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公开(公告)号：CN102471060B
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201080035839.9
申请日：2010-07-26
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C01B13/14 , C01G19/02 , C01G23/053 , C01G25/02 , C09C1/00 , C09C3/06 , C09D7/12 , C09D201/00
CPC classification number: C09D7/1225 , B82Y30/00 , C01B13/363 , C01P2004/61 , C01P2004/64 , C01P2004/84 , C01P2004/88 , C01P2006/22 , C08K3/22 , C08K9/02 , C09C1/3623 , C09C1/3661 , C09C1/3692 , C09C3/006 , C09C3/041 , C09C3/063 , C09C3/12 , C09D7/1266 , C09D7/1291 , C09D7/62 , C09D7/67 , C09D7/70
Abstract: 将作为主成分不含硅及/或铝的氧化物微粒或复合氧化物微粒作为核粒子，将其表面用由含有硅和铝作为主成分的复合氧化物形成的壳进行被覆的核壳型复合氧化物微粒，其中，所述壳所含的硅和铝的含量以氧化物换算基准的重量比计在SiO2/Al2O3＝2.0～30.0的范围内，藉此能够得到表面负电荷量及壳对核的被覆率高、超稳定的核壳型复合氧化物微粒的分散液。
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公开(公告)号：CN104164099A
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201410200714.7
申请日：2014-05-13
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09C1/28 , C09C3/12 , C09C3/06 , C09D183/04 , C09D183/08 , C09D7/12
Abstract: 本发明涉及改性二氧化硅微粒及其制造方法、薄膜形成用的涂布液、带薄膜的基材、以及光电单元。本发明可实现耐候性高的功能性薄膜。为此，使用包含在表面结合有4官能的有机硅化合物的低聚物的二氧化硅微粒的涂布液，来制备薄膜。这里，低聚物是分子量为1000～10000、单体结合后的形态。表面结合有4官能的有机硅化合物的低聚物的二氧化硅微粒的耐酸性高，包含该二氧化硅微粒的薄膜致密、耐候性高。此外，作为涂布液的粘合剂成分，使用4官能的有机硅化合物。构成低聚物的有机硅化合物与粘合剂成分的有机硅化合物可以是相同的化合物，也可以是不同的化合物。特别是使用二氧化硅中空微粒等低折射率的微粒，可制备防反射膜。
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公开(公告)号：CN101397422B
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN200810215004.6
申请日：2008-08-29
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09D7/12 , B01J13/00 , C09D183/04 , G02B1/10
Abstract: 本发明涉及改性氧化锆微粒、带硬涂膜的基材及可形成该硬涂膜的涂布液。改性氧化锆微粒是表面被五氧化锑及/或二氧化硅覆盖的氧化锆微粒，在下述条件下测定该氧化锆微粒的表面电位时，其值在-120～-10mV的范围内，条件(1)：改性氧化锆微粒分散液的固形成分浓度为1重量％，条件(2)：改性氧化锆微粒分散液的pH在2～13的范围内。
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公开(公告)号：CN102433041A
公开(公告)日：2012-05-02
申请号：CN201110286382.5
申请日：2011-09-09
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09D7/12 , C09C1/36 , C09C3/06 , C09D183/04 , C09D175/04
CPC classification number: C01G25/00 , B82Y30/00 , C01G23/00 , C01G23/047 , C01G23/0536 , C01G25/02 , C01P2002/72 , C01P2002/89 , C01P2004/64 , C01P2004/80 , C01P2004/82 , C01P2004/84 , C01P2004/86 , C01P2004/88 , C01P2006/12 , C09C1/3661
