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    具有酯基的含硅抗蚀剂下层膜形成用组合物
    22.
    发明授权
    具有酯基的含硅抗蚀剂下层膜形成用组合物 有权

    公开(公告)号：CN104737076B

    公开(公告)日：2020-04-03

    申请号：CN201380055105.0

    申请日：2013-10-24

    Applicant: 日产化学工业株式会社

    Inventor： 菅野裕太 ,  中岛诚 ,  武田谕 ,  若山浩之

    IPC: G03F7/11 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

    Abstract: 本发明的课题是提供一种用于形成可以作为硬掩模使用的抗蚀剂下层膜的光刻用途的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种光刻用途的抗蚀剂下层膜形成用组合物，作为硅烷含有水解性硅烷、其水解物或其水解缩合物，该水解性硅烷含有式(1)的硅烷、或式(1)与式(2)的硅烷组合，且该式(1)的硅烷、或式(1)与式(2)的硅烷组合基于全部硅烷低于50摩尔％。式(1)[式中，R1为含有式(1‑1)、式(1‑2)、式(1‑3)、式(1‑4)或式(1‑5)的有机基团，a表示整数1，b表示整数0或1，a+b表示整数1或2。]，式(2)[式中，R4为含有式(2‑1)、式(2‑2)或式(2‑3)的有机基团，a1表示整数1，b1表示整数0或1，a1+b1表示整数1或2。]。

    固化膜形成用组合物、取向材及相位差材
    23.
    发明授权
    固化膜形成用组合物、取向材及相位差材 有权

    公开(公告)号：CN105474083B

    公开(公告)日：2019-10-08

    申请号：CN201480046361.8

    申请日：2014-08-26

    Applicant: 日产化学工业株式会社

    Inventor： 畑中真 ,  大村浩之 ,  后藤耕平 ,  菅野裕太

    IPC: G02F1/1337 ,  G02B5/30 ,  G02F1/13363

    Abstract: 本发明提供一种具备优异的垂直取向性，即使在树脂膜上也可以以高灵敏度使聚合性液晶垂直地取向的取向材，以及用于提供使用这样的取向材的相位差材的固化膜形成用组合物。作为解决本发明课题的手段为固化膜形成用组合物、取向材、相位差材，所述固化膜形成用组合物的特征在于，含有(A)聚合物、以及选自(B)交联剂和(C)酸催化剂中的至少一种化合物，该(A)聚合物为使具有羧基和垂直取向性基团的化合物的羧基对侧链或末端具有1个以上环氧基的聚合物的环氧基进行反应而得的聚合物，所述取向材的特征在于，是使用该组合物而获得的，所述相位差材的特征在于，是使用该组合物而获得的。

    固化膜形成用组合物、取向材料和相位差材料
    24.
    发明授权
    固化膜形成用组合物、取向材料和相位差材料 有权

    公开(公告)号：CN106459324B

    公开(公告)日：2019-09-27

    申请号：CN201580034050.4

    申请日：2015-06-29

    Applicant: 日产化学工业株式会社

    Inventor： 伊藤润 ,  汤川升志郎 ,  菅野裕太 ,  后藤耕平 ,  畑中真

    IPC: C08F290/12 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1337

    Abstract: 本发明的课题是提供，表层具有具备优异的液晶取向性和密合性的固化膜的光学膜、取向材料、以及使用该取向材料的相位差材料。本发明的解决方法是一种固化膜形成用组合物、取向材料、和相位差材料，该固化膜形成用组合物的特征在于，含有(A)成分、(B)成分和(C)成分，(A)成分：具有光取向性基团和热交联性基团的化合物中的至少一种，(B)成分：包含具有N‑烷氧基甲基的重复单元和具有包含聚合性C＝C双键的侧链的重复单元的聚合物，所述(C)成分为选自(C‑1)、(C‑2)以及(C‑3)中的至少一种聚合物，(C‑1)：具有选自羟基、羧基、酰胺基、氨基和烷氧基甲硅烷基中的至少一种取代基的聚合物，(C‑2)：具有可与(A)成分进行热反应的取代基、且可进行自交联的聚合物，(C‑3)：三聚氰胺甲醛树脂。

