一种高性能大尺寸碳靶材的制备方法

    公开(公告)号:CN116254511A

    公开(公告)日:2023-06-13

    申请号:CN202310118418.1

    申请日:2023-02-02

    IPC分类号: C23C14/35 C23C16/26

    摘要: 一种高性能大尺寸碳靶材的制备方法,所述碳靶材以高纯甲烷气体为碳源气体,氮气和氢气为稀释气体和载气,采用化学气相沉积法进行制备;首先,使碳靶材在底部沿水平方向生长1‑5mm,然后,改变气体流型使碳靶材沿垂直方向生长5‑10mm,接着,再在顶部使碳靶材沿水平方向生长1‑5mm,获得两种生长方向的大尺寸碳靶坯,最后,使用机加工的方式将底部及顶部1‑5mm厚沿水平方向生长的碳去除,获得直径≥400mm,厚度5‑10mm,密度≥2.1g/cm3,纯度≥5N的高性能大尺寸碳靶材;该方法与现有技术相比,具有以下优点:(1)可获得大尺寸碳靶材;(2)工艺简单、提高生产效率:(3)靶材密度高。

    一种靶材调平装置
    15.
    实用新型

    公开(公告)号:CN221046978U

    公开(公告)日:2024-05-31

    申请号:CN202322564655.9

    申请日:2023-09-21

    摘要: 本实用新型公开了一种靶材调平装置,包括调平上模具和调平下模具,调平上模具包括底板和设置于底板下表面的凸台;调平下模具上设置有靶材放置槽,靶材放置槽中还设置有调平凹槽,调平凹槽的位置与凸台相对应且尺寸大于凸台的尺寸;靶材放置槽和调平凹槽下方的调平下模具中均设置有加热组件。调平时,压调平上模具,凸台向下压迫位于调平凹槽上的靶材,使靶材平面度压过量,从而能够抵消一部分压平后的回弹变形,进而得到平面度更好的靶材。此外,调平下模具中均设置有多个加热通道,加热通道内设置有加热装置,可以对靶材适当加热,可以减少一部分残余应力,使靶材调平更容易,同时减少调平后的变形回弹情况。

    一种团簇结构的高纯微纳钨粉的制备方法

    公开(公告)号:CN112935271A

    公开(公告)日:2021-06-11

    申请号:CN202110118432.2

    申请日:2021-01-28

    IPC分类号: B22F9/22 B82Y40/00 B82Y30/00

    摘要: 本发明公开了一种团簇结构的高纯微纳钨粉的制备方法,其包括:(a)以高纯度的仲钨酸铵为初始原料,将其溶解于低浓度氨水中得到钨酸铵溶液;(b)向上述得到钨酸铵溶液中加入表面活性剂,接着加入盐酸,经中和结晶得到钨酸铵前驱体;(c)将上述得到的钨酸铵前驱体煅烧得到泡沫状氧化钨;(d)氢气还原处理泡沫状氧化钨得到高纯微纳钨粉。本发明的制备方法所用的原料成本低,流动性好,工艺简单,制备的高纯微纳钨粉为团簇结构,纯度高于99.999%,与现有技术相比,所制备的高纯微纳钨粉的粒径尺寸显著更小,氧含量显著更低,能够满足微电子领域高端使用要求。