公开(公告)号：CN103998547A

公开(公告)日：2014-08-20

申请号：CN201180075487.4

申请日：2011-12-21

申请人： 巴斯夫欧洲公司

发明人： V·I·莱曼 ,  Y·李 ,  C·沙德 ,  S·S·文卡塔拉曼 ,  E·Y-S·苏 ,  S·A·奥斯曼易卜拉欣

IPC分类号： C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304

CPC分类号： C09G1/04 ,  C09G1/00 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  C09K13/00 ,  H01L21/302 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/461

摘要： 一种化学机械抛光(CMP)组合物，其包含：(A)无机颗粒、有机颗粒或其混合物或复合物；(B)作为分散剂或电荷反转剂的至少一种有机聚合化合物，其包含膦酸酯(-P(＝O)(OR1)(OR2))或膦酸(-P(＝O)(OH)2)结构部分或其脱质子化形式作为侧基，其中R1为烷基、芳基、烷芳基或芳烷基，R2为H、烷基、芳基、烷芳基或芳烷基；和(C)水性介质。

公开(公告)号：CN103764775A

公开(公告)日：2014-04-30

申请号：CN201280043273.3

申请日：2012-09-04

申请人： 巴斯夫欧洲公司

发明人： Y·李 ,  M·劳特尔 ,  R·朗格

IPC分类号： C09G1/02

CPC分类号： C09G1/02 ,  C09G1/00 ,  C09K13/00 ,  C23F1/00 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053

摘要： 一种化学机械抛光(CMP)组合物，其包含：(A)无机粒子、有机粒子或其混合物或复合物，(B)式1至式6的苷，其中R1为烷基、芳基或烷芳基，R2为H、X1、X2、X3、X4、X5、X6、烷基、芳基或烷芳基，R3为H、X1、X2、X3、X4、X5、X6、烷基、芳基或烷芳基，R4为H、X1、X2、X3、X4、X5、X6、烷基、芳基或烷芳基，R5为H、X1、X2、X3、X4、X5、X6、烷基、芳基或烷芳基，该苷中的单糖单元(X1、X2、X3、X4、X5或X6)的总数在1至20的范围内，且X1至X6为如在相应式1至式6中以矩形所指示的结构单元，及(C)含水介质。

公开(公告)号：CN103189457A

公开(公告)日：2013-07-03

申请号：CN201180053056.8

申请日：2011-09-06

申请人： 巴斯夫欧洲公司

发明人： Y·李 ,  J-J·楚 ,  S·S·文卡塔拉曼 ,  S·A·奥斯曼易卜拉欣 ,  H·W·平德尔

IPC分类号： C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  C09G1/18 ,  C09K3/14

CPC分类号： C09K3/1409 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053

摘要： 本发明涉及一种含水抛光组合物，其包含：(A)当其分散在pH为3-9的含水介质中时带正电荷的磨料颗粒，这通过电泳淌度证明；(B)水溶性和水分散性的含羟基组分，其选自：(b1)脂族和脂环族羟基羧酸，其中羟基与羧酸基的摩尔比例为至少1；(b2)具有至少一个羟基的羟基羧酸(b1)的酯和内酯；和(b3)其混合物；以及(C)选自以下的水溶性和水分散性聚合物组分：(c1)线性和支化的氧化烯烃聚合物；(c2)线性和支化的脂族和脂环族聚(N-乙烯基酰胺)聚合物；和(c3)重均分子量小于100,000道尔顿的阳离子聚合絮凝剂；以及一种抛光电子、机械和光学器件用基底材料的方法。

公开(公告)号：CN102762684A

公开(公告)日：2012-10-31

申请号：CN201180010888.1

申请日：2011-01-19

申请人： 巴斯夫欧洲公司

发明人： C·库雅特 ,  Y·李 ,  K·拉欣

IPC分类号： C09K3/14

CPC分类号： C09K3/1436 ,  B24B37/245 ,  B24D11/001 ,  H01L21/3212

摘要： 研磨制品，其包含选自无机颗粒、有机颗粒和无机-有机混杂颗粒(a1)的固体磨料颗粒(A)，其具有根据激光衍射测得的为1-500nm平均初级粒度且具有与其表面化学键接的给电子基团(a2)。所述固体磨料颗粒(A)分布于整个固体基体(B)中或分布于其上，或者分布于整个固体基体(B)中且分布于其上。提供了一种制备研磨制品的方法和一种对用于制造电气和光学器件的基材进行加工的方法。所述方法使用所述研磨制品。