    包含含有二酮结构的有机基团的含有硅的形成抗蚀剂下层膜的组合物
    27.
    发明授权
    包含含有二酮结构的有机基团的含有硅的形成抗蚀剂下层膜的组合物 有权 复审申请

    公开(公告)号：CN103339569B

    公开(公告)日：2018-12-07

    申请号：CN201280006068.X

    申请日：2012-01-24

    Applicant: 日产化学工业株式会社

    Inventor： 菅野裕太 ,  佐久间大辅 ,  中岛诚

    IPC: G03F7/11 ,  C08G77/14 ,  C08G77/48 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

    Abstract: 本发明的课题是提供用于形成可以作为硬掩模使用的抗蚀剂下层膜的形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物。作为解决本发明课题的方法是一种形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物，其包含作为硅烷的水解性有机硅烷、其水解物或其水解缩合物，该硅烷包含下述式(1)：［(R1)aSi(R2)(3－a)］b(R3)式(1)〔式中R3表示式(2)、式(3)、或式(4)：(式中，R4、R5和R6中的至少1个基团直接或介由连接基团而与Si原子结合。)所示的基团，R1表示烷基、芳基、芳烷基、卤代烷基、卤代芳基、卤代芳烷基、链烯基、或者具有环氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、巯基、氨基或氰基的有机基团、或者它们的组合。R2表示烷氧基、酰氧基、或卤原子。〕所示的水解性有机硅烷。

    负型感光性树脂组合物
    29.
    发明公开
    负型感光性树脂组合物 有权

    公开(公告)号：CN105765458A

    公开(公告)日：2016-07-13

    申请号：CN201480065093.4

    申请日：2014-10-20

    Applicant: 日产化学工业株式会社

    Inventor： 内山芽育 ,  菅野裕太 ,  石田智久 ,  畑中真

    IPC: G03F7/031 ,  G02F1/1333 ,  G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/033

    Abstract: 本发明提供一种负型感光性树脂组合物，其固化速度增大，即使为15μm以上的膜厚也能够利用从基材的背面曝光使涂膜表面充分地固化，可以形成微细的透明结构体。作为解决本发明课题的方法为含有(A)成分、(B)成分、(C?1)成分、(C?2)成分和(D)成分的感光性树脂组合物。(A)成分：碱溶性共聚物，(B)成分：具有2个以上选自丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、乙烯基和烯丙基中的至少1种聚合性基团的化合物，(C?1)成分：具有肟酯基、且365nm时的甲醇中或乙腈中的吸光系数为5,000ml/g·cm以上的光引发剂，(C?2)成分：365nm时的甲醇中或乙腈中的吸光系数为100ml/g·cm以下的光引发剂，(D)成分：溶剂。

    具有环状氨基的含有硅的形成抗蚀剂下层膜的组合物
    30.
    发明授权
    具有环状氨基的含有硅的形成抗蚀剂下层膜的组合物 有权

    公开(公告)号：CN101946209B

    公开(公告)日：2014-01-22

    申请号：CN200980105535.2

    申请日：2009-02-16

    Applicant: 日产化学工业株式会社

    Inventor： 中岛诚 ,  柴山亘 ,  菅野裕太

    IPC: G03F7/11 ,  C08G77/26 ,  C08G77/388 ,  C08L83/08 ,  G03F7/26

    CPC classification number: G03F7/11 ,  C08G77/26 ,  C08G77/80 ,  C08L83/08 ,  G03F7/0752

    Abstract: 本发明的课题在于提供用于形成可以用作硬掩模的抗蚀剂下层膜的形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物。本发明通过提供下述组合物而解决了上述课题，即，一种形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物，是作为硅烷含有水解性有机硅烷、其水解物或其水解缩合物的组合物，该硅烷全体中、具有环状氨基的硅烷以小于1摩尔％的比例存在，优选以0.01～0.95摩尔％的比例存在。含有具有环状氨基的水解性有机硅烷、其水解物、或其水解缩合物的形成膜的组合物。含有具有环状氨基的水解性有机硅烷、其水解物、或其水解缩合物的形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物。上述环状氨基是仲氨基或叔氨基。水解性有机硅烷是式(1)所示的化合物，R1aR2bSi(R3)4-(a+b)式(1)(式中，R1是环状氨基或含有环状氨基的有机基团。)

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