公开(公告)号：CN116997528A

公开(公告)日：2023-11-03

申请号：CN202280017046.7

申请日：2022-03-30

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 堀夕子 ,  荒金宏忠 ,  村口良

IPC: C01G23/053

Abstract: 本发明涉及一种具有金红石型晶体结构的粒子。粒子的晶粒直径为7nm以上，粒子含有以TiO2换算为90重量％以上的氧化钛并含有以SnO2换算为0.2重量％～10重量％的氧化锡。这样的粒子容易分散在溶剂中，具有高折射率。

公开(公告)号：CN111527047A

公开(公告)日：2020-08-11

申请号：CN201880083856.6

申请日：2018-12-27

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 江上美纪 ,  宫本卓儿 ,  村口良

IPC: C01B33/18 ,  B24D3/00

Abstract: 本发明提供一种在制造中不碎裂、在使用中显现高碎裂性(易碎裂特性)的球状多孔二氧化硅粒子，用于进行精细的研磨的研磨剂、化妆品的磨砂剂等。实现了网眼结构的多孔二氧化硅粒子，其平均粒径为0.5～50μm、孔容为0.5～5.0cm3/g、孔径的众数值为2～50nm、形状系数为0.8～1.0、平均压缩强度为0.1～小于1.0kgf/mm2、以及钠含量为10ppm以下。另外，该多孔二氧化硅粒子通过如下的方法来制造，所述方法包括：分散液制备工序，将非球状二氧化硅粒子分散在水中来制备非球状粒子的分散液；干燥工序，边对该分散液连续地或断续地施加剪切力边维持8～100mPa·s的粘度并投入喷雾干燥机；以及烧成工序，对干燥的二氧化硅粒子进行烧成。

公开(公告)号：CN106029798B

公开(公告)日：2019-06-07

申请号：CN201580008556.8

申请日：2015-02-12

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 二神涉 ,  松田政幸 ,  村口良

IPC: C09D201/00 ,  C09D5/02 ,  C09D7/61

CPC classification number: C09D5/028 ,  C08J7/047 ,  C08J2367/02 ,  C08K3/22 ,  C08K3/2279 ,  C08K3/36 ,  C08K2003/2227 ,  C08K2003/2231 ,  C08K2003/2241 ,  C08K2003/2244 ,  C08K2003/2296 ,  C09D5/006 ,  C09D7/67 ,  C09D7/68 ,  C09D7/70 ,  C09D201/00

Abstract: 本发明的用于形成透明被膜的涂布液中，无机氧化物微粒和树脂乳液分散于含有水和有机溶剂中的至少一种的分散介质中。涂布液的全部固体成分浓度为0.03～70重量％，涂布液中的无机氧化物微粒的浓度(CP)以固体成分计在0.0009～56重量％的范围内，树脂乳液的浓度(CR)以固体成分计在0.006～68重量％的范围内。另外，无机氧化物微粒中所含有的碱金属的固体成分浓度总量以氧化物(Me2O，Me＝Li、Na、K)计在1000ppm以下。即使将该涂布液涂布在基材上之后对基材进行拉伸、或是一边拉伸基材一边进行涂布，也能够不出现斑点、膜不均(海岛结构)地提供表面平坦的具有透明被膜的基材。

公开(公告)号：CN102408798B

公开(公告)日：2016-12-14

申请号：CN201110212725.3

申请日：2011-07-19

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 村口良 ,  松田政幸 ,  平井俊晴 ,  小松通郎 ,  箱嶋夕子

