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公开(公告)号：CN114967354A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202110295488.5
申请日：2021-03-19
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 奥山隆志
IPC: G03F7/20
Abstract: 提供曝光装置和曝光方法，即使在狭小的区域中也能够高精度地检测曝光位置。曝光装置(10)具有遮光部(40)，该遮光部(40)设置有沿着主扫描方向(X)排列的第1缝隙(SU1)和第2缝隙(SU2)，该曝光装置(10)使配置有正方形状的子图案(PT1～PT5)的X型的离散的位置检测图案(PT)的光相对于遮光部(40)的第1、第2缝隙(SU1、SU2)沿着主扫描方向(X)进行扫描。
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公开(公告)号：CN106873311B
公开(公告)日：2020-09-04
申请号：CN201610971760.6
申请日：2016-10-28
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 奥山隆志
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光装置用曝光头及曝光装置用投影光学系统，其能够在保持图案像的清晰度的同时，提高吞吐量。在曝光装置中，具备分别由分割镜和引导镜构成的平行平面的组即6个反射镜对的图像分割光学系统(30)将来自DMD(22)的图案像按照DMD(22)的分割区域(DM1～DM6)而分割成6个，以使6个分割图案像(DA1～DA6)沿着主扫描方向X、副扫描方向Y而彼此分开的方式移动投影位置。
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公开(公告)号：CN106873311A
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：CN201610971760.6
申请日：2016-10-28
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 奥山隆志
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光装置用曝光头及曝光装置用投影光学系统，其能够在保持图案像的清晰度的同时，提高吞吐量。在曝光装置中，具备分别由分割镜和引导镜构成的平行平面的组即6个反射镜对的图像分割光学系统(30)将来自DMD(22)的图案像按照DMD(22)的分割区域(DM1～DM6)而分割成6个，以使6个分割图案像(DA1～DA6)沿着主扫描方向X、副扫描方向Y而彼此分开的方式移动投影位置。
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公开(公告)号：CN102385256A
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN201110240580.8
申请日：2011-08-19
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70291 , G03F7/70475
Abstract: 一种曝光装置，能够进行没有曝光不均的重叠曝光，形成高精度的图案。在使曝光区向主扫描方向倾斜的状态下执行重叠曝光动作时，伴随DMD的有效区域的设定来计算曝光间距。由于能够调整曝光间距，因而即使产生曝光条件、曝光装置机构的问题等，也能够成为使曝光点分布均匀分散的分布状态，能够形成没有曝光不均的高精度的图案。
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公开(公告)号：CN101364050A
公开(公告)日：2009-02-11
申请号：CN200810144924.3
申请日：2008-08-07
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70508 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/704
Abstract: 本发明涉及一种光刻系统。该光刻系统具有至少一个空间光调制器、构造成使曝光区域相对于目标对象沿扫描方向运动的扫描机构、多个存储器(第1个至第N个存储器)、数据处理器和曝光控制器。该曝光区域限定为所述空间光调制器的投射区域。所述多个存储器与通过划分所述曝光区域而限定的多个局部曝光区域对应。所述数据处理器根据曝光定时在每个存储器中连续地写入曝光数据，所述曝光控制器基于所述曝光区域的相对位置控制所述多个光调制元件。所述数据处理器在第1存储器中写入新生成的曝光数据，并使存储在第1个至第N－1个存储器中的曝光数据分别移位至第2个至第N个存储器。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101183221A
公开(公告)日：2008-05-21
申请号：CN200710169544.0
申请日：2007-11-09
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 奥山隆志
Abstract: 本发明提供以不使数据转送的规模扩大而进行从控制部朝装置头部的数据转送的装置。多重曝光装置(1)具备在作为基于作为在连续而被复数进行的曝光用中被使用的向量数据的绘制数据而被作成的网格数据的复数的曝光数据中、基于前后曝光数据间的差异而作成差异数据的曝光数据产生部(11)。具备具有在曝光用中被使用的DMD(33)、以及基于差异数据驱动DMD的组件控制部(31)的装置头部(30)。
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公开(公告)号：CN119511639A
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202410247720.1
申请日：2024-03-05
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 奥山隆志
Abstract: 本发明提供曝光装置和曝光方法。对于无掩模曝光装置，能够提供使包括数据转换、数据传输、数据更新等的一系列与曝光相关联的处理相互有效地执行效果的曝光装置。曝光装置(10)具有：栅格转换部(60)；提取部(70)以及曝光部(80)。通过经由栅格存储器(92)，分别独立执行栅格转换部(60)和提取部(70)的数据处理。
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公开(公告)号：CN113448175B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202011336751.2
申请日：2020-11-25
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 奥山隆志
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种曝光装置和曝光方法。能够使曝光点均匀分散的新的多重曝光。在曝光装置(10)中，通过基于下述式(1)的上述间距(P)进行多重曝光动作。通过设定基准曝光点在单位曝光区域内的位置，使曝光点在多个曝光点线之间依次移动，从而使曝光点在主扫描方向(X)和副扫描方向(Y)上分散。其中，将固定的间距间隔设为P，将光调制元件的单位曝光区域设为C，将m设为2以上的整数，将n设为任意的整数，将u设为比m小的整数，将a设为比C小的值，满足P＝(n+u/m)C+a。
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公开(公告)号：CN116819893A
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202211088146.7
申请日：2022-09-07
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供曝光装置和布线图案的制作方法。在半导体封装制造工艺等中，进行能够抑制吞吐量降低的布线的图案化。在FO‑WLP的曝光工艺中，测定配置在临时的基板(B)上的半导体芯片(SC)之间相对于基准位置的位置偏移量。根据区域内布线图案(AD)的形成位置校正，进行针对区域外布线图案(BD)的形成位置的校正和缩放校正，并且生成圆弧状的补充布线图案(CD)。然后，将校正后的区域内布线图案(AD)、区域外布线图案(BD)、生成的圆弧状的补充布线图案(CD)合成为光栅数据。
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公开(公告)号：CN113448175A
公开(公告)日：2021-09-28
申请号：CN202011336751.2
申请日：2020-11-25
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 奥山隆志
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种曝光装置和曝光方法。能够使曝光点均匀分散的新的多重曝光。在曝光装置(10)中，通过基于下述式(1)的上述间距(P)进行多重曝光动作。通过设定基准曝光点在单位曝光区域内的位置，使曝光点在多个曝光点线之间依次移动，从而使曝光点在主扫描方向(X)和副扫描方向(Y)上分散。其中，将固定的间距间隔设为P，将光调制元件的单位曝光区域设为C，将m设为2以上的整数，将n设为任意的整数，将u设为比m小的整数，将a设为比C小的值，满足P＝(n+u/m)C+a。
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