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公开(公告)号：CN105575754A
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201510548657.6
申请日：2015-08-31
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J49/20
CPC classification number: H01J49/30 , H01J37/05 , H01J37/1472 , H01J37/3171 , H01J49/20 , H01J2237/055 , H01J2237/31701
Abstract: 本发明提供一种质量分析电磁铁，其能抑制在离子束(IB)的质量分离方向以外的位置因离子束(IB)与分析管(9)的壁面碰撞而附着、堆积的堆积物混入目标物(5)中。质量分析电磁铁(2)具备在内侧区域形成离子束(IB)通道的分析管(9)，使离子束(IB)向规定的方向偏转，利用质量的不同分离包含在离子束(IB)中的离子，在与离子束(IB)的前进方向和离子束(IB)的质量分离方向垂直的方向上，分析管(9)具有遮蔽离子束(IB)的端部的至少一个遮蔽构件(SH)。
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公开(公告)号：CN103928280B
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201310353859.6
申请日：2013-08-14
Applicant: 日新离子机器株式会社
Inventor： 松本武
IPC: H01J37/317 , H01J37/30
CPC classification number: C23C14/48 , C23C14/564 , H01J37/3171 , H01J2237/022 , H01J2237/304
Abstract: 本发明提供能够在清洗离子源内部后在短时间内重新启动离子束的离子注入装置和该离子注入装置的运转方法。所述离子注入装置在进行离子注入处理时，向离子源（IS）内部导入工艺气体，使用由多块电极构成的引出电极系统（2），从离子源（IS）引出带状的离子束（3），向配置在处理室（5）内的基板（4）照射离子束（3），并且在离子注入处理以外时，向离子源（IS）内部导入清洗气体，对该离子源（IS）内部进行清洗，在这样的离子注入装置（IM）中，在清洗结束后重新启动离子束（3）时，在引出电极系统（2）上施加规定电压后，将离子源（IS）的运转参数设定为与作为处理对象的基板（4）的注入配方对应的运转参数。
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公开(公告)号：CN103367084B
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201310110403.7
申请日：2013-04-01
Applicant: 日新离子机器株式会社
Inventor： 希尔顿·F·格拉维斯 , 土肥正二郎 , 本杰明·托马斯·金
IPC: H01J37/05 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/05 , H01J37/1475 , H01J2237/055 , H01J2237/1523 , H01J2237/31701
Abstract: 本发明涉及用于带形离子束的离子束弯曲磁体。本发明提供适合于容纳且弯曲带形离子束的改进的弯曲磁体，所述带形离子束的横截面轮廓具有垂直于弯曲磁体的弯曲平面的主尺寸。离子束弯曲磁体提供了通过磁体的弯曲的路径以用于将带形离子束弯曲，所述带形离子束具有其垂直于磁体的弯曲平面的主横截面尺寸。磁体包括铁磁性轭，所述铁磁性轭围绕束路径且具有由四个成角度的边形成的横截面内轮廓。这些边与通过磁体的带形束的主尺寸成角度，使得轭的内轮廓在带形束的中心中相对宽而在带形束的顶部和底部边缘附近相对窄。靠着轭的内表面的电导体提供了沿轮廓的成角度的边的每单位长度均匀分布的电流，从而在磁体轭内提供了大体上均匀的磁性弯曲场。
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公开(公告)号：CN102376513B
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201110137140.X
申请日：2011-05-24
Applicant: 日新离子机器株式会社
Inventor： 松本武
Abstract: 本发明提供一种离子源电极的清洗方法，可以在构成离子源引出电极系统的电极的广阔区域上高速去除堆积物。代替向离子源(2)的等离子体生成部(4)中导入可电离气体并引出离子束，向构成引出电极系统(10)的第一电极(11)和第二电极(12)之间供给清洗用气体(48)，在将第一电极(11)和第二电极(12)之间的气压保持在高于离子束引出时的气压的状态下，从辉光放电用电源(60)向第一电极(11)和第二电极(12)之间施加电压，在两电极(11)、(12)之间使清洗用气体(48)产生辉光放电(80)。
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公开(公告)号：CN102683144B
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：CN201110306371.9
申请日：2011-10-11
Applicant: 日新离子机器株式会社
Abstract: 本发明提供狭缝电极和具有该狭缝电极的带电粒子束发生装置，当带电粒子束发生装置运转时，使狭缝状开口部的形状难以产生热变形。狭缝电极(1)包括：电极框体(2)，具有开口部(3)；以及多个电极单元(U)，能装拆地安装在电极框体(2)上。各电极单元(U)包括：多根电极棒(5)，并列设置在开口部(3)内；以及一组电极棒支承构件(6)，隔着开口部(3)支承各电极棒(5)的长度方向的端部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102097271B
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201010225325.1
