一种基于微纳光纤长周期光栅的有机污染物在线监测装置及方法

    公开(公告)号:CN111272772A

    公开(公告)日:2020-06-12

    申请号:CN202010189521.1

    申请日:2020-03-18

    IPC分类号: G01N21/94

    摘要: 本发明公开了一种基于微纳光纤长周期光栅的有机污染物在线监测装置及方法,包括:用于发出光源的超连续谱光源,其出射光的光路上依次连接有传感单元和光纤光谱仪,所述超连续谱光源上连接有控制电脑;其中,所述传感单元包括微纳光纤长周期光栅和包裹在微纳光纤长周期光栅表面的用于吸附有机污染物的溶胶-凝胶膜层。利用光在传感单元中传输,会形成调制,形成波谷,当镀有溶胶-凝胶敏感膜层的微纳光纤长周期光栅吸附有机污染物后,其表面折射率发生改变,同时影响表面倏逝波的传输特性,导致谐振波长发生变化,最后利用光纤光谱仪对这种偏移进行监测并反推空间中有机污染物浓度的变化,最终实现对有机污染物浓度的在线监测。

    光学元件表面非接触式洁净监测及处理系统

    公开(公告)号:CN110849897A

    公开(公告)日:2020-02-28

    申请号:CN201911291679.3

    申请日:2019-12-16

    IPC分类号: G01N21/94 B08B6/00 B08B5/02

    摘要: 本发明公开了一种光学元件表面非接触式洁净监测及处理系统,包括:光传输管道或箱体;光学元件支撑单元,其设置在光传输管道或箱体的底部;光学元件倾斜设置在光学元件支撑单元上;照明单元,其设置在光学元件支撑单元上;风刀单元,其设置在光学元件支撑单元上,其风刀单元位于光学元件的上边缘;相机监测单元,其设置在光传输管道或箱体的上方,且相机监测单元的照射镜头与光学元件的表面垂直。本发明的光学元件表面非接触式洁净监测及处理系统,可以实现对光学元件表面颗粒污染物的实时拍照采样,通过对污染物的粒径及分布信息进行统计,记录表面颗粒污染物的变化情况;该系统采用风刀单元可以实现对光学元件表面颗粒污染物的有效去除。

    用于光学元件在线表面洁净处理的装置

    公开(公告)号:CN108971045A

    公开(公告)日:2018-12-11

    申请号:CN201811243263.X

    申请日:2018-10-24

    IPC分类号: B08B1/00

    摘要: 本发明公开了一种用于光学元件在线表面洁净处理的装置,包括:水平运动机构,其包括导轨单元、水平滑块、水平丝杆、以及伺服电机;竖直伸缩机构,其包括竖直连接在水平滑块上的支撑块和连接在支撑块上的可伸缩机械臂;洁净处理机构,其包括连接在可伸缩机械臂顶端的水平支撑臂、连接在水平支撑臂末端的擦拭机构、连接在水平支撑臂上的无尘布传送机构、以及连接在支撑块上的无尘布收集机构;其中,无尘布传送机构上的无尘布绕过擦拭机构后收集在无尘布收集机构上;酒精擦拭辅助机构,其包括酒精壶和与酒精壶连通的抽送泵,抽送泵的输出端通过导管连接至擦拭机构。该装置可用于对光学元件的表面进行在线洁净处理,操作简单便捷。

    激光制备熔石英连续相位板的方法

    公开(公告)号:CN107247300A

    公开(公告)日:2017-10-13

    申请号:CN201710629419.7

    申请日:2017-07-28

    IPC分类号: G02B5/30 G02B27/09

    摘要: 本发明涉及光学领域。本发明提供了一种激光制备熔石英连续相位板的方法,用于获得更小的去除函数尺寸来满足更精细化的焦斑均匀性控制要求,其技术方案可概括为:首先对激光束进行聚焦,然后设置激光器输出功率参数及扫描振镜扫描速度,并设定扫描振镜扫描路径参数,再将熔石英元件置于激光束的焦点处,通过激光辐照熔石英元件表面,改变熔石英元件扫描区域的假想温度分布,使之与设定的连续相位板空间结构相对应,得到激光辐照元件,最后通过兆声波辅助氢氟酸刻蚀工艺,对其进行刻蚀,使之呈现出假想温度调控区域轮廓,得到熔石英连续相位板。本发明的有益效果是:提高加工效率,适用于熔石英连续相位板的加工。

