公开(公告)号：CN115570135A

公开(公告)日：2023-01-06

申请号：CN202211350844.X

申请日：2022-10-31

申请人： 东北大学 ,  贵研铂业股份有限公司

发明人： 刘绍宏 ,  许丰铄 ,  王伟 ,  闻明 ,  刘满门 ,  王传军 ,  崔浩 ,  周利民

IPC分类号： B22F3/10 ,  B22F3/14 ,  B22F3/02 ,  B22F3/04 ,  C22C5/04 ,  C22C27/02 ,  C22C1/04 ,  C23C14/34 ,  C23C14/35

摘要： 本发明公开了钌及钌合金材料的制备方法，解决了高纯度、大尺寸、高致密、晶粒小且择优取向的钌及钌合金材料制备难题。本发明以钌或含钌混合粉体为原料，通过氢气气氛除杂，结合无模具热压延缓慢变形工艺制备钌及钌合金材料。本发明技术新颖，可制备高纯度、大尺寸、高致密、晶粒小且择优取向的钌及钌合金材料，进而推动信息储存和材料连接领域相关技术和产业进一步发展。

公开(公告)号：CN114293157B

公开(公告)日：2022-09-16

申请号：CN202111501941.X

申请日：2021-12-09

申请人： 贵研铂业股份有限公司

发明人： 闻明 ,  管伟明 ,  周利民 ,  王传军 ,  普志辉 ,  许彦亭 ,  沈月 ,  李思勰 ,  巢云秀 ,  王一晴

IPC分类号： C23C14/34 ,  C22C19/05

摘要： 本发明公开了一种高均质NiCrPt合金溅射靶材的制备方法，所述溅射靶材之基材原料由纯度≥99.99wt％的Ni、Cr、Pt金属组成，其中Cr10~30at%，Pt1~4.5at%，余量为Ni，外加总质量比0.01~0.08%的除氧剂；基材表面保护镀膜厚度≤5μm；所述溅射靶材致密度≥99.5%，且无肉眼可见的缺陷，氧含量≤30ppm，靶材晶粒均匀，其平均粒径为20~100μm；所述溅射靶材之表层机加工处理的去除深度≤0.5mm。其制备方法由基材铸锭与清洗处理、基材镀膜、坯材轧制、再结晶处理和机加工处理工艺实现。本发明基于“控氧+优先保护”原理，降低基材氧含量，基材表面优先溅射易氧化金属保护镀层，抑制“夹生”脆性氧化物，提高了靶材优材率，降低了表层去除深度，减少靶材浪费，节约成本。

公开(公告)号：CN111235536B

公开(公告)日：2021-11-12

申请号：CN202010186255.7

申请日：2020-03-17

申请人： 贵研铂业股份有限公司

发明人： 闻明 ,  郭俊梅 ,  管伟明 ,  王传军 ,  谭志龙 ,  周利民 ,  沈月 ,  许彦婷 ,  普志辉 ,  杨海

IPC分类号： C23C14/34 ,  B22F1/00 ,  B22F3/02 ,  B22F3/105 ,  B22F3/14 ,  B22F3/24 ,  B22F5/00

摘要： 本发明公开了一种晶粒高定向取向的铱溅射靶材及其制备方法，铱溅射靶材呈现(111)晶面高定向取向，致密度不低于99.5%，晶粒尺寸1‑10 μm，氧含量100 ppm以内；所述(111)晶面与(200)晶面积分强度比不低于4。所述制备方法包括以下步骤：选择4N及以上纯度，粒度为1‑10 μm的铱粉；随后将粉末进行冷压成型；再将冷压成型的锭坯进行低温微波烧结；再将锭坯进行低温真空热压烧结进一步提高致密度；最后机加工获得靶材。本发明采用较低的烧结温度、低温真空热压技术及充氢气形成还原气氛，使得铱溅射靶材性能优异，高致密度和(111)晶面高定向取向有助于获得高溅射速率、厚度均匀的铱薄膜，制备工艺简便，条件温和易于操控，而且可大大提高了生产效率，极大地节约制备成本。

