公开(公告)号：CN102738447A

公开(公告)日：2012-10-17

申请号：CN201110458152.2

申请日：2011-12-23

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 李星昊 ,  朴成镐 ,  林永昌 ,  李济玩 ,  郑锡宪 ,  崔完旭

IPC: H01M4/139

Abstract: 公开了一种在电极集电体上形成非涂覆部分的连续沉积装置。连续沉积装置包括：第一导向鼓状物，与从拆卷机供应的电极集电体的一个表面接触以对电极集电体进行导向；第一沉积源，与第一导向鼓状物相邻以将电极形成材料喷射到通过第一导向鼓状物的电极集电体上；第一固定遮蔽单元，包括与第一导向鼓状物相邻的第一暴露部，并局部敞开以将电极集电体暴露于电极形成材料；第一移动遮蔽单元，包括第一掩蔽部、设置在第一固定遮蔽单元的下部的另一侧的第二掩蔽部、使第一掩蔽部水平移动的第一驱动部和使第二掩蔽部水平移动的第二驱动部，第一掩蔽部水平移动以遮蔽第一暴露部，第二掩蔽部水平移动并能够与第一掩蔽部布置在同一竖直线上以遮蔽第一暴露部。

公开(公告)号：CN1831185A

公开(公告)日：2006-09-13

申请号：CN200510098036.9

申请日：2005-07-01

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 安宰弘 ,  李星昊 ,  赵源锡

IPC: C23C14/24

Abstract: 一种蒸发源组件及使用该蒸发源组件的蒸镀装置。构成蒸发源组件的外部壳体具有设有导引部且所述导引部的延长线朝向相同位置的遮蔽件(shield)，以规定的角度使构成所述蒸发源组件的蒸发源所具有的喷咀部的通孔倾斜，由此，通过导引从所述各个蒸发源排出的蒸镀物质，使其蒸镀在被蒸镀基板的同一区域，从而形成具有均匀粗糙度且具有均匀厚度的薄膜。

公开(公告)号：CN1800434A

公开(公告)日：2006-07-12

申请号：CN200610000374.9

申请日：2006-01-06

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 黄珉婷 ,  宋官燮 ,  金度根 ,  安宰弘 ,  李星昊

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/54

Abstract: 本发明提供了一种用于控制喷射器的方法。在控制沉积系统中的包括熔罐、引导通路和喷射喷嘴的喷射器的方法中，加热引导通路和喷射喷嘴。在加热引导通路和喷射喷嘴后加热熔罐。此外，在冷却包括熔罐、引导通路和喷射喷嘴的喷射器中，冷却熔罐。在冷却熔罐后，冷却引导通路和喷射喷嘴。这种方法的优点在于通过防止由熔罐中蒸发的沉积材料导致喷射喷嘴形成阻塞或喷溅来提高形成在基底上的有机层的均匀性。

公开(公告)号：CN102465252B

公开(公告)日：2015-01-21

申请号：CN201110115766.0

申请日：2011-04-28

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 李济玩 ,  林永昌 ,  李星昊 ,  朴成镐 ,  崔完旭 ,  郑锡宪

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/56 ,  C23C14/54 ,  C23C14/14 ,  H01M4/04

Abstract: 提供了一种将沉积物质沉积到基片中除未涂覆部分之外的涂覆部分的真空沉积装置和使用该真空沉积装置的真空沉积方法。所述真空沉积装置包括：辊筒，在真空腔内支撑具有涂覆部分和未涂覆部分的基片的连续移动；沉积源，安装在所述辊筒的对立侧以向所述涂覆部分提供沉积物质；掩模，在所述沉积源的开口与所述辊筒之间移动时阻断沉积物质从所述沉积源向所述涂覆部分移动；检测传感器，检测在移动的基片上设置的第一参考点和第二参考点；控制器，根据基于第一参考点和第二参考点计算得出的并且在所述掩模上设置的第三参考点和第四参考点是否分别对应于第一参考点和第二参考点来控制所述基片和所述掩模的移动，以便将沉积物质沉积到所述涂覆部分。

公开(公告)号：CN102644059A

公开(公告)日：2012-08-22

申请号：CN201110347681.5

申请日：2011-11-07

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 林永昌 ,  李济玩 ,  李星昊 ,  朴成镐 ,  崔完旭 ,  郑锡宪