公开(公告)号：CN108368224A

公开(公告)日：2018-08-03

申请号：CN201680068266.7

申请日：2016-09-22

申请人： 巴斯夫欧洲公司

发明人： 奚邦为 ,  Z·范 ,  Y·李 ,  S·苗 ,  L·王 ,  X·庄

IPC分类号： C08G18/48 ,  C08G18/76 ,  C08J9/14 ,  C08G18/10 ,  C08G18/32 ,  C08G18/40 ,  C08G18/42 ,  F17C3/02 ,  C08G101/00

CPC分类号： C08G18/4211 ,  B60K15/05 ,  C08G18/10 ,  C08G18/3206 ,  C08G18/4018 ,  C08G18/4202 ,  C08G18/4238 ,  C08G18/4816 ,  C08G18/4825 ,  C08G18/4883 ,  C08G18/7657 ,  C08G18/7664 ,  C08G18/7671 ,  C08G2101/0025 ,  C08G2101/0058 ,  C08G2390/40 ,  C08J9/144 ,  C08J9/146 ,  C08J2201/026 ,  C08J2205/10 ,  C08J2375/04 ,  F17C3/027 ,  F17C2201/052 ,  F17C2203/0333 ,  F17C2221/033 ,  F17C2223/0161 ,  F17C2270/0105 ,  C08G18/6607

摘要： 本发明涉及一种硬质聚氨酯泡沫，其通过在c)一种或多种物理发泡剂的存在下，使a)具有对异氰酸酯呈反应性的基团的化合物与b)NCO含量为25％至33重量％的芳族异氰酸酯预聚物反应获得。所述具有对异氰酸酯呈反应性的基团的化合物(a)包含(a1)基于化合物(a)的总重量计，45至80重量％的官能度小于3且羟基值为250mg KOH/g或更大的芳族聚酯多元醇，(a2)基于化合物(a)的总重量计，20至55重量％的官能度为3或更大且羟基值为350mg KOH/g或更大的聚醚多元醇，以及(a3)基于化合物(a)的总重量计，0至10重量％的增链剂和/或交联剂。

公开(公告)号：CN104093824B

公开(公告)日：2018-05-11

申请号：CN201380007434.8

申请日：2013-01-24

申请人： 巴斯夫欧洲公司

发明人： Y·李 ,  S·S·文卡塔拉曼 ,  M·钟

IPC分类号： C11D7/22 ,  H01L21/02

CPC分类号： C11D3/3427 ,  C11D1/722 ,  C11D3/2065 ,  C11D3/2082 ,  C11D3/2086 ,  C11D3/349 ,  C11D3/3757 ,  C11D7/261 ,  C11D7/268 ,  C11D7/34 ,  C11D11/0047 ,  C11D11/0064 ,  H01L21/02074

摘要： 一种化学机械抛光后(CMP后)清洗组合物，包含：(A)至少一种化合物，其包含至少一个硫醇基(‑SH)、硫醚基(‑SR1)或硫羰基(>C＝S)，其中R1为烷基、芳基、烷芳基或芳烷基；(B)至少一种糖醇，其包含至少3个羟基(‑OH)且不包含任何羧酸基(‑COOH)或羧酸酯基(‑COO‑)；和(C)水性介质。

公开(公告)号：CN103764775B

公开(公告)日：2016-05-18

申请号：CN201280043273.3

申请日：2012-09-04

申请人： 巴斯夫欧洲公司

发明人： Y·李 ,  M·劳特尔 ,  R·朗格

IPC分类号： C09G1/02

CPC分类号： C09G1/02 ,  C09G1/00 ,  C09K13/00 ,  C23F1/00 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053