公开(公告)号：CN113512713A

公开(公告)日：2021-10-19

申请号：CN202110771475.0

申请日：2021-07-08

申请人： 贵研铂业股份有限公司

发明人： 魏燕 ,  胡昌义 ,  蔡宏中 ,  胡晋铨 ,  周利民 ,  张诩翔 ,  王献 ,  闻明 ,  张贵学 ,  崔浩 ,  陈力 ,  汪星强 ,  黎玉盛 ,  刘盼

IPC分类号： C23C16/14 ,  C30B35/00

摘要： 本发明提供了一种铼坩埚及其制备方法和应用，属于金属材料制备技术领域。本发明提供了一种铼坩埚的制备方法，包括以下步骤：在真空条件下，将铼与氯气发生氯化反应，得到ReCl5气体；对基体进行加工，得到沉积铼坩埚用模芯；将所述沉积铼坩埚用模芯预热，得到预热沉积铼坩埚用模芯；将所述ReCl5气体输送至所述预热沉积铼坩埚用模芯的表面进行化学气相沉积，得到铼坩埚。本发明采用现场氯化化学气相沉积(CVD)法制备铼坩埚，具有流程短、工艺成熟、沉积速率快及原材料利用率高的优点，可以得到高致密性、高纯度的铼坩埚。

公开(公告)号：CN109112501A

公开(公告)日：2019-01-01

申请号：CN201810972105.1

申请日：2018-08-24

申请人： 贵研铂业股份有限公司

发明人： 胡昌义 ,  魏燕 ,  蔡宏中 ,  周利民 ,  陈力 ,  郑旭 ,  张诩翔 ,  崔浩 ,  柳森 ,  刘少鹏 ,  张贵学

IPC分类号： C23C16/40 ,  C23C16/448

摘要： 本发明提供一种二氧化铪涂层及其制备方法，属于涂层制备领域。本发明中，原料铪的氯化反应与HfO2涂层的化学气相沉积反应过程简单，HfO2涂层沉积速率大幅提高至30μm/h以上，且不会带来杂质污染；化学气相沉积反应可在预热后的待沉积基体的所有表面发生，可同时实现难熔金属复杂器件内外表面涂层的均匀沉积；CVD沉积是通过化学反应原位产生HfO2分子，HfO2分子逐个堆积形成涂层，涂层密度超过其理论密度的99％；HfO2涂层的生长选择热力学能量最低的方向，涂层形成了择优取向的织构组织，使涂层的辐射系数提高至0.90以上，高温散热性能优良。

公开(公告)号：CN108411135A

公开(公告)日：2018-08-17

申请号：CN201810120855.6

申请日：2018-02-07

申请人： 东北大学 ,  贵研铂业股份有限公司

发明人： 刘绍宏 ,  朱海澄 ,  崔浩 ,  刘满门 ,  陈家林 ,  周利民 ,  谢明 ,  孙旭东

IPC分类号： C22C1/04 ,  C22C19/03 ,  B22F9/04 ,  B22F9/22 ,  B22F3/14 ,  B22F3/20

摘要： 本发明公开了一种银镁镍合金带(片)、丝材的制备方法，以银镁合金粉、含镍粉体为原料，将银镁合金粉、含镍粉体球磨混料，混合料空气中煅烧后再经还原气氛加热处理，处理后粉体经烧结成致密体，致密体经轧制成带(片)或经挤压成丝，带(片)、丝材再经内氧化制备成银镁镍合金带(片)、丝材。不同于传统熔炼铸造工艺，本发明通过将银镁合金粉、含镍粉体均匀混合，进而控制镍在银基体中的分布，实现银镁镍合金成分分布、显微组织的可控制备。