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公开(公告)号：CN102348828A
公开(公告)日：2012-02-08
申请号：CN201080011271.7
申请日：2010-04-14
申请人： 株式会社神户制钢所
CPC分类号： C23C14/325 , C23C14/54 , H01J37/32055 , H01J37/32669 , H01J37/34 , H01J37/345
摘要： 在电弧式蒸发源中，将磁力线诱导到基板方向而加快成膜速度。其中，具有以包围靶(2)的外周的方式设置，且磁化方向沿着与靶(2)的表面正交的方向而配置的至少一个外周磁体(3)，和配置在靶(2)的背面侧的背面磁体(4)。背面磁体(4)具有非环状的第一永久磁体(4A)，其配置方式为，使其极性与外周磁体3的极性朝向同方向，并且沿着与背面磁体(4)的磁化方向与靶(2)的表面正交的方向而配置。
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公开(公告)号：CN101074474A
公开(公告)日：2007-11-21
申请号：CN200710110147.6
申请日：2005-01-25
申请人： 株式会社神户制钢所
CPC分类号： C23C14/025
摘要： 一种硬质叠层被膜的方法，其特征是采用在同一真空容器内分别装有1台以上都具有磁场外加功能的电弧蒸发源和溅射蒸发源的成膜装置，并通过在含有反应气体的成膜保护气氛中，使电弧蒸发源和溅射蒸发源同时工作，分别使所述层A的成分从电弧蒸发源蒸发、且使所述层B的成分从溅射蒸发源蒸发，同时使基板相对于所述各蒸发源相对移动，进而在基板上交替叠层所述层A和所述层B。
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公开(公告)号：CN1322162C
公开(公告)日：2007-06-20
申请号：CN200410063713.9
申请日：2004-07-07
申请人： 株式会社神户制钢所
IPC分类号： C23C14/24
CPC分类号： H01J37/32055 , C23C14/505 , C23C14/56 , H01J37/32458
摘要： 本发明涉及的真空蒸镀装置包括：真空腔室，在该真空腔室的内外升降自如地设置的杆状的蒸发源，工件支承机构，其支承相对于下降到前述真空腔室内的前述蒸发源而配置成包围该蒸发源的工件(W)。前述真空腔室具有固定腔室部以及移动腔室部，所述移动腔室部相对于前述固定腔室部连结分离自如地设置并且安装了前述工件支承机构。在前述蒸发源上升并退避到前述真空腔室外的状态下，任一方的移动腔室部相对于前述固定腔室部水平移动并连结，进行真空蒸镀处理。通过这样的构成，无需升降下盖并使工件支承机构从真空腔室出入，就能够进行真空蒸镀装置的维护。
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公开(公告)号：CN1576388A
公开(公告)日：2005-02-09
申请号：CN200410063713.9
申请日：2004-07-07
申请人： 株式会社神户制钢所
IPC分类号： C23C14/24
CPC分类号： H01J37/32055 , C23C14/505 , C23C14/56 , H01J37/32458
摘要： 本发明涉及的真空蒸镀装置包括：真空腔室，在该真空腔室的内外升降自如地设置的杆状的蒸发源，工件支承机构，其支承相对于下降到前述真空腔室内的前述蒸发源而配置成包围该蒸发源的工件(W)。前述真空腔室具有固定腔室部以及移动腔室部，所述移动腔室部相对于前述固定腔室部连结分离自如地设置并且安装了前述工件支承机构。在前述蒸发源上升并退避到前述真空腔室外的状态下，任一方的移动腔室部相对于前述固定腔室部水平移动并连结，进行真空蒸镀处理。通过这样的构成，无需升降下盖并使工件支承机构从真空腔室出入，就能够进行真空蒸镀装置的维护。
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公开(公告)号：CN104769151A
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201380059564.6
申请日：2013-11-13
申请人： 株式会社神户制钢所
发明人： 藤井博文
CPC分类号： C23C14/243 , C23C14/0641 , C23C14/24 , C23C14/32 , C23C14/352 , C23C14/505
摘要： 提供一种对基材（W）的表面进行PVD处理而形成被膜、并且能够提高其厚度的均匀性的成膜装置（1）。该装置具备收容基材（W）的真空腔室（2）、设在其内壁面上的多个蒸发源、和一边支承多个基材（W）一边使上述基材（W）在真空腔室（2）内移动的基材支承部件（3）。多个蒸发源配置为在沿着台旋转中心轴的方向上排列，包括第1蒸发源和在其内侧相邻的第2蒸发源（4b、4c），所述第1蒸发源是与基材（W）的两端侧对置的蒸发源（4a、4d）中的至少一方。第1蒸发源配置为，比第2蒸发源更向基材（W）侧突出。
