一种可剥离超薄载体铜箔的制备方法

    公开(公告)号:CN114657610A

    公开(公告)日:2022-06-24

    申请号:CN202210311750.5

    申请日:2022-03-28

    摘要: 本发明涉及一种可剥离超薄载体铜箔的制备方法,为5G通信高频高速印制电路板提供关键性材料。本发明的可剥离超薄载体铜箔按照顺序依次为18μm载体铜箔、浸镀金属层、有机阻挡层、剥离层、超薄铜箔层及粗化层,本发明的浸镀金属层能够降低铜面的等电位点,增强载体铜箔与有机层的结合力,满足抗剥离强度的要求;将有机层和金属层共同作为剥离层使用,能够解决单一有机层在电沉积超薄铜箔层时容易引起导电不良、厚度不均匀以及使用前易于脱离载体的问题。本发明所制备的超薄载体铜箔厚度均在5μm左右,且都能成功剥离,表面也无铜粉和剥离层的残留。

    一种PCB化学镀铜生产的一体锁止挂篮

    公开(公告)号:CN112996266B

    公开(公告)日:2022-06-03

    申请号:CN202110180630.1

    申请日:2021-02-08

    IPC分类号: H05K3/18 H05K3/46

    摘要: 本发明提供一种用于PCB化学镀铜生产的一体锁止挂篮,属于多层印制电路制造技术领域。本发明采用一个锁止装置作为固定装置,通过将锁止装置作为挂篮的一部分,利用了锁止装置中传动齿条的移动实现整个装置的锁定/释放状态的切换,在能够提供良好支撑的前提下,同时具有简易的操作方式和广泛的兼容性,能够实现化学镀铜生产效率的提升。该设计与现有的生产设备相比,可以有效的提高生产效率,减少操作流程。

    银盐纳米银复合焊膏及制备方法烧结方法和应用

    公开(公告)号:CN114310038A

    公开(公告)日:2022-04-12

    申请号:CN202210177520.4

    申请日:2022-02-24

    IPC分类号: B23K35/30 B23K35/40

    摘要: 本发明提供一种银盐纳米银复合焊膏及制备方法烧结方法和应用,原料包括表面均匀包裹一层聚乙烯吡咯烷酮的纳米银颗粒、银盐与乙二醇,制备方法包括:S1:使用表面均匀包裹PVP的纳米银颗粒,与乙二醇配制纳米银溶液;S2:研磨银盐,将银盐颗粒加入纳米银溶液,获得银盐及纳米银混合溶液;S3:将银盐及纳米银混合溶液采用机械振荡做均匀混合处理,获得均匀的银盐纳米银复合焊膏;本发明利用乙二醇的还原性,形成还原银盐及纳米银焊膏烧结的协同作用,提高烧结体致密度,减少整个烧结过程中纳米银颗粒的氧化程度,提高了烧结体与基板之间的界面结合力,提高了烧结体的致密度,并降低整体烧结温度,达到烧结体高剪切强度和低孔隙率的要求。

    一种挠性基材表面覆铜箔的制备方法

    公开(公告)号:CN113825315A

    公开(公告)日:2021-12-21

    申请号:CN202111085019.7

    申请日:2021-09-16

    IPC分类号: H05K3/02

    摘要: 本发明公开了一种挠性基材表面覆铜箔的制备方法,属于印制电路制造领域。所述方法为先将挠性基材进行等离子处理,使挠性基材表面产生空洞和极性基团;再将铜箔进行氧化处理,使铜箔形成具有氧基团的粗糙表面;随后将氧化铜箔置于三甲基铝水解产生的甲基铝氧烷中使得甲基铝氧烷吸附在氧化铜箔表面;最后将挠性基材与吸附了甲基铝氧烷的氧化铜箔热压得到复合材料。所述挠性基材表面覆铜箔的方法简单,避免了纯胶的使用,大大降低了最终产品的厚度,符合电子产品轻薄化的趋势;工艺方案中所需设备与现有生产设备兼容,所需生产条件容易达到;得到的复合材料剥离强度高,可达工业应用的标准。

    一种印制电路板的通孔电镀方法

    公开(公告)号:CN110923771B

    公开(公告)日:2021-10-26

    申请号:CN201911294206.9

    申请日:2019-12-16

    摘要: 本发明涉及一种印制电路板的通孔电镀方法,包括以下步骤:使氧化石墨烯接枝γ‑氨乙基氨丙基三甲氧基硅烷,得到产物A;使产物A吸附活性金属离子,得到产物B;使产物B物理吸附到印制电路板通孔孔壁的绝缘基材表面,形成吸附层;通过化学还原过程使吸附层转化为导电层;对具有导电层的通孔孔壁电镀形成金属层。本发明选用氧化石墨烯并接枝γ‑氨乙基氨丙基三甲氧基硅烷,由于接枝界面处形成高密度氧键功能位点,有效提升了对活性金属离子的吸附能力,同时导电层表面的乙二胺基团在电镀过程中能够有效提升对溶液中铜离子的捕捉能力,加速了铜离子的传质作用,有利于孔内铜镀层的加速沉积,从而大幅增强了镀液的均镀能力。

    一种表面增强拉曼基底及其制备方法

    公开(公告)号:CN111289493B

    公开(公告)日:2021-08-06

    申请号:CN202010226998.2

    申请日:2020-03-27

    IPC分类号: G01N21/65 B82Y15/00

    摘要: 本发明属于拉曼检测领域,具体涉及一种基于金属‑介电纳米材料复合结构表面增强拉曼基底及其制备方法。本发明拉曼增强基底通过将具有高Q值的介电微球沉积到单层贵金属纳米颗粒上形成金属‑介电纳米材料复合结构,并结合捕获法,即使用偶联剂将二氧化硅表面官能化,表面接枝官能团的介电微球可以与待测溶液中的目标分子有效结合,在介电微球自组装到单层金纳米颗粒表面构成复合结构,在增强电场定位的强度的同时并使目标分子靠近电磁“热点”,从而获得较强的SERS信号,实现对待测物质的快速高灵敏度的检测。

    一种用于微纳沟槽和盲孔填充的电镀钌镀液及配制方法

    公开(公告)号:CN113106507A

    公开(公告)日:2021-07-13

    申请号:CN202110402994.X

    申请日:2021-04-15

    IPC分类号: C25D3/52 H05K3/42

    摘要: 本发明涉及一种用于微纳沟槽和盲孔填充的电镀钌镀液,属于电子制造技术领域。本发明所提出的一种用于微纳沟槽和盲孔填充的电镀钌镀液中各组分及电镀条件如下:基础电镀液(以钌含量计)2‑10g/L;添加剂A 1‑100mL/L;添加剂B 1‑100mL/L;pH 0.5‑3;电流密度0.1‑2A/dm2;温度50‑80℃;所述基础电镀液由主盐、稳定剂和加速剂组成,所述主盐为钌的可溶性无机酸盐;所述添加剂A为硫酸铈(IV)和表面活性剂混合制成的浓缩液;所述添加剂B包括多巴胺和乙酰丙酮,所述添加剂B还包括还原性物质和吡啶类化合物中的一种或几种。利用本发明公开的镀液所沉积的钌金属可以替代大规模集成电路制造中电镀铜填充微纳沟槽和盲孔所存在的缺陷,有利于提升器件的可靠性。