IPC: C09D133/00 ,  C09D5/24 ,  B32B23/08 ,  B32B27/18

Abstract: 本发明提供导电性无机氧化物微粒的掺入量少的情况下也能够具有高导电性，透明性高，着色以及干涉条纹被抑制，经济性也良好的可形成带透明被膜的基材的透明被膜形成用涂布液。本发明的透明被膜形成用涂布液含有导电性无机氧化物微粒、基质形成成分以及分散介质，所述导电性无机氧化物微粒经以下述式(1)表示的有机硅化合物表面处理而形成，分散介质含有酮类，总固体成分的浓度在1-60质量％的范围内，表面处理了的导电性无机氧化物微粒为非凝聚且高分散，其作为固体成分的浓度在0.01-6质量％的范围内，基质形成成分的固体成分的浓度在0.1-59.4质量％的范围内，获得的透明被膜中导电性无机氧化物微粒能形成为链状结构，Rn-SiX4-n (1)其中，R为碳数1-10的非取代或取代的烃基，相互相同或不同，X：碳数1-4的烷氧基、羟基、卤素、氢、n：0-3的整数。

公开(公告)号：CN103922397A

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：CN201310014575.4

申请日：2013-01-15

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 山口纯 ,  松田政幸 ,  村口良

IPC: C01G25/02

Abstract: 本发明提供分散性、流动性优异的改性氧化锆微粒粉末、改性氧化锆微粒分散溶胶及其制造方法，该粉末是经有机硅化合物表面处理的改性氧化锆微粒的粉末，其特征在于，平均二次粒径(DM2)在5～500nm的范围、平均一次粒径(DM1)在5～500nm的范围、平均二次粒径(DM2)与平均一次粒径(DM1)之比(DM2)/(DM1)在1～10的范围。所述有机硅化合物为下式(1)表示的有机硅化合物，该微粒中的有机硅化合物的含量以Rn-SiO(4-n)/2(n为1～3的整数)计为1～50重量%的范围，29Si MAS NMR谱的主峰的半宽度在3～15ppm的范围。Rn-SiX4-n (1)(式中，R为碳数1～10的非取代或取代烃基，可以互相相同或不同。X：碳数1～4的烷氧基、羟基、卤素、氢，n：1～3的整数)。

公开(公告)号：CN102666383B

公开(公告)日：2014-07-09

申请号：CN201080051797.8

申请日：2010-11-15

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 二神涉 ,  箱嶋夕子 ,  松田政幸 ,  村口良

IPC: C01B33/149 ,  B32B9/00 ,  B32B27/00 ,  B32B27/30 ,  C09C1/00 ,  C09C3/12 ,  C09D4/02 ,  C09D7/12 ,  C09D183/04 ,  C09D183/07 ,  C09D201/00

CPC classification number: C09J4/00 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C01B32/16 ,  C01B32/174 ,  C01P2002/50 ,  C01P2004/64 ,  C01P2006/12 ,  C08K3/22 ,  C08K3/36 ,  C08K9/06 ,  C09C1/0081 ,  C09C1/3081 ,  C09D7/62 ,  C09D7/67 ,  C09D183/04

Abstract: 本发明提供一种即使在高浓度下也稳定的、在基质成分中的分散性良好的硅铝溶胶及其制造方法。除去硅铝溶胶中存在的来自制造原料的阳离子(碱金属离子)，同时减少夹杂离子，将表面负电荷量调节在规定范围内，使用由此得到的二氧化硅·氧化铝粒子，使有机硅化合物预先吸附在粒子表面之后进行水解，从而进行表面处理。

公开(公告)号：CN103897470A

公开(公告)日：2014-07-02

申请号：CN201310728112.4

申请日：2013-12-25

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 箱嶋夕子 ,  松田政幸 ,  村口良 ,  平井俊晴