    熔石英微凹柱透镜阵列的制备方法

    公开(公告)号:CN106932844A

    公开(公告)日:2017-07-07

    申请号:CN201710354588.4

    申请日:2017-05-19

    IPC分类号: G02B3/00

    摘要: 本发明公开了一种熔石英微凹柱透镜阵列的制备方法,包括:从二氧化碳激光器获得连续稳定的二氧化碳激光;对二氧化碳激光进行聚焦;将清洗后的熔石英样片放置在聚焦的二氧化碳激光的焦点位置;采用振镜系统扫描聚焦后的二氧化碳激光辐照熔石英样片表面;然后放入氢氟酸溶液进行湿法刻蚀;对湿法刻蚀形成的熔石英微凹柱透镜阵列进行喷淋和超声清洗,得到熔石英微凹柱透镜阵列。本发明利用功率恒定的连续二氧化碳激光进行扫描辐照;简洁高效地直接在熔石英表面实现了一维的柱透镜阵列,例如平行微凹柱透镜阵列、正交微凹柱透镜阵列和螺旋微凹柱透镜阵列的制造,并且制造的微凹柱透镜阵列无实焦点,尤其适用于高功率光束整形等应用。

    用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统

    公开(公告)号:CN110813924B

    公开(公告)日:2024-08-23

    申请号:CN201911291678.9

    申请日:2019-12-16

    IPC分类号: B08B6/00 B08B5/02 B08B15/04

    摘要: 本发明公开了一种用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统,包括:底板,其上通过支撑柱放置有光学元件;风刀及离子棒单元,其通过支撑单元连接在底板上,且风刀及离子棒单元位于光学元件的一端,并使风刀及离子棒单元的出风口正对光学元件的上表面;静电吸附电极,其包括平行设置的正电极棒和负电极棒,正电极棒和负电极棒分别通过电极支撑架连接在底板上,且正电极棒位于光学元件的上方,负电极棒位于光学元件的的下方。本发明通过风刀及离子棒产生离子风或高速气流将光学元件表面的污染物去除并使污染物荷电,采用静电吸附电极在光学元件末端或将静电吸附电极带动在光学元件表面进行来回运动,对污染物进行收集,从而达到污染物去除的目的。

    交直流复合磁场-力-热环境下实验测试系统

    公开(公告)号:CN111175683B

    公开(公告)日:2024-08-16

    申请号:CN202010181860.5

    申请日:2020-03-16

    IPC分类号: G01R35/00

    摘要: 本发明公开了一种交直流复合磁场‑力‑热环境下实验测试系统,包括:工作台;一对平行的直流亥姆霍兹线圈,其通过移动单元设置在工作台上;两对平行的交流亥姆霍兹线圈,其通过支撑杆设置在工作台上,且两对平行的交流亥姆霍兹线圈连接在支撑杆的顶部并合围形成容纳腔体;且容纳腔体位于一对平行的直流亥姆霍兹线圈之间的中心处;温控炉,其设置在支撑杆的顶部,且温控炉位于容纳腔体内;测力单元,其设置在工作台上并位于一对平行的直流亥姆霍兹线圈的一端,且测力单元的施力方向与一对平行的直流亥姆霍兹线圈的轴线平行;夹具单元,其设置在工作台上并位于一对平行的直流亥姆霍兹线圈的另一端,且夹具单元与测力单元相对应设置。