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公开(公告)号：CN103913951B
公开(公告)日：2019-01-08
申请号：CN201310757451.5
申请日：2013-12-30
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Abstract: 产酸剂和含有它的光刻胶。提供作为光刻胶组合物组分特别有用的产酸剂化合物。在一个优选的方面，提供光刻胶，包括：(i)一种聚合物；(ii)第一鎓盐产酸剂，当光刻胶组合物曝光于活化辐射时，其产生第一种酸；和(iii)第二鎓盐产酸剂，其1)含有共价键合的酸不稳定部分并且2)当光刻胶组合物曝光于活化辐射时，其产生第二种酸，其中第一种酸和第二种酸具有相差至少0.5的pKa值。
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公开(公告)号：CN104049463B
公开(公告)日：2017-09-12
申请号：CN201310757186.0
申请日：2013-11-19
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司 , 得克萨斯A&M大学系统
CPC classification number: G03F7/2004 , C08F2438/03 , C08G2261/126 , C08G2261/136 , C08G2261/146 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/40
Abstract: 本发明公开了包含接枝嵌段共聚物、光酸产生剂和交联剂的组合物，上述接枝嵌段共聚物包含第一嵌段聚合物和第二嵌段聚合物，第一嵌段聚合物包含主链聚合物和第一接枝聚合物，其中第一接枝聚合物包含表面能降低的部分，第二嵌段聚合物共价连接到第一嵌段，其中所述第二嵌段包含主链聚合物和第二接枝聚合物；其中第二接枝聚合物包含对交联接枝嵌段共聚物有效的官能团。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104672410A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201410455272.0
申请日：2014-09-09
Applicant: 得克萨斯A&M大学系统 , 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C08F299/00 , C08F293/00 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/038 , C08F293/005 , C08F2438/03 , C08G61/08 , C08G2261/126 , C08G2261/128 , C08G2261/136 , C08G2261/1426 , C08G2261/3324 , C08G2261/418 , C08G2261/80 , C08G2261/90 , C08L51/003 , G03F7/0002 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , C08F2220/185 , C08F220/22 , C08F2220/283
Abstract: 本发明涉及自组装结构、其制备方法以及包含该结构的制品。本发明公开了一种接枝嵌段共聚物，其含有第一嵌段聚合物和第二嵌段聚合物；所述第一嵌段聚合物含有主链聚合物和第一接枝聚合物；所述第一接枝聚合物含有包括卤代烃部分、含有硅的部分或卤代烃部分和含有硅的部分的组合的表面能降低部分；所述第二嵌段聚合物与所述第一嵌段共价结合；其中所述第二嵌段含有主链聚合物和第二接枝聚合物；所述第二接枝聚合物含有用于进行酸催化的脱保护反应的官能团，所述酸催化的脱保护反应会改变接枝嵌段共聚物在显影剂溶剂中的溶解性。
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公开(公告)号：CN104004128A
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：CN201410062164.7
申请日：2014-02-24
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C08F220/32 , C08F220/30 , C08F220/28 , C08F220/38 , C08F220/22 , G03F7/039 , G03F7/00
CPC classification number: C08F220/10 , C08F220/30 , C08F220/32 , C08F220/36 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 本发明涉及一种光敏共聚物，包含所述光敏共聚物的光刻胶，和形成一种电子器件的方法。一种共聚物，其包含共聚单体与具有式（I）的单体的聚合产物：其中c是0、1、2、3、4或5，Ra是H、F、-CN、C1-10烷基或C1-10氟烷基；Rx和Ry每个独立地是未取代的或取代的C1-10线型或支化的烷基基团、未取代或取代的C3-10环烷基基团、未取代或取代的C3-10烯基烷基基团、或未取代或取代的C3-10炔基烷基基团，其中Rx和Ry一起任选地形成环；Rz是由含有缩醛的基团或含有缩酮的基团取代的C6-20芳基基团，或由含有缩醛的基团或含有缩酮的基团取代的C3-C20杂芳基，其中C6-20芳基基团或C3-C20杂芳基可任选地被进一步取代。本发明还描述了：一种含有所述共聚物的光刻胶、具有所述光刻胶层的已涂覆的基材、和采用所述光刻胶制备电子器件的方法。
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公开(公告)号：CN103913951A
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201310757451.5
申请日：2013-12-30
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 产酸剂和含有它的光刻胶。提供作为光刻胶组合物组分特别有用的产酸剂化合物。在一个优选的方面，提供光刻胶，包括：(i)一种聚合物；(ii)第一鎓盐产酸剂，当光刻胶组合物曝光于活化辐射时，其产生第一种酸；和(iii)第二鎓盐产酸剂，其1)含有共价键合的酸不稳定部分并且2)当光刻胶组合物曝光于活化辐射时，其产生第二种酸，其中第一种酸和第二种酸具有相差至少0.5的pKa值。
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公开(公告)号：CN102153695B
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：CN201010625231.3
申请日：2010-12-30
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C08F220/32 , C08F220/18 , C08F220/30 , C08F220/38 , C08F220/34 , C08F220/28 , G03F7/039 , B32B27/06 , G03F7/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , C08F28/02 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/38 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/108 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , C08F2220/301 , C08F220/22
Abstract: 本发明为光敏组合物。提供了可用于光刻工艺中的辐射