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公开(公告)号：CN114070977A
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202111215335.1
申请日：2017-02-08
申请人： 东京毅力科创株式会社
摘要： 本发明提供一种基板拍摄装置。抑制设备事故且谋求基板拍摄装置的小型化和低成本化。检查单元(U3)包括：保持台，其构成为保持晶圆(W)而使晶圆(W)旋转；镜构件(430)，其具有反射面(432)，该反射面(432)相对于保持台的旋转轴线倾斜，并且与保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)和背面(Wb)的周缘区域(Wd)相对；照相机，其具有拍摄元件，来自被保持到保持台的晶圆(W)的表面(Wa)的周缘区域(Wd)的光、以及来自被保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)的光被镜构件(430)的反射面(432)反射而成的反射光都经由镜头输入该拍摄元件。
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公开(公告)号：CN107104064A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201710068654.1
申请日：2017-02-08
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H04N7/183 , G01N21/8806 , G01N21/9501 , G01N2021/8812 , G06T7/0004 , G06T2207/30148 , H04N5/2256 , H01L21/67288
摘要： 本发明提供一种基板拍摄装置。抑制设备事故且谋求基板拍摄装置的小型化和低成本化。检查单元(U3)包括：保持台，其构成为保持晶圆(W)而使晶圆(W)旋转；镜构件(430)，其具有反射面(432)，该反射面(432)相对于保持台的旋转轴线倾斜，并且与保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)和背面(Wb)的周缘区域(Wd)相对；照相机，其具有拍摄元件，来自被保持到保持台的晶圆(W)的表面(Wa)的周缘区域(Wd)的光、以及来自被保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)的光被镜构件(430)的反射面(432)反射而成的反射光都经由镜头输入该拍摄元件。
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公开(公告)号：CN1266741C
公开(公告)日：2006-07-26
申请号：CN02817255.8
申请日：2002-07-01
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： H01L21/67253 , B05C5/0216 , B05C5/0291 , B05D1/005 , G03F7/162 , H01L21/6715
摘要： 预先对与制品用基板相同的基板以喷嘴边进行扫描边供给涂布液以形成涂布液的线，对其例如以CCD摄像头进行摄像以求取涂布液的接触角，依据该接触角利用几何模型求取进行实际涂布时的扫描速度下的涂布液喷嘴的喷吐流量与间距容许范围二者的关系数据。并且，预先针对每种目标膜厚制作出涂布液喷嘴的喷吐流量与间距二者的关系数据，依据两者的关系数据确定间距。
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公开(公告)号：CN1421281A
公开(公告)日：2003-06-04
申请号：CN02154348.8
申请日：2002-11-26
申请人： 东京毅力科创株式会社
CPC分类号： H01L21/6715 , B05B13/041 , B05C5/0208 , B05C11/1013
摘要： 一种基片由可沿Y方向自由移动的基片固定部分(23)水平固定，在基片上方设有对着基片的喷嘴部分(5)，喷嘴部分(5)可沿对应于基片上涂层液体供给区域的X方向移动。排出口设在喷嘴部分(5)的下端，在排出口内设有将排出口(54)与连接到喷嘴部分上端的涂层液体输送管(61)相连的管道。在所述管道的中游设有直径大于排出口的液池部分，其内部设有由阻塞所述管道的多孔体构成的过滤件(71)。所述过滤件(71)形成压降部分，使涂层液体输送管中产生的脉动在到达排出口之前被吸收。
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公开(公告)号：CN110783231B
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN201910700630.2
申请日：2019-07-31
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/027 , H01L21/033
