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公开(公告)号：CN111263971A
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201880034266.4
申请日：2018-06-04
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/317 , C23C14/48
Abstract: 本发明提供一种离子注入系统，其离子源配置成由碘化铝形成离子束。束线总成选择性将离子束输送到终端站，该终端站配置成接受离子束以将铝离子注入到工件中。电弧腔室由碘化铝形成等离子体，其中来自电源部的电弧电流配置成从碘化铝中离解出铝离子。一个或多个引出电极从电弧腔室中引出离子束。共伴氢气源进一步引入共伴氢气以使残余碘化铝与碘化物发生反应，其中从所述系统中排空反应后的残余碘化铝和碘化物。
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公开(公告)号：CN110023533A
公开(公告)日：2019-07-16
申请号：CN201780072343.0
申请日：2017-11-16
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: C23C14/48 , H01J37/317
Abstract: 本发明涉及用于碳离子注入的方法和系统，其包括利用三氟化磷(PF3)作为氧化碳气体的共伴气体，在某些实施方案中，这与镧钨合金离子源组件组合有利地尽量减少阴极306和阴极护罩316的氧化。此外，观察到电弧腔室300内部组件上可接受水平的积碳以及显著减少卤素循环，即减少形成WFx。
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公开(公告)号：CN109716479A
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201780057110.3
申请日：2017-09-27
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/08 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/32862 , C23C14/48 , H01J37/08 , H01J37/3171 , H01J2237/006 , H01J2237/022 , H01J2237/08 , H01J2237/18 , H01J2237/31705
Abstract: 本发明提供一种用于改善离子注入性能的离子源组件和方法。该离子源组件具有离子源腔室，并且源气体供应源向离子源腔室提供分子碳源气体。激发源激发分子碳源气体，形成碳离子和原子碳。引出电极从离子源腔室中引出碳离子，形成离子束。过氧化氢共伴气体供应源向离子源腔室提供过氧化氢共伴气体。过氧化氢共伴气体分解并与原子碳反应，在离子源腔室内形成碳氢化合物。进一步引入惰性气体并使其离子化，以抵消因过氧化氢分解所致的阴极氧化。真空泵除去碳氢化合物，其中减少原子碳的沉积并且延长离子源腔室的使用寿命。
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公开(公告)号：CN108885960A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201780019766.6
申请日：2017-04-04
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
CPC classification number: G21F1/06 , H01J9/32 , H01J27/08 , H01J37/08 , H01J37/3171 , H01J2237/0213 , H01J2237/022 , H01J2237/03 , H01J2237/31701
Abstract: 本发明涉及一种电弧腔室，其包括具有凹进表面的内衬以及具有第一直径的通孔。内衬具有自所述表面朝向围绕通孔的表面向上延伸并且具有第二直径的唇缘。电极具有轴部和头部。轴部具有小于第一直径的第三直径并且穿过主体和通孔并通过环状间隙与内衬电性隔离。头部具有第四直径和第三表面，该第三表面具有自第三表面朝向第二表面向下延伸的电极唇缘。电极唇缘具有介于第二直径与第四直径之间的第五直径。内衬唇缘与电极唇缘之间的间距界定迷宫式密封件并大体上防止污染物进入环状间隙。
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公开(公告)号：CN108701573A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201780004429.X
申请日：2017-01-19
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
Abstract: 一种离子源具有电弧腔室主体的电弧腔室。电极延伸到电弧腔室主体的内部区域中，并且阴极护罩具有呈圆柱形且具有轴向通孔的主体。轴向通孔配置成使电极贯穿其中。主体的第一端和第二端具有相应的第一气体传导限制器和第二气体传导限制器。第一气体传导限制器自主体的外径延伸并且具有U形唇缘。第二气体传导限制器具有用于密封件的凹部，以保护密封件免受腐蚀性气体影响并保持密封件的完整性。气源将气体引入电弧腔室主体。内衬具有配置成使阴极护罩贯穿其中的开口，其中内衬具有凹部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111542909B