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公开(公告)号：CN104685096A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201380053125.4
申请日：2013-09-06
申请人： 株式会社神户制钢所
发明人： 藤井博文
IPC分类号： C23C14/32
CPC分类号： C23C14/325 , C23C14/3407 , C23C14/564 , H01J37/34 , H01J37/3497
摘要： 提供一种在可靠地抑制靶极的偏差消耗的同时进行PVD处理的方法和装置。PVD处理方法包含：通过在真空腔室（2）内的阳极（3）与阴极（4）之间产生放电而使阴极（4）蒸发，来进行PVD处理；当进行PVD处理时，使冷却介质在形成于阳极（3）和阴极（4）中的冷却对象电极的冷却流路中流通，对该冷却对象电极进行冷却，并且切换该冷却介质的流通方向以使其反转。
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公开(公告)号：CN104651794A
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：CN201410656005.X
申请日：2014-11-18
申请人： 株式会社神户制钢所
发明人： 藤井博文
IPC分类号： C23C14/50
CPC分类号： C23C14/505
摘要： 本发明的成膜装置的旋转工作台单元具备旋转工作台和拆装自如地安装在旋转工作台上的第1更换单元及第2更换单元。载置在第2更换单元上的工件的直径与载置在第1更换单元上的工件的直径不同。为了将不同大小的工件与靶的距离维持为一定，将载置在第1更换单元上的工件的对置于靶射出面的位置与旋转工作台的旋转中心的距离设定为，与载置在第2更换单元上的工件的对置于靶射出面的位置与上述旋转中心的距离相同。
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公开(公告)号：CN1952205B
公开(公告)日：2010-06-02
申请号：CN200610131894.3
申请日：2006-10-17
申请人： 株式会社神户制钢所
CPC分类号： C23C14/325 , H01J37/32055 , H01J37/3266 , H01J37/32761 , H01J2237/0206
摘要： 一种电弧离子镀设备包括：真空室、用于使基质在真空室内垂直于其高度方向进行移动的旋转台、用于通过金属离子清洁基质表面的用于进行轰击的电弧蒸发源和用于在所述基质表面上沉积金属离子的沉积组电弧蒸发源。所述沉积组电弧蒸发源包括相对于被设定在所述旋转台上的所述基质进行布置的多个蒸发源，且所述用于进行轰击的电弧蒸发源相对于所述基质进行布置，并且成形以使得其在真空室高度方向上的长度等于沉积组电弧蒸发源的上端和下端之间的长度。根据这种结构，在进行轰击时几乎不能在基质中产生温度过度升高或在基质上发生异常放电，由此导致工艺可控性得到改进。
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公开(公告)号：CN101254673A
公开(公告)日：2008-09-03
申请号：CN200810081818.5
申请日：2005-01-25
申请人： 株式会社神户制钢所
CPC分类号： C23C14/025
摘要： 一种硬质叠层被膜，以层A和层B的组成不相同的方式，交替叠层由特定组成构成的层A和层B。每层的层A的厚度是每层的层B的厚度的2倍以上，而且，每层的层B的厚度在0.5nm以上，每层的层A的厚度在200nm以下。由此，本发明提供一种能够用于以超硬合金、金属陶瓷或高速工具钢等为基材的切削工具，或者汽车用滑动部件等的耐磨损性被膜。
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公开(公告)号：CN101096750A
公开(公告)日：2008-01-02
申请号：CN200710126292.3
申请日：2007-06-29
申请人： 株式会社神户制钢所
IPC分类号： C23C14/24
CPC分类号： C23C14/3407 , H01J37/342 , H01J37/3423 , Y10T428/13 , Y10T428/1303 , Y10T428/1352 , Y10T428/1359 , Y10T428/139
摘要： 本发明是一种在筒状基材的外周面上包覆蒸发材料而成的PVD用筒状靶材，基材和蒸发材料的边界部具有由将角部倒圆而形成的凸状和凹状中的至少一种形状构成的啮合部。根据该方案，能抑制因基材和蒸发材料的热膨胀差异而在两材料的边界部产生的残余应力引起的蒸发材料的剥离或裂纹的产生，并且能确保两材料足够的紧贴性。
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