单斜相Ga2S3单晶的物理气相生长方法及生长装置

    公开(公告)号:CN112663135B

    公开(公告)日:2023-09-08

    申请号:CN202011377984.7

    申请日:2020-11-30

    Abstract: 本申请公开了一种单斜相Ga2S3单晶的物理气相生长方法及其生长装置。单斜相Ga2S3单晶的物理气相生长方法,包括以下步骤:将含有Ga2S3多晶原料和单斜相Ga2S3籽晶的真空密闭容器在温度梯度区内进行加热恒温;晶体生长后降温,得到所述单斜相Ga2S3晶体;所述Ga2S3多晶原料位于高温区;所述单斜相Ga2S3籽晶位于低温区。该生长方法操作简单,且经济实用,得到了能够符合实用要求的厘米级高质量大尺寸单斜相Ga2S3,且在紫外可见近红外光区域透过率高。

    单斜相Ga2S3单晶的物理气相生长方法及生长装置

    公开(公告)号:CN112663135A

    公开(公告)日:2021-04-16

    申请号:CN202011377984.7

    申请日:2020-11-30

    Abstract: 本申请公开了一种单斜相Ga2S3单晶的物理气相生长方法及其生长装置。单斜相Ga2S3单晶的物理气相生长方法,包括以下步骤:将含有Ga2S3多晶原料和单斜相Ga2S3籽晶的真空密闭容器在温度梯度区内进行加热恒温;晶体生长后降温,得到所述单斜相Ga2S3晶体;所述Ga2S3多晶原料位于高温区;所述单斜相Ga2S3籽晶位于低温区。该生长方法操作简单,且经济实用,得到了能够符合实用要求的厘米级高质量大尺寸单斜相Ga2S3,且在紫外可见近红外光区域透过率高。

    单斜相Ga2S3晶体的气相生长方法、晶体生长装置

    公开(公告)号:CN112522789A

    公开(公告)日:2021-03-19

    申请号:CN202011377983.2

    申请日:2020-11-30

    Abstract: 本申请公开了一种单斜相Ga2S3晶体的气相生长方法,包括以下步骤:将含有Ga2S3多晶原料、传输剂和单斜相Ga2S3籽晶的真空密闭容器在温度梯度区内进行加热恒温;晶体生长后降温,得到所述单斜相Ga2S3晶体。该并公开了一种晶体生长装置。本发明采用封闭式化学气相沉积法进行晶体生长,并调整生长过程中的温度等参数,从而得到了能够符合实用要求的厘米级的高质量单斜相Ga2S3晶体,且在紫外可见近红外光区域透过率可达80%以上。该技术具有操作简单,经济,安全和环境友好等优势。

    一种化合物及其合成方法与应用

    公开(公告)号:CN105129753A

    公开(公告)日:2015-12-09

    申请号:CN201510381418.6

    申请日:2015-07-02

    Abstract: 本发明提供一种化合物及其合成方法与应用。该化合物含有[Ga3PQ8]n2n-阴离子基团,其中Q=S或Se,n=1或2或3或4。合成方法为将镓、磷、Q(Q=S或Se)、AX(A=Na或K或Rb或Cs;X=F或Cl或Br或I)的原料配料并混合均匀后,装入石英管中,抽真空后封管,放入马弗炉中缓慢加热至600-900℃,保温不少于1小时后关掉马弗炉自然冷却至室温,得到所述化合物。该化合物为无色或者黄色晶体或粉末,具有优异的红外非线性光学性能和很高的激光损伤阈值。合成方法步骤简单,所得产品纯度高、收率高,适合商业化生产。

    一种卤化汞在双折射率材料中的应用

    公开(公告)号:CN118169782A

    公开(公告)日:2024-06-11

    申请号:CN202311870458.8

    申请日:2023-12-29

    Abstract: 本申请公开了一种卤化汞在双折射率材料中的应用,属于材料技术领域。所述卤化汞的化学结构式为HgX2,X选自卤族元素Cl、Br或I。本申请将HgX2晶体作为双折射率材料应用时,其具有宽的透过波长,从紫外延伸至在中远红外波段(0.35~20.0μm),具有大的双折射率(0.15~0.3),具有二元化合物的特征,具有优良的晶体生长习性;HgX2晶体可以作为潜在的双折射率材料使用,拓展了双折射率材料的使用范围,该材料具有良好的市场前景。

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