社
Abstract: 本发明提供离子源支承台，能够以稳定的状态使放置在离子源支承台(X)上的离子源(101)成为倒伏姿势。离子源支承台(X)用于放置离子源(101)，所述离子源(101)包括长条状的等离子体生成容器(10)和一对辊(31)，所述一对辊(31)设置于等离子体生成容器(10)的在与长边方向垂直的方向上相对的侧壁(11b)上，离子源支承台(X)包括：一对轨道(5)，在离子源(101)悬吊的状态下，可转动地放置一对辊(31)；以及牵引机构(6)，在一对辊(31)放置在一对轨道(5)上的状态下，将离子源(101)从轨道(5)的一端(A)侧向另一端(B)侧牵引。
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公开(公告)号：CN111755301A
公开(公告)日：2020-10-09
申请号：CN202010166744.6
申请日：2020-03-11
Applicant: 日新离子机器株式会社
Abstract: 本发明涉及一种质量分离器，课题在于可在不使作业变得繁重下进行束路径的清扫等维护。本发明为一种对离子束(IB)进行质量分离的质量分离器(100)，该质量分离器具备：移动机构(30)，用以使属于包围束路径(L)的由磁性体所构成的磁轭(13)的构成要素的位于束路径(L)的上方、下方或侧方的上部磁轭(13a)、下部磁轭(13b)或侧方磁轭(13c、d)的至少任一者，于离子束(IB)的行进中的通常位置(P)与不和通常位置(P)的至少一部分重叠的退避位置(Q)之间移动。
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公开(公告)号：CN111739774A
公开(公告)日：2020-10-02
申请号：CN201911375354.3
申请日：2019-12-27
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/08
Abstract: 本发明提供一种离子源，其抑制由正离子引起的热阴极的电子放出部的损耗。离子源(10)采用如下结构，即，具备：等离子体生成容器(20)；热阴极(30)，配置在等离子体生成容器(20)的外侧并朝向等离子体生成容器内放出电子(e)；以及发射极电源(Ee)，向热阴极(30)施加相对于等离子体生成容器(20)为正的直流电压，其中，离子源(10)具备交叉电场形成元件(40)，该交叉电场形成元件在电子(e)从热阴极(30)的电子放出部(30a)到达等离子体生成容器内所经过的区域中的至少一部分区域(R1)中，在与从电子放出部朝向等离子体生成容器内的方向交叉的交叉方向(D)上形成交叉的交叉电场(E1)。
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公开(公告)号：CN108933076B
公开(公告)日：2020-05-29
申请号：CN201810035138.3
申请日：2018-01-15
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供能够实现装置尺寸的小型化和抑制永磁铁升温两者的等离子体源。等离子体源(1)包括：室(2)，在内部生成等离子体；一对镜像磁铁(m1、m2)，在室(2)的周围沿第一方向(Z)配置；以及勾形磁铁(c)，配置在一对镜像磁铁(m1、m2)之间，勾形磁铁(c)由多个永磁铁(P)构成，所述多个永磁铁(P)在与第一方向(Z)垂直的面内在室(2)的周围隔开间隙(S)配置，所述永磁铁(P)的室一侧的极性与相邻配置的所述永磁铁(P)的极性交替不同，各镜像磁铁(m1、m2)由多个永磁铁(P)构成，所述多个永磁铁(P)在与第一方向(Z)垂直的面内，以室一侧的极性为同极性的方式在室(2)的周围隔开间隙(S)配置，各镜像磁铁(m1、m2)的室一侧的极性不同。
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