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公开(公告)号：CN108375878A
公开(公告)日：2018-08-07
申请号：CN201810085762.4
申请日：2018-01-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供：即使含有选自由包含特定元素的无机填料(D1)和碱性填料(D2)组成的组中的1种以上的填料(D)和含聚合性基团的成分、也能抑制在利用光刻法形成经图案化的功能性膜时在非图案部中产生显影残渣的感光性的聚合性组合物、使用该聚合性组合物的固化膜的制造方法、使该聚合性组合物固化而形成的固化膜、使包含前述的无机填料(D1)的聚合性组合物固化而形成的透明绝缘膜、及具有该透明绝缘膜的显示装置。一种感光性的聚合性组合物，其包含选自由包含特定元素的无机填料(D1)和碱性填料(D2)组成的组中的1种以上的填料(D)、和含聚合性基团的成分，所述组合物中，含有特定的含硅树脂(A)。
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公开(公告)号：CN107922733A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201680046226.2
申请日：2016-08-08
Applicant: 东京应化工业株式会社 , JXTG能源株式会社
IPC: C08L79/08 , C08G73/10 , C08K5/3445
Abstract: 本发明提供聚酰亚胺前体组合物、使用该聚酰亚胺前体组合物的聚酰亚胺膜的制造方法、和显示出良好的拉伸强度及断裂伸长率并且包含脂环式聚酰亚胺树脂的永久膜，上述聚酰亚胺前体组合物能够提供显示出良好的拉伸强度及断裂伸长率并且包含脂环式聚酰亚胺树脂的膜。本发明中使用了如下的聚酰亚胺前体组合物，其配合有树脂前体成分(B)、规定结构的咪唑化合物(A)和溶剂(S)，上述树脂前体成分(B)选自单体成分及包含规定结构的脂环式骨架的聚酰胺酸，上述单体成分含有规定结构的芳香族二胺化合物和规定结构的脂环式四甲酸二酐。
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公开(公告)号：CN107129665A
公开(公告)日：2017-09-05
申请号：CN201710104762.X
申请日：2017-02-24
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及固化性树脂组合物。本发明提供敏感度优异、保存时的稳定性优异的固化性树脂组合物、及使用该组合物的阻焊剂形成用固化性树脂组合物、干膜、印刷布线板和层叠结构体。本发明固化性树脂组合物包含(A)固化催化剂成分、(B)碱溶性树脂及(C)热固性树脂，所述(A)固化催化剂成分包含下式(1)表示的化合物和固化促进剂。式(1)中，R1各自独立地表示氢原子或一价有机基团，R2表示可具有取代基的芳香族基团，R3各自独立地表示卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酸盐/酯基、或有机基团，n表示0～3的整数，所述R1可与另一个R1或R2键合形成环状结构。
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公开(公告)号：CN103797418A
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN201280040593.3
申请日：2012-06-15
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/027 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C09B23/143 , G02B5/223 , G03F7/0002 , G03F7/0007 , G03F7/032 , G03F7/033 , G03F7/035 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/085 , G03F7/105
Abstract: 本发明提供能够以低曝光量形成密合性优异的图案的负型感光性树脂组合物、使用该负型感光性树脂组合物的图案形成方法、使用该负型感光性树脂组合物而形成的固化膜、绝缘膜及滤色器、以及具备该固化膜、绝缘膜或滤色器的显示装置。本发明的负型感光性树脂组合物含有下述式（1）所示的化合物。式中，R1和R2分别独立地表示氢原子或有机基团，R1和R2中的至少一方表示有机基团。对于R1和R2，它们可以键合而形成环状结构，也可以包含杂原子的键。R3表示单键或有机基团。R4～R9分别独立地表示氢原子、有机基团等，但是，R6和R7不为羟基。R10表示氢原子或有机基团。
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公开(公告)号：CN110007557B
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN201811490726.2
申请日：2018-12-06
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供能容易地形成荧光效率良好的光学膜的包含量子点(B)的固化性组合物、由该固化性组合物的固化物形成的膜、由该膜形成的发光显示元件用光学膜、包含该光学膜的发光显示元件面板、和具备该发光显示元件面板的发光显示装置。本发明的解决手段为：使含有具有2个以上环氧基且包含氧杂环丙烷环以外的环式结构的环氧化合物(A)、量子点(B)、和产酸剂(C)的固化性组合物固化来制造膜。