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN201980007028.9
申请日：2019-01-22
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/08
Abstract: 本发明提供一种用于离子注入系统的终端，其中该终端具有用于支撑离子源(108)的终端壳体(154)，该离子源配置成形成离子束。该终端壳体内的气体箱(146)具有氢气发生器(144)，该氢气发生器配置成产生用于离子源的氢气。气体箱与终端壳体电隔离并进一步电耦合到离子源。离子源和气体箱通过多个电绝缘体与终端壳体电隔离。多个绝缘支座(156)使终端壳体与大地电隔离。终端电源使终端壳体相对于大地电偏置到终端电势。离子源电源使离子源相对于终端电势电偏置到离子源电势。导电管(148)使气体箱与离子源电耦合。
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公开(公告)号：CN113632197B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202080021940.2
申请日：2020-03-19
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
Abstract: 离子源配置成形成离子束并且具有电弧室，电弧室围封电弧室环境。储集器装置可以配置为推斥极并且向电弧室环境提供液态金属。偏置电源相对于电弧室对储集器装置进行电偏置，以使液态金属在电弧室环境中蒸发形成等离子体。储集器装置具有杯体和封盖，杯体和封盖限定用于液态金属的储集器环境，储集器环境通过封盖中的孔与电弧室环境流体联接。部件从杯体延伸到储集器中并接触液态金属，以通过毛细作用将液态金属朝向电弧室环境馈送。结构、表面积、粗糙度和材料改变毛细作用。该部件可以是延伸到液态金属中的环形圈、杆或管。
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公开(公告)号：CN111263971B
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN201880034266.4
申请日：2018-06-04
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/317 , C23C14/48
Abstract: 本发明提供一种离子注入系统，其离子源配置成由碘化铝形成离子束。束线总成选择性将离子束输送到终端站，该终端站配置成接受离子束以将铝离子注入到工件中。电弧腔室由碘化铝形成等离子体，其中来自电源部的电弧电流配置成从碘化铝中离解出铝离子。一个或多个引出电极从电弧腔室中引出离子束。共伴氢气源进一步引入共伴氢气以使残余碘化铝与碘化物发生反应，其中从所述系统中排空反应后的残余碘化铝和碘化物。
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公开(公告)号：CN108369887B
公开(公告)日：2021-08-31
申请号：CN201780004430.2
申请日：2017-01-19
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/04 , H01J37/063 , H01J37/09 , H01J37/08 , H01J37/05 , H01J37/12 , H01J37/147
Abstract: 一种用于离子注入系统的光学面板，该光学面板包括一对孔径组件。每对孔径组件各自包括第一孔径构件、第二孔径构件以及孔径固件，其中该孔径固件将第一孔径构件固定至第二孔径构件。孔径尖端可以同样固定至第二孔径构件。第一孔径构件、第二孔径构件、孔径尖端和孔径固件中的一个或多个由耐熔金属、钨、钨镧合金、钨钇合金和/或石墨和碳化硅中的一种或多种制成。孔径组件可以限定离子注入系统中的引出电极组件、接地电极组件或其他电极组件。
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公开(公告)号：CN108701573B
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN201780004429.X
申请日：2017-01-19
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
Abstract: 一种离子源具有电弧腔室主体的电弧腔室。电极延伸到电弧腔室主体的内部区域中，并且阴极护罩具有呈圆柱形且具有轴向通孔的主体。轴向通孔配置成使电极贯穿其中。主体的第一端和第二端具有相应的第一气体传导限制器和第二气体传导限制器。第一气体传导限制器自主体的外径延伸并且具有U形唇缘。第二气体传导限制器具有用于密封件的凹部，以保护密封件免受腐蚀性气体影响并保持密封件的完整性。气源将气体引入电弧腔室主体。内衬具有配置成使阴极护罩贯穿其中的开口，其中内衬具有凹部。
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