Abstract: 本发明涉及含有分散稳定性及透明性高、掺入涂膜时的耐光性及耐候性良好的核壳型无机氧化物微粒的分散液，该微粒由硅和选自铝、锆、锑的1种或2种以上的金属元素的复合氧化物被覆(壳层(c))表面处理粒子的表面而得，该表面处理粒子是以含钛金属氧化物微粒(a)为核粒子、其表面由锆等金属元素的水合物及/或氧化物进行了处理的具有中间层(b)的含钛金属氧化物微粒。
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公开(公告)号：CN1972866B
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN200480043378.4
申请日：2004-07-08
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C01B33/18 , C09C1/28 , C09D201/00 , C09D7/12
CPC classification number: C09C1/3081 , B82Y30/00 , C01B13/363 , C01B33/146 , C01P2004/34 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C08K7/26 , C08K9/06 , C09C1/3045 , C09C1/309 , C09D7/67 , C09D7/68 , C09D7/70 , Y10T428/26 , Y10T428/2984
Abstract: 为了得到低折射率的二氧化硅类微粒，制成外壳内部具有空洞的中空球状二氧化硅类微粒。通过如下操作制备二氧化硅类微粒，即在碱性水溶液中同时加入硅酸盐水溶液及/或酸性硅酸液和碱可溶的无机化合物水溶液配制复合氧化物微粒分散液时，加入电解质盐直至电解质盐的摩尔数(ME)与SiO2的摩尔数(MS)之比(ME/MS)在0.1～10的范围内后，使粒子生长，然后，根据需要在上述复合氧化物微粒分散液中再加入电解质盐，之后加入酸除去至少一部分构成上述复合氧化物微粒的除硅之外的元素而制成。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106366702B
公开(公告)日：2019-06-07
申请号：CN201610687192.7
申请日：2012-12-21
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
CPC classification number: C09D7/62 , C01P2006/22 , C08K9/06 , C09C1/00 , C09C1/0096 , C09C1/02 , C09C1/36 , C09C1/3607 , C09C1/3623 , C09C1/3676 , C09C1/3684 , C09C1/3692 , C09C1/40 , C09C3/006 , C09C3/041 , C09C3/063 , C09C3/10 , C09C3/12 , C09D17/00 , C09D201/00 , Y10T428/2982
Abstract: 本发明的目的是提供一种通过掺入到用于形成涂膜的涂料，与作为涂布涂膜的基质成分的有机硅化合物或树脂的反应性优良，可表现出优良涂膜性能的表面处理微粒。一种低聚物修饰微粒，它是无机氧化物微粒的表面被来源于下式(1)所表示的金属醇盐的低聚物所修饰的低聚物修饰微粒，RnM1(OR')z‑n(1)M1：选自Si、Ti、Zr、Al的1种以上的元素，R、R'：选自碳数1～8的烷基、芳基或者乙烯基的一种以上的基，n：0～(z‑2)的整数，z：M1的价数，其特征在于，该低聚物的聚合度为3以上，且该低聚物的重均分子量在1000～10000的范围内。
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公开(公告)号：CN104011148B
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201280063294.1
申请日：2012-12-21
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09C3/10 , C09C1/00 , C09C1/02 , C09C1/36 , C09C1/40 , C09C3/12 , C09D7/12 , C09D17/00 , C09D201/00
CPC classification number: C09D7/62 , C01P2006/22 , C08K9/06 , C09C1/00 , C09C1/0096 , C09C1/02 , C09C1/36 , C09C1/3607 , C09C1/3623 , C09C1/3676 , C09C1/3684 , C09C1/3692 , C09C1/40 , C09C3/006 , C09C3/041 , C09C3/063 , C09C3/10 , C09C3/12 , C09D17/00 , C09D201/00 , Y10T428/2982
Abstract: 本发明的目的是提供一种通过掺入到用于形成涂膜的涂料，与作为涂布涂膜的基质成分的有机硅化合物或树脂的反应性优良，可表现出优良涂膜性能的表面处理微粒。一种低聚物修饰微粒，它是无机氧化物微粒的表面被来源于下式(1)所表示的金属醇盐的低聚物所修饰的低聚物修饰微粒，RnM1(OR')z‑n(1)M1：选自Si、Ti、Zr、Al的1种以上的元素，R、R'：选自碳数1～8的烷基、芳基或者乙烯基的一种以上的基，n：0～(z‑2)的整数，z：M1的价数，其特征在于，该低聚物的聚合度为3以上，且该低聚物的重均分子量在1000～10000的范围内。
