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公开(公告)号：CN117069634A
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202310548890.9
申请日：2023-05-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , G03F7/00 , G03F7/42 , G03F7/20 , C07D493/08 , C07D333/76 , C07D333/46 , C07D335/12 , C07D327/08 , C07D279/20 , C07D339/08 , C07D335/02 , C07D333/54 , C07D495/10 , C07D309/10 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , C08F20/38 , C08F12/30
Abstract: 本发明涉及新颖锍盐型聚合性单体、高分子光酸产生剂、基础树脂、抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明课题提供溶剂溶解性优良且高感度、对比度及LWR等光刻性能优良同时即使在微细图案形成中亦可抗图案崩坏的抗蚀剂组成物、高分子、单体及图案形成方法。解决手段是式(1)表示锍盐型聚合性单体。#imgabs0#p是1～3的整数。R11是碳数1～20的烃基。Rf表示氟原子、碳数1～6的含氟原子的烷基、烷氧基、硫基。q表示1～4的整数。RALU表示酸不稳定基团。r是1～4的整数。R12是碳数1～20的烃基。s是0～4的整数。t表示0～2的整数。Rf及‑O‑RALU互相键结于相邻碳原子。A‑X‑表示含有聚合性基团A的非亲核性相对离子。
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公开(公告)号：CN116515035A
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN202310062007.5
申请日：2023-01-20
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08F220/30 , C08F220/18 , C08F220/22 , C08F212/14 , C08F220/38 , G03F7/039 , G03F7/004
Abstract: 本发明提供于高能射线下为高感度、高分辨率、高对比度且能形成图案宽的变异(LWR)及图案的面内均匀性(CDU)小的图案的聚合物、抗蚀剂组成物及图案形成方法。一种聚合物，是因曝光而产生酸，且因此酸的作用而改变对于显影液的溶解性的聚合物，其特征为含有下式(A‑1)表示的重复单元、及下式(B‑1)～(B‑4)中的任一者以上表示的重复单元。式中，M‑为非亲核性相对离子，A+为鎓阳离子，n1为1或2的整数，n2为0～2的整数，n3为0～5的整数，n4为0～2的整数，c为0～3的整数。
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公开(公告)号：CN107793337B
公开(公告)日：2020-09-08
申请号：CN201710771096.5
申请日：2017-08-31
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07D327/08 , C07D333/76 , C07D339/08 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。对于改善对比度有效的、含有酸消除性取代基的锍盐，其高度可溶，可均匀分散。包含锍盐作为光致产酸剂的抗蚀剂组合物形成具有高的分辨率、矩形性和降低的LWR的图案。
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公开(公告)号：CN107037690B
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201710055684.9
申请日：2017-01-25
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种高分子化合物、使用有该高分子化合物的负型抗蚀剂组合物及使用有该负型抗蚀剂组合物的图案形成方法，其中所述高分子化合物使用于实现50nm以下的高分辨率、小LER、且缺陷的产生非常少的负型抗蚀剂组合物中。所述高分子化合物含有以下述通式(1)所示的重复单元。[化学式1]
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公开(公告)号：CN105676592B
公开(公告)日：2019-11-15
申请号：CN201510893749.8
申请日：2015-12-08
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供收缩材料，其包括特定的聚合物和含有抗消失性溶剂的溶剂。通过将包含基础树脂和产酸剂的抗蚀剂组合物涂布到基材上以形成抗蚀剂膜、曝光、在有机溶剂显影剂中显影以形成负型抗蚀剂图案、将该收缩材料涂布到该图案上和用有机溶剂将过量的收缩材料除去以由此使该图案中的孔和/或狭缝的尺寸收缩，从而形成图案。
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公开(公告)号：CN109426080A
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201810957182.X
申请日：2018-08-22
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/004 , C08F220/28 , C08F220/20 , C08F220/38 , C07C67/297 , C07C69/54 , C07D493/08 , C07D493/18 , C07D307/00
Abstract: 本发明为单体、聚合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。提供了具有在酸的作用下能够极性转换的取代基的单体和聚合物。包含所述聚合物的抗蚀剂组合物以高分辨率形成不溶于碱性显影剂中并且具有高的耐蚀刻性的负型图案。
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公开(公告)号：CN107793337A
公开(公告)日：2018-03-13
申请号：CN201710771096.5
申请日：2017-08-31
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07D327/08 , C07D333/76 , C07D339/08 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。对于改善对比度有效的、含有酸消除性取代基的锍盐，其高度可溶，可均匀分散。包含锍盐作为光致产酸剂的抗蚀剂组合物形成具有高的分辨率、矩形性和降低的LWR的图案。
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公开(公告)号：CN117683173A
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202311164217.1
申请日：2023-09-11
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08F220/38 , G03F7/004 , G03F7/039 , C08F212/14 , C08F220/18
Abstract: 本发明涉及聚合物、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题是提供：尤其在电子束及波长13.5nm的极紫外线(EUV)中，为高感度、高分辨率、高对比度，且可形成LWR及CDU小的图案，同时蚀刻耐性优良的抗蚀剂组成物中所含有的聚合物、含有该聚合物的抗蚀剂组成物、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种聚合物，其特征在于，含有下式(A‑1)表示的重复单元、及选自下式(B‑1)、(B‑2)、(B‑3)、及(B‑4)中的任意1种以上表示的通过曝光而产生酸的重复单元、及上述式(A‑1)表示的重复单元以外的下式(a‑1)或(a‑2)表示的重复单元。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN115067957A
公开(公告)日：2022-09-20
申请号：CN202210235980.8
申请日：2022-03-11
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及生物体电极、生物体电极的制造方法、及生物体信号的测定方法。本发明为一种生物体电极，其特征为具有：多孔质的伸缩性基材、含有硅的粘着性导电膜、及导电路，该导电膜形成于该多孔质的伸缩性基材的单面，该导电路连接于该导电膜且贯穿该伸缩性基材并露出于相反侧。借此提供生物体信号的感度高，生物相容性优良，为轻量且能以低成本制造，无论被水润湿、干燥、长时间贴附于肌肤，生物体信号的感度仍不会大幅地降低，无肌肤搔痒、红斑、皮疹而为舒适的生物体电极，并提供该生物体电极的制造方法及生物体信号的测定方法。
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公开(公告)号：CN114516787A
公开(公告)日：2022-05-20
申请号：CN202111402270.1
申请日：2021-11-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C43/23 , C07C69/16 , C07C69/712 , C07C49/255 , C07C255/13 , C07C39/11 , C07C49/84 , C07C69/92 , C07C255/54 , C07C69/28 , C07C39/12 , C07C39/27 , C07C49/83 , C07C69/50 , C07F7/08 , H01B1/20 , H01B1/22 , H01B5/14 , H01B13/00
Abstract: 本发明涉及酚化合物、导电性糊剂组成物、导电性糊剂组成物的制造方法、导电配线及其制造方法。本发明是一种酚化合物，其特征为以下列通式(1A)表示。借此，可提供作为重复伸缩的导电性的下降少且印刷加工性优异的导电性糊剂组成物用添加剂的酚化合物、含有该添加剂的导电性糊剂组成物、及使用了该导电性糊剂组成物的导电配线。[化1]
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