摘要： 一种化学机械抛光(CMP)组合物，其包含：(A)无机粒子、有机粒子或其混合物或复合物，(B)式1至式6的苷，其中R1为烷基、芳基或烷芳基，R2为H、X1、X2、X3、X4、X5、X6、烷基、芳基或烷芳基，R3为H、X1、X2、X3、X4、X5、X6、烷基、芳基或烷芳基，R4为H、X1、X2、X3、X4、X5、X6、烷基、芳基或烷芳基，R5为H、X1、X2、X3、X4、X5、X6、烷基、芳基或烷芳基，该苷中的单糖单元(X1、X2、X3、X4、X5或X6)的总数在1至20的范围内，且X1至X6为如在相应式1至式6中以矩形所指示的结构单元，及(C)含水介质。

公开(公告)号：CN103189457B

公开(公告)日：2015-12-09

申请号：CN201180053056.8

申请日：2011-09-06

申请人： 巴斯夫欧洲公司

发明人： Y·李 ,  J-J·楚 ,  S·S·文卡塔拉曼 ,  S·A·奥斯曼易卜拉欣 ,  H·W·平德尔

IPC分类号： C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  C09G1/18 ,  C09K3/14

CPC分类号： C09K3/1409 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053

摘要： 本发明涉及一种含水抛光组合物，其包含：(A)当其分散在pH为3-9的含水介质中时带正电荷的磨料颗粒，这通过电泳淌度证明；(B)水溶性和水分散性的含羟基组分，其选自：(b1)脂族和脂环族羟基羧酸，其中羟基与羧酸基的摩尔比例为至少1；(b2)具有至少一个羟基的羟基羧酸(b1)的酯和内酯；和(b3)其混合物；以及(C)选自以下的水溶性和水分散性聚合物组分：(c1)线性和支化的氧化烯烃聚合物；(c2)线性和支化的脂族和脂环族聚(N-乙烯基酰胺)聚合物；和(c3)重均分子量小于100,000道尔顿的阳离子聚合絮凝剂；以及一种抛光电子、机械和光学器件用基底材料的方法。

公开(公告)号：CN102597142B

公开(公告)日：2014-09-17

申请号：CN201080050637.1

申请日：2010-11-10

申请人： 巴斯夫欧洲公司

发明人： M·劳特尔 ,  V·I·莱曼 ,  Y·李 ,  S·S·文卡塔拉曼 ,  D·K-H·沈

IPC分类号： C08J5/14 ,  C09G1/02

摘要： 一种化学机械抛光(CMP)组合物，其包含：(A)至少一种分散于液体介质(C)中的无机粒子，(B)至少一种分散于液体介质(C)中的聚合物粒子，(C)液体介质，其中在液体介质(C)中的无机粒子(A)的ζ电位与在液体介质(C)中的聚合物粒子的ζ电位具有相同符号。

公开(公告)号：CN103249789A

公开(公告)日：2013-08-14

申请号：CN201180058705.3

申请日：2011-10-04

申请人： 巴斯夫欧洲公司

发明人： V·I·莱曼 ,  F·里蒂格 ,  Y·李 ,  W·L·W·邱

IPC分类号： C09G1/02 ,  H01L21/306

CPC分类号： H01L21/30625 ,  C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  G09G1/02 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/3212 ,  H01L21/7684

摘要： 本发明涉及含水抛光组合物，其包含：(A)磨料颗粒和(B)选自水溶性或水分散性表面活性剂的两亲性非离子表面活性剂，所述表面活性剂具有：(b1)选自具有10-18个碳原子的支化烷基的疏水基团；和(b2)选自聚氧化烯基团的亲水基团，所述聚氧化烯基团包含：(b21)氧化乙烯单体单元和(b22)取代氧化烯单体单元，其中取代基选自烷基、环烷基或芳基、烷基-环烷基、烷基-芳基、环烷基-芳基和烷基-环烷基-芳基，所述聚氧化烯基团含有呈无规、交替、梯度和嵌段分布的单体单元(b21)和(b22)；使用所述含水抛光组合物将具有图案化或未图案化低k或超低k电介质层的基材CMP的方法；和所述含水抛光组合物在生产电、机械和光学器件中的用途。