IPC: C23C14/56 ,  C23C16/54 ,  C23C14/04 ,  C23C16/04 ,  H01M4/04 ,  H01M4/139

Abstract: 本发明公开了一种在正或负电极板上形成活性材料层和非涂覆部分的连续沉积装置。该连续沉积装置包括：第一引导鼓，接触从拆卷机供应的电极集电器的第一表面，以支撑电极集电器；第一沉积源，邻近第一引导鼓以将活性材料供应到在第一引导鼓上传递的电极集电器；第一遮蔽单元，遮蔽在第一引导鼓上传递的电极集电器的部分以形成非涂覆部分；第一驱动单元，连接到第一遮蔽单元以使第一遮蔽单元沿第一引导鼓的外表面往复移动；第一引导单元，邻近且连接到第一遮蔽单元以支持第一遮蔽单元的移动；以及第二驱动单元，连接到第一引导单元以使第一引导单元在一方向上水平地往复移动，该方向垂直于通过第一驱动单元移动的第一遮蔽单元的移动方向。

公开(公告)号：CN100373541C

公开(公告)日：2008-03-05

申请号：CN200610000330.6

申请日：2006-01-04

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 韩尚辰 ,  李星昊 ,  许明洙 ,  郑锡宪 ,  宋官燮 ,  康熙哲

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/20 ,  H01L21/683 ,  C23C14/04 ,  C23C16/04

Abstract: 本发明提供一种夹盘组件，包括：荫罩，形成有预定的图案；荫罩框架，支持所述荫罩并具有热辐射和冷却功能；基底，与荫罩对齐并且来自沉积源的沉积材料被沉积在其上；夹盘，将所述基底附在荫罩上，该夹盘包括冷却剂循环管。考虑荫罩的温度优化基底的温度，从而由于热变形导致的对齐误差被最小化。即，防止荫罩本身的温度上升，从而防止由于热膨胀导致的荫罩的变形，提高了基底图案位置的精确度。

公开(公告)号：CN1854332A

公开(公告)日：2006-11-01

申请号：CN200610091638.6

申请日：2006-03-09

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 李星昊 ,  金秀涣 ,  黄珉婷

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/54

CPC classification number: C23C14/243 ,  C23C14/56

Abstract: 一种多真空蒸镀装置及其控制方法。真空蒸镀装置包括多个蒸发源、适合旋转该多个蒸发源的旋转部件和适合在任何时候遮挡所述多个蒸发源中除了一个以外的其它所有蒸发源的涂镀挡板，所述多个蒸发源中的每一个都包括一个壳体、一个设置在所述壳体内的坩锅、在坩锅内的蒸发材料、一个设置在坩锅外部并适合加热和蒸发所述蒸发材料的加热装置、一个适合阻挡由加热装置产生的热向外传递的冷却装置。

公开(公告)号：CN1824829A

公开(公告)日：2006-08-30

申请号：CN200610000429.6

申请日：2006-01-05

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 黄珉婷 ,  李星昊

IPC: C23C14/54 ,  C23C16/52 ,  H01L21/205 ,  H01L51/56 ,  G05D5/02

CPC classification number: C23C14/24 ,  C23C14/042 ,  C23C14/12 ,  C23C14/546

Abstract: 一种测量沉积材料的沉积厚度的方法，包括利用传感器测量从喷射室喷射的材料的沉积率，以及利用采用所测量的沉积率和传感器的使用时间的寿命值作为参数的转化公式计算沉积在基板上的材料的沉积厚度。

公开(公告)号：CN1805119A

公开(公告)日：2006-07-19

申请号：CN200610000330.6

申请日：2006-01-04

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 韩尚辰 ,  李星昊 ,  许明洙 ,  郑锡宪 ,  宋官燮 ,  康熙哲

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/20 ,  H01L21/683 ,  C23C14/04 ,  C23C16/04

Abstract: 本发明提供一种夹盘组件，包括：阴罩，形成有预定的图案；阴罩框架，支持所述阴罩并具有热辐射和冷却功能；基底，与阴罩对齐并且来自沉积源的沉积材料被沉积在其上；夹盘，将所述基底附在阴罩上，该夹盘包括冷却剂循环管。考虑阴罩的温度优化基底的温度，从而由于热变形导致的对齐误差被最小化。即，防止阴罩本身的温度上升，从而防止由于热膨胀导致的阴罩的变形，提高了基底图案位置的精确度。