公开(公告)号：CN103633561A

公开(公告)日：2014-03-12

申请号：CN201310363081.7

申请日：2013-08-20

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 稻生耕久 ,  内田护

IPC: H01S5/42

CPC classification number: H01S5/06 ,  G01N21/49 ,  H01S5/0207 ,  H01S5/026 ,  H01S5/18311 ,  H01S5/18341 ,  H01S5/18358 ,  H01S5/18366 ,  H01S5/18369 ,  H01S5/4087 ,  H01S5/423

Abstract: 本发明涉及可变波长表面发射激光器。一种表面发射激光器包括第一激光器以及第二激光器，其中第一激光器和第二激光器中的每一个包括光谐振腔以及半导体层，所述光谐振腔包括一对反射镜，所述半导体层被配置为发射光并且布置在光谐振腔内，光的振荡波长通过使反射镜的位置在半导体层的厚度方向上移位而变化，半导体层由第一激光器和第二激光器共用，第一激光器具有用于以（n+1）阶（n为1或更大的整数）纵模振荡的谐振腔长度，第二激光器具有用于以n阶纵模振荡的谐振腔长度，以及由第一激光器和第二激光器振荡的光的各个波长带不同。

公开(公告)号：CN102208752A

公开(公告)日：2011-10-05

申请号：CN201110102885.2

申请日：2009-07-28

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 井久田光弘 ,  稻生耕久 ,  山口贵子

IPC: H01S5/10 ,  H01S5/183 ,  H01S5/323

CPC classification number: H01S5/18391 ,  H01S5/18311 ,  H01S5/18347 ,  H01S2301/166 ,  H01S2301/176

Abstract: 本发明提供一种表面发射激光器及阵列、其制造方法和光学装置。该表面发射激光器制造方法等减少表面浮雕结构所出现的处理损伤，从而使得能够稳定地提供单横模特性。提供一种包含用于控制上部镜子的发光部分中的反射率的表面浮雕结构的方法，该表面浮雕结构包含阶梯结构，该方法包括：在上部镜子上面或之上，形成包含用于形成台面结构的图案和用于形成阶梯结构的图案的抗蚀剂图案，并执行第一阶段蚀刻，用于蚀刻上部镜子的表面层以确定阶梯结构的水平位置；在执行第一阶段蚀刻之后，形成电流限制结构；以及在形成电流限制结构之后，执行第二阶段蚀刻，用于进一步蚀刻已执行第一阶段蚀刻的区域，以确定阶梯结构的深度位置。

公开(公告)号：CN101038439A

公开(公告)日：2007-09-19

申请号：CN200710088523.6

申请日：2007-03-14

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 伊藤俊树 ,  水谷夏彦 ,  山口贵子 ,  稻生耕久

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L21/00

CPC classification number: G03F7/0755 ,  C07F7/12 ,  C07F7/1804 ,  G03F7/022 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/165

Abstract: 本发明提供一种使用更少数量的步骤形成低缺陷的微粒图案，点阵图案或孔阵图案的光敏硅烷偶联剂，以及使用这种光敏硅烷偶联剂的图案的形成方法，所使用的是含有1，2－萘醌－2－二叠氮基－5－磺酰基或1，2－萘醌－2－二叠氮基－4－磺酰基的光敏硅烷偶联剂。