申请日：2010-07-09
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J27/20
CPC classification number: H01J27/022
Abstract: 本发明提供一种反射电极结构件和离子源，能在尽可能增大被溅射面的面积的同时，不仅能简化被溅射构件的安装结构，而且能使反射电极结构件紧凑，并且能提高对从阴极发射出来的电子进行反射的反射效率。反射电极结构件(4)设置在等离子体生成容器(2)内，与阴极(3)相对配置，把电子向阴极(3)一侧反射，其包括：被溅射构件(41)，通过被等离子体溅射，放出规定的离子，具有贯通被溅射面(41A)和被溅射构件背面的贯通孔(411)；以及电极主体(42)，插入被溅射构件(41)的贯通孔(411)中，支承被溅射构件(41)，并且具有通过贯通孔(411)在被溅射面(41A)一侧露出的反射电极面(42X)。
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公开(公告)号：CN103367084A
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201310110403.7
申请日：2013-04-01
Applicant: 日新离子机器株式会社
Inventor： 希尔顿·F·格拉维斯 , 土肥正二郎 , 本杰明·托马斯·金
IPC: H01J37/05 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/05 , H01J37/1475 , H01J2237/055 , H01J2237/1523 , H01J2237/31701
Abstract: 本发明涉及用于带形离子束的离子束弯曲磁体。本发明提供适合于容纳且弯曲带形离子束的改进的弯曲磁体，所述带形离子束的横截面轮廓具有垂直于弯曲磁体的弯曲平面的主尺寸。离子束弯曲磁体提供了通过磁体的弯曲的路径以用于将带形离子束弯曲，所述带形离子束具有其垂直于磁体的弯曲平面的主横截面尺寸。磁体包括铁磁性轭，所述铁磁性轭围绕束路径且具有由四个成角度的边形成的横截面内轮廓。这些边与通过磁体的带形束的主尺寸成角度，使得轭的内轮廓在带形束的中心中相对宽而在带形束的顶部和底部边缘附近相对窄。靠着轭的内表面的电导体提供了沿轮廓的成角度的边的每单位长度均匀分布的电流，从而在磁体轭内提供了大体上均匀的磁性弯曲场。
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公开(公告)号：CN103050359A
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：CN201210394946.1
申请日：2012-10-17
Applicant: 日新离子机器株式会社
Inventor： 小野田正敏
IPC: H01J37/317 , H01L21/67 , H01L21/677 , C23C14/48 , C23C14/56
CPC classification number: H01J37/20 , H01J37/3171 , H01J2237/201 , H01J2237/20221 , H01L21/67213 , H01L21/67712 , H01L21/67718 , H01L21/6776
Abstract: 能束照射系统和工件传输机构。能束照射系统能在将能束有效地照射在工件上的同时实现显著的紧凑构造。能束照射系统包括能束发射机构、第一和第二轨道运动机构。能束发射机构朝预定的照射区域发射能束，以照射作为目标的至少一个第一工件和至少一个第二工件。第一轨道运动机构使所述至少一个第一工件沿预定的第一轨道作轨道运动，第一轨道包括照射区域。第二轨道运动机构使所述至少一个第二工件沿预定的第二轨道作轨道运动，第二轨道包括照射区域。当从垂直于由第一和第二轨道形成的理想轨道运动表面的方向观看时，由第一轨道包围的第一区域和由第二轨道包围的第二区域至少部分地重叠。工件传输机构包括第一和第二轨道运动机构。
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公开(公告)号：CN102655073A
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN201110306186.X
申请日：2011-10-11
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/317 , H01J37/244 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供离子束照射方法和离子束照射装置，在用两台离子束供给装置对基板的上半部分和下半部分进行离子照射的串联式离子束照射装置中，即使在一台离子束供给装置停止或在处理中途异常结束的情况下，也可以对基板的整个面注入所希望的剂量。在进行一个往返的离子束照射处理后，控制基板转动机构，使基板转动180度后，再将基板放入离子束照射装置，对没有完成离子束照射处理的范围进行离子束照射，从而对基板的整个面进行离子束照射。
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公开(公告)号：CN102270557A
公开(公告)日：2011-12-07
申请号：CN201110020842.X
申请日：2011-01-11
Applicant: 日新离子机器株式会社
Inventor： 内藤胜男
IPC: H01J37/317 , H01L21/265 , C03C25/62
Abstract: 本发明提供一种离子注入装置，不用平行化透镜就能实现对玻璃基板的离子注入，其在COO方面优良。本发明的离子注入装置是向玻璃基板(7)照射带状离子束(3)的质量分析型的离子注入装置(1)。在从离子源(2)到质量分析磁铁(4)的离子束(3)的输送路径中，设置有离子束发散部件。离子束发散部件以在由离子束(3)的长边方向(Y方向)与离子束的行进方向(Z方向)构成的平面中，使所述离子束的照射角度大于0度且在根据设计规则设定的容许发散角度以下的方式，使离子束(3)沿其长边方向发散，所述照射角度是引向玻璃基板(7)的垂线与入射到玻璃基板(7)上的离子束(3)所成的角度。
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