摘要： 本发明提供基板处理装置、基板处理方法以及存储介质，在对基板的表面照射处理用的光的基板处理中能够有效地提高基板的表面内的光的照射量的均匀性。基板处理装置(1)具备：光照射部(30)，其向晶圆(W)的表面(Wa)的比处理对象区域(TA)小的照射区域(A1)内照射处理用的光；驱动部(15)，其使照射区域(A1)在沿着晶圆(W)的表面(Wa)的平面内沿彼此交叉的两个方向移动；以及控制器(100)，其控制驱动部(15)，使得照射位置按照移动图案沿两个方向移动，该移动图案是以向处理对象区域(TA)的整个区域照射光的方式设定的图案。
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公开(公告)号：CN109560016B
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN201811119272.8
申请日：2018-09-25
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置能够抑制装置的大型化并且确认基板的周缘部的状态。实施方式所涉及的基板处理装置具备搬入搬出站、交接站、处理站以及摄像单元。搬入搬出站具有将基板从盒取出并且进行搬送的第一搬送装置。交接站与搬入搬出站相邻地配置，具有用于载置由第一搬送装置搬送的基板的基板载置部。处理站与交接站相邻地配置，具有用于将基板从基板载置部取出并进行搬送的第二搬送装置以及用于对由第二搬送装置搬送来的基板进行处理的多个处理单元。摄像单元配置于交接站，用于拍摄基板的上表面和下表面中的一个面的周缘部和基板的端面。
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公开(公告)号：CN115981102A
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202211211170.5
申请日：2022-09-30
申请人： 东京毅力科创株式会社
摘要： 本发明涉及基板处理装置、基板处理方法以及存储介质。使利用了适用于EUV光刻的抗蚀材料的基板在曝光处理时的感光度面内均匀。基板处理装置具备：基板支承部；光源；具有照度计的测量部；遮蔽部，其能够在始终遮挡照射光的向旋转中心照射的部分的第1状态与作为该第1状态以外的状态的第2状态之间转换；和控制部，控制部执行：第1控制，在将遮蔽部设为第2状态的状态下，控制光源，以仅对局部的区域照射照射光；第2控制，基于由照度计测量到的照射光的照度，判断旋转中心处的曝光量是否超过了规定的阈值；第3控制，在判断为旋转中心处的曝光量超过了阈值的情况下，使遮蔽部转换为第1状态；以及第4控制，控制光源，以继续对基板照射照射光。
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公开(公告)号：CN107104064B
公开(公告)日：2021-11-09
申请号：CN201710068654.1
申请日：2017-02-08
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明提供一种基板拍摄装置。抑制设备事故且谋求基板拍摄装置的小型化和低成本化。检查单元(U3)包括：保持台，其构成为保持晶圆(W)而使晶圆(W)旋转；镜构件(430)，其具有反射面(432)，该反射面(432)相对于保持台的旋转轴线倾斜，并且与保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)和背面(Wb)的周缘区域(Wd)相对；照相机，其具有拍摄元件，来自被保持到保持台的晶圆(W)的表面(Wa)的周缘区域(Wd)的光、以及来自被保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)的光被镜构件(430)的反射面(432)反射而成的反射光都经由镜头输入该拍摄元件。
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公开(公告)号：CN102338990B
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201110204680.5
申请日：2011-07-13
申请人： 东京毅力科创株式会社
发明人： 古闲法久
CPC分类号： H01L21/6715 , H01L21/67288
摘要： 本发明提供一种基板处理装置，能够适当地进行周边曝光处理后的基板的检查，并提高包括该检查的基板处理的处理能力。晶片处理装置(42)包括：保持晶片的保持部(120)；使保持部(120)旋转的并使保持部(120)在交接位置(P1)与周边曝光位置(P2)之间移动的驱动部(121)；在周边曝光位置(P2)将晶片(W)的周边部曝光的曝光部(140)；设置于曝光部(140)的上方对晶片(W)摄像的摄像部(150)；和改变形成于被保持部(120)保持的晶片(W)与摄像部(150)之间的光路的方向的方向转换部(153)。方向转换部(153)具有第一反射镜(154)、第二反射镜(155)和第三反射镜(156)，通过第二反射镜(155)和第三反射镜(156)使形成于晶片W与摄像部(150)之间的光路折回。
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