排出口部件的制造方法以及液体排出头的制造方法

    公开(公告)号:CN102152635B

    公开(公告)日:2013-11-06

    申请号:CN201010582101.6

    申请日:2010-12-10

    IPC分类号: B41J2/16

    摘要: 本发明公开了排出口部件的制造方法以及液体排出头的制造方法,该排出口部件的制造方法按如下顺序包括:制备至少其表面是导电性的基板,所述基板具有在所述表面上形成的用于形成排出口的第一绝缘抗蚀剂以及用于形成流路的壁的凹形部分的第二绝缘抗蚀剂,通过使用所述第一抗蚀剂和所述第二抗蚀剂作为掩模进行镀敷来在表面上形成第一镀敷层,去除所述第二抗蚀剂,在所述基板的已被去除所述第二抗蚀剂的暴露部分上形成第二镀敷层,所述第二镀敷层是通过使用所述第一抗蚀剂作为掩模进行镀敷形成的,所述第二镀敷层形成所述壁的所述凹形部分,并且去除所述第一抗蚀剂以形成所述排出口并且去除所述基板。

    制造喷嘴板的方法
    28.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103302987A

    公开(公告)日:2013-09-18

    申请号:CN201310080906.4

    申请日:2013-03-14

    发明人: 高桥秀治

    IPC分类号: B41J2/16

    摘要: 本发明公开了一种制造喷嘴板的方法,所述方法包括:掩膜图案层形成步骤,相对于由具有(111)表面取向的第一硅衬底和具有(100)表面取向的第二硅衬底构成的叠层衬底,在所述第二硅衬底上形成框状掩膜图案层;在所述第一硅衬底中形成所述喷嘴的直线部的非贯通孔形成步骤;在未覆盖有所述掩膜图案层的所述第二硅衬底上的第一部分上和限定所述非贯通孔的所述第一和第二硅衬底的内表面上形成保护膜的保护膜形成步骤;以及对所述第二硅衬底进行各向异性蚀刻以形成由通过所述各向异性蚀刻而暴露在所述第二硅衬底中的{111}表面所限定的所述喷嘴的锥形部的各向异性蚀刻步骤。