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公开(公告)号：CN111108099B
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN201880061422.6
申请日：2018-09-26
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社大赛璐
IPC: C07D233/60 , C08G59/52
Abstract: 提供适合用作环氧固化催化剂的新型化合物、使用了该化合物的环氧固化催化剂、以及该化合物的制造方法。提供由下述式(1)表示的化合物。下述式(1)中，Xm+表示m价的抗衡阳离子，R1表示可具有取代基的芳香族基团，R2表示可具有取代基的亚烷基，R3表示卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、磺酸酯基、膦基、氧膦基、膦酸酯基、或有机基团，m表示1以上的整数，n表示0以上且3以下的整数，R2可与R1进行键合而形成环状结构。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN116601108A
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202180085571.8
申请日：2021-11-30
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: B82Y30/00
Abstract: 本发明提供金属氧化物膜形成性组合物、使用其的金属氧化物膜的制造方法、及使金属氧化物膜的体积收缩率降低的方法，所述金属氧化物膜形成性组合物提供在400℃以下的加热时体积收缩被抑制的金属氧化物膜。本发明涉及的金属氧化物膜形成性组合物含有金属氧化物纳米团簇、封盖剂、基材和溶剂，前述金属氧化物纳米团簇的尺寸为5nm以下，前述封盖剂包含选自由烷氧基硅烷、酚、醇、羧酸及羧酰卤组成的组中的至少一种，在前述金属氧化物膜形成性组合物的固态成分中，无机成分质量相对于无机成分质量与有机成分质量的合计而言的比例为25质量％以上。
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公开(公告)号：CN107229185B
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN201710184709.5
申请日：2017-03-24
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明涉及能量敏感性组合物、固化物及固化物的制造方法。本发明的课题在于提供热重量稳定性优异的能量敏感性组合物、以及使其固化而得到的固化物及固化物的制造方法。本发明提供一种能量敏感性组合物，其包含选自下述组中的至少1种化合物成分(P)、和(Q)式(a1)表示的锍盐，所述组由(P1)基于阳离子性及/或酸催化性方式的聚合性以及/或者交联性化合物、(P2)在酸的作用下在显影液中的溶解性增大的化合物、和(Px)自由基聚合性或交联性的化合物构成。
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公开(公告)号：CN106019862B
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN201610186764.3
申请日：2016-03-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种抑制迁移或基板、布线的表面氧化的效果优异的光刻用显影液及抗蚀图案形成方法。本发明的解决手段为一种光刻用显影液，所述光刻用显影液含有(A)下述通式(1)表示的咪唑化合物和(B)水及/或有机溶剂。式(1)中，R1为氢原子或烷基，R2为可以具有取代基的芳香族基，R3为可以具有取代基的亚烷基，R4各自独立地为卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酸盐/酯基、或有机基团，n为0～3的整数。
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公开(公告)号：CN106256872B
公开(公告)日：2021-01-12
申请号：CN201610431454.3
申请日：2016-06-16
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C09K13/00 , H01L21/308 , G02F1/1362
Abstract: 本发明涉及蚀刻组合物及传导膜的制造方法。本发明的课题在于提供可抑制基板表面的铜等的腐蚀的蚀刻组合物、及使用该蚀刻组合物的传导膜的制造方法。本发明的蚀刻组合物含有氧化剂、水、及下述通式(1a)表示的腐蚀抑制剂。式(1a)中，R各自独立地表示氢原子或1价的有机基团，R2表示可以具有取代基的芳香族基，R4各自独立地表示卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酸盐/酯基、或有机基团，n表示0～3的整数。上述R可以与另一个R或R2键合而形成环状结构。
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