IPC: C09D7/12 ,  B32B33/00

Abstract: 本发明提供了一种附有硬质涂膜的基材，该硬质涂膜具有防粘连性、同时翘曲得以抑制。本发明所涉及的附有硬质涂膜的基材的特征在于，由基材和形成于该基材上的硬质涂膜构成，该硬质涂膜由（i）金属氧化物微粒（A）簇（CL）、（ii）基质成分和（iii）簇形成剂构成，至少一部分簇（CL）以在硬质涂膜表面形成凸部的形式存在，该硬质涂膜具有15～200nm的高度范围内的凸部（H凸）。此外，本发明所涉及的硬质涂膜形成用涂布液的特征在于，包含金属氧化物微粒（A）、基质形成成分、簇形成剂和分散介质，且所述金属氧化物微粒（A）浓度（CA）以固体成分计在0.025～48重量份的范围内，所述基质形成成分的浓度（CM）以固体成分计在1～59.7重量份的范围内，所述簇形成剂的浓度（CCL）以固体成分计在0.0005～6重量％的范围内，总固体成分浓度在1～60重量％的范围内，金属氧化物微粒（A）形成簇（CLP）。

公开(公告)号：CN103666007A

公开(公告)日：2014-03-26

申请号：CN201310428948.2

申请日：2013-09-18

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 箱嶋夕子 ,  松田政幸 ,  村口良

IPC: C09D7/12

Abstract: 本发明提供一种透明被膜形成用涂布液，该透明被膜形成用涂布液用于形成折射率从下层往上层逐渐降低、光透射率、透明性优异、具有防静电·防反射性能的透明被膜。该透明被膜形成用涂布液由表面处理二氧化硅类微粒(A)、表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)、基质形成成分、溶剂构成；表面处理二氧化硅类微粒(A)的平均粒径(DA)在10～200nm的范围内；表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)是2～30个平均粒径(DB)在5～20nm的范围内的金属氧化物粒子连结成链状、该金属氧化物粒子的体积电阻值在10-2～100Ω·cm的范围内的链状导电性粒子，表面处理二氧化硅类微粒(A)的浓度以固体成分计在0.05～35重量％的范围内；表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)的浓度以固体成分计在0.025～25重量％的范围内；基质形成成分的浓度以固体成分计在0.1～42.5重量％的范围内；总固体成分浓度在0.5～50重量％的范围内。

公开(公告)号：CN102533098A

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN201110428362.7

申请日：2011-12-19

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 箱嶋夕子 ,  松田政幸 ,  村口良

IPC: C09D183/00 ,  C09D133/00 ,  C09D7/12 ,  B32B9/04

Abstract: 本发明提供用于形成平坦性高、耐白化性、耐水性、耐化学品性等优良的透明被膜的涂布液及带该透明被膜的基材。透明被膜形成用涂布液是由基质形成成分和金属氧化物微粒和溶剂构成的透明被膜形成用涂布液，其特征在于，含有作为均化剂的平均分子量在5000～30000的范围的丙烯酸-有机硅系树脂，且均化剂的含量以固体成分计在0.001～7.2重量％的范围。带透明被膜的基材由基材和形成于基材上的透明被膜构成，该透明被膜由基质成分和金属氧化物微粒形成，还含有作为均化剂的平均分子量在5000～30000的范围的丙烯酸-有机硅系树脂，该基质成分的含量以固体成分计在20～99.5重量％的范围，该金属氧化物微粒的含量以固体成分计在0.5～80重量％的范围。

公开(公告)号：CN118591507A

公开(公告)日：2024-09-03

申请号：CN202380018292.9

申请日：2023-03-20

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 林彰吾 ,  荒金宏忠 ,  村口良

IPC: C01B33/18 ,  G03F7/004

Abstract: 提供一种粒径小、折射率低、在分散介质中或树脂中的分散性高的中空二氧化硅粒子的分散液及其制造方法。该粒子是中空二氧化硅粒子，所述中空二氧化硅粒子具有：包含硅的外壳、及其内侧的空洞。所述外壳的厚度为3nm～7nm，所述粒子的平均粒径为20nm～55nm，所述粒子的折射率为1.12～1.35，所述粒子的根据Sears测定法计算出的粒子表面的硅烷醇基的数密度为0.5个/nm2～2.5个/nm2。在将包含该粒子的分散液用于抗蚀剂材料的情况下，在形成图案时，实现了高显影性。