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公开(公告)号:CN106596235A
公开(公告)日:2017-04-26
申请号:CN201611116778.4
申请日:2016-12-07
Applicant: 东北大学
CPC classification number: G01N1/32 , C23F1/28 , G01N21/88 , G01N21/8851 , G01N2021/8887 , G01N2201/10
Abstract: 一种用于高氮奥氏体不锈钢的枝晶腐蚀剂及其使用方法,属于钢坯低倍检验分析领域。该枝晶腐蚀剂含有的成分及配比为:氯化铜∶氯化镁∶氯化铁∶水∶盐酸∶硝酸∶无水乙醇=(0.6~2.1)g∶(0.1~0.3)g∶(1~3)g∶100mL∶(9~12)mL∶(1~4)mL∶(125~130)mL;其使用方法为:(1)按照配比,依次加入水、氯化铜、氯化镁、氯化铁、盐酸、硝酸和无水乙醇,搅拌均匀,静置5~15min。(2)将高氮奥氏体不锈钢的检测面抛光,用腐蚀剂腐蚀2~5min,待出现清晰的枝晶状凝固组织后,对检测面冲洗,吹干,然后检测观察。该腐蚀剂能简便、快速、有效的显示铸态高氮奥氏体不锈钢枝晶的腐蚀情况,可以清晰地显示凝固枝晶组织和准确地显示凝固缺陷,重现性好。
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公开(公告)号:CN106463430A
公开(公告)日:2017-02-22
申请号:CN201580024936.0
申请日:2015-05-11
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/66
CPC classification number: G01N21/93 , G01B2210/56 , G01N21/4788 , G01N21/9501 , G01N21/95607 , G01N2201/06113 , G01N2201/062 , G01N2201/10 , G01N2201/1296
Abstract: 在一个实施例中,揭示了用于确定目标的参数的设备及方法。提供了一种具有成像结构及散射测量结构的目标。利用计量工具的成像通道获得所述成像结构的图像。还利用所述计量工具的散射测量通道从所述散射测量结构获得散射测量信号。基于所述图像及所述散射测量信号两者确定所述目标的至少一个参数,例如叠对误差。
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公开(公告)号:CN106233125A
公开(公告)日:2016-12-14
申请号:CN201580020492.3
申请日:2015-04-22
Applicant: 科磊股份有限公司
CPC classification number: G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N2201/068 , G01N2201/10 , G01N2201/121 , G02B21/0028 , G02B21/0032 , G02B21/0072 , G02B21/365 , H01L22/12
Abstract: 本发明提供一种线扫描晶片检验系统,其包含用于移除旁瓣并增强所述扫描方向上的分辨率的共聚焦狭缝孔径滤波器。与所述狭缝孔径滤波器相关联的位置检测器监测并校正相对于所述狭缝孔径的照明线图像位置以将图像位置变化保持于容许极限内。每一检测器测量线位置,且接着使用所述线位置信号以在反馈环路中的集光路径中调整光学、机械、及电子组件。可在运行时间校准过程中或在检验期间运用所述反馈环路以增强稳定性。
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公开(公告)号:CN105891144A
公开(公告)日:2016-08-24
申请号:CN201610194558.7
申请日:2016-03-31
Applicant: 上海理工大学
IPC: G01N21/3586
CPC classification number: G01N21/3586 , G01N2201/10
Abstract: 本发明提供了一种太赫兹扫描系统以及扫描方法,该扫描系统包括重频锁定且可调飞秒激光器、重复频率调谐部、分束部、太赫兹脉冲产生部、太赫兹脉冲收集部、脉冲空间偏移发生部、参考激光脉冲传输方向改变部、合束部、聚焦部、光电探测部以及处理部。其中,重复频率调谐部包括信号发生单元、触发单元以及调谐单元,信号发生单元输出固有频率电信号,触发单元将该固有频率电信号作为触发信号并将该触发信号输送给飞秒激光器,调谐单元依据飞秒激光器的反馈信号连续改变腔长,实现重复频率的调谐。而后,重频锁定且可调飞秒激光器将调谐好的重复频率进行锁定。
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公开(公告)号:CN104768615A
公开(公告)日:2015-07-08
申请号:CN201380048292.X
申请日:2013-07-17
Applicant: 密执安大学评议会
Inventor: J.E.格斯特维基
IPC: A61P27/12 , A61K31/575 , A61K31/045 , G01N33/68 , A61K47/48
CPC classification number: A61K31/575 , A61K9/0048 , A61K31/045 , A61K47/6951 , B82Y5/00 , C07J9/00 , C12Q1/34 , G01N21/6428 , G01N33/68 , G01N2201/10 , G01N2333/4709 , G01N2500/20
Abstract: 本发明提供cc-晶体蛋白聚集的抑制剂和使用cc-晶体蛋白聚集抑制剂以例如在具有白内障或面临发展为白内障的风险的受试者中治疗或预防白内障的方法。本发明还提供筛选用于调节蛋白热稳定性的化合物的高通量方法,该方法包括使蛋白与多个试验化合物的每一个接触;和(b)在多个试验化合物的每一个的存在下,测量蛋白的熔融转变(Tm),其中降低或增加表观Tm至少2个标准差的化合物被鉴定为药用蛋白伴侣。
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公开(公告)号:CN102901445B
公开(公告)日:2015-06-10