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公开(公告)号：CN102408798B
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：CN201110212725.3
申请日：2011-07-19
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09D133/00 , C09D5/24 , B32B23/08 , B32B27/18
Abstract: 本发明提供导电性无机氧化物微粒的掺入量少的情况下也能够具有高导电性，透明性高，着色以及干涉条纹被抑制，经济性也良好的可形成带透明被膜的基材的透明被膜形成用涂布液。本发明的透明被膜形成用涂布液含有导电性无机氧化物微粒、基质形成成分以及分散介质，所述导电性无机氧化物微粒经以下述式(1)表示的有机硅化合物表面处理而形成，分散介质含有酮类，总固体成分的浓度在1-60质量％的范围内，表面处理了的导电性无机氧化物微粒为非凝聚且高分散，其作为固体成分的浓度在0.01-6质量％的范围内，基质形成成分的固体成分的浓度在0.1-59.4质量％的范围内，获得的透明被膜中导电性无机氧化物微粒能形成为链状结构，Rn-SiX4-n (1)其中，R为碳数1-10的非取代或取代的烃基，相互相同或不同，X：碳数1-4的烷氧基、羟基、卤素、氢、n：0-3的整数。
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公开(公告)号：CN104011148A
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：CN201280063294.1
申请日：2012-12-21
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09C3/10 , C09C1/00 , C09C1/02 , C09C1/36 , C09C1/40 , C09C3/12 , C09D7/12 , C09D17/00 , C09D201/00
CPC classification number: C09D7/62 , C01P2006/22 , C08K9/06 , C09C1/00 , C09C1/0096 , C09C1/02 , C09C1/36 , C09C1/3607 , C09C1/3623 , C09C1/3676 , C09C1/3684 , C09C1/3692 , C09C1/40 , C09C3/006 , C09C3/041 , C09C3/063 , C09C3/10 , C09C3/12 , C09D17/00 , C09D201/00 , Y10T428/2982
Abstract: 本发明的目的是提供一种通过掺入到用于形成涂膜的涂料，与作为涂布涂膜的基质成分的有机硅化合物或树脂的反应性优良，可表现出优良涂膜性能的表面处理微粒。一种低聚物修饰微粒，它是无机氧化物微粒的表面被来源于下式(1)所表示的金属醇盐的低聚物所修饰的低聚物修饰微粒，RnM1(OR')z-n(1)M1：选自Si、Ti、Zr、Al的1种以上的元素，R、R'：选自碳数1～8的烷基、芳基或者乙烯基的一种以上的基，n：0～(z-2)的整数，z：M1的价数，其特征在于，该低聚物的聚合度为3以上，且该低聚物的重均分子量在1000～10000的范围内。
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公开(公告)号：CN102433041B
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201110286382.5
申请日：2011-09-09
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09D7/12 , C09C1/36 , C09C3/06 , C09D183/04 , C09D175/04
CPC classification number: C01G25/00 , B82Y30/00 , C01G23/00 , C01G23/047 , C01G23/0536 , C01G25/02 , C01P2002/72 , C01P2002/89 , C01P2004/64 , C01P2004/80 , C01P2004/82 , C01P2004/84 , C01P2004/86 , C01P2004/88 , C01P2006/12 , C09C1/3661
Abstract: 本发明涉及含有分散稳定性及透明性高、掺入涂膜时的耐光性及耐候性良好的核壳型无机氧化物微粒的分散液，该微粒由硅和选自铝、锆、锑的1种或2种以上的金属元素的复合氧化物被覆(壳层(c))表面处理粒子的表面而得，该表面处理粒子是以含钛金属氧化物微粒(a)为核粒子、其表面由锆等金属元素的水合物及/或氧化物进行了处理的具有中间层(b)的含钛金属氧化物微粒。
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