申请号:CN201210366219.4
申请日:2012-09-28
Applicant: 华中科技大学 , 武汉飞恩微电子有限公司
CPC classification number: G01N21/9501 , G01N21/55 , G01N21/95 , G01N25/72 , G01N2201/0636 , G01N2201/0638 , G01N2201/10 , G01N2201/102
Abstract: 本发明公开了一种基于光热成像的微电子封装工艺质量检测装置,包括图像获取装置、工作台、控制装置及数据处理装置;其中图像获取装置包括支架横梁、平动电机、成像探头、光发射器;平动电机固定于横梁的下侧面,成像探头垂直固定于平动电机中的移动块;光发射器通过可调连接件连接至所述移动块,通过调节可调连接件使其发射的光经试样反射后进入成像探头;数据处理装置用于对所述图像获取装置获取的光图像和热图像数据进行处理后获得相关系数和均方差统计系数,并将所述相关系数和均方差统计系数与预设的阈值进行比较,根据比较结果获得工艺质量评估。本发明可以实现残渣颗粒和空洞识别、材质识别及微孔深度测量,检测评估更可靠。
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公开(公告)号:CN104641222A
公开(公告)日:2015-05-20
申请号:CN201380028512.2
申请日:2013-05-28
Applicant: 麦考瑞大学
Inventor: 金大勇 , 陆怡青 , 詹姆士·奥斯汀·皮珀
CPC classification number: G01N21/6458 , G01N15/1456 , G01N21/6408 , G01N21/6486 , G01N2201/10 , G02B21/16
Abstract: 以一种形式公开了一种用于发光显微成像的双向扫描方法。利用探询宽视场相对于第一方向执行一系列连续扫描并且识别目标。确定所述目标在第一方向上的精确位置。在所述目标在所述第一方向上的精确位置或其附近处利用所述探询宽视场相对于第二方向执行至少一次扫描。该双向扫描方法产生目标的“即时”(即,当场或即兴)精确定位。所述实施方式开辟了无背景或背景降低的发光显微成像的新应用,例如,以相对快的更高速度或更有效方式的时间选通或时间分辨的发光显微成像。
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公开(公告)号:CN104303048A
公开(公告)日:2015-01-21
申请号:CN201380025799.3
申请日:2013-03-07
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01N21/88 , H01L21/027
CPC classification number: G01N21/95 , G01M11/00 , G01N21/95607 , G01N2021/9511 , G01N2021/95676 , G01N2201/06113 , G01N2201/062 , G01N2201/10 , G03F1/84
Abstract: 在检验期间使用光学光罩检验工具来针对每一局部区域获得对应于从光罩的每一局部区域的多个子区域反射的光的多个反射强度值的平均值。还在所述检验期间使用所述光学光罩检验工具来针对每一局部区域获得对应于透射通过所述光罩的每一局部区域的所述子区域的光的多个透射强度值的平均值。通过针对每一局部区域组合多个反射强度值的所述平均值与多个透射强度值的所述平均值而产生组合强度分布图,使得:如果光罩尚未劣化,那么从所述组合强度分布图消除所述光罩的光罩图案;且如果所述光罩已劣化,那么不从所述组合强度分布图消除所述光罩的所述光罩图案。
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公开(公告)号:CN104126114A
公开(公告)日:2014-10-29
申请号:CN201280061083.4
申请日:2012-10-17
Applicant: 斯特拉联合有限责任公司
IPC: G01N21/956 , G02B27/40
CPC classification number: H04N5/2356 , G01N21/6456 , G01N21/8806 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/6463 , G01N2021/95638 , G01N2201/0612 , G01N2201/062 , G01N2201/10 , G03B13/36 , H04N5/332 , H04N5/37206 , H04N5/378 , H04N7/18
Abstract: 一种用于使用高数值孔径(NA)光学器件,使用智能图像分析来断定最佳聚焦,来优化部件的检查高速光学检查的方法和设备,该方法和设备利用非常有限的景深透镜来实现优越的信噪比、分辨率、和检查速度性能。
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公开(公告)号:CN101424612A
公开(公告)日:2009-05-06
申请号:CN200810173297.6
申请日:2008-10-31
Applicant: 索尼株式会社
IPC: G01N15/00 , G01N21/00 , G01N33/483
CPC classification number: G01N15/1425 , G01N15/1436 , G01N15/1459 , G01N15/1484 , G01N21/6428 , G01N21/645 , G01N2015/1006 , G01N2015/1497 , G01N2021/058 , G01N2021/6419 , G01N2021/6421 , G01N2201/10 , G01N2201/11
Abstract: 本发明披露了一种能够获得高测量精度的微粒测量方法、用于测量的基板以及测量装置。所述微粒测量方法通过用光扫描样品流体通道而对引入到以预定距离设置在基板上的多个样品流体通道中的微粒进行光学测量。该方法包括:用光顺序照射至少两个或更多个与样品流体通道一起设置的参考区域;检测由参考区域引起的在光中发生的光学特性的变化;以及控制光对样品流体通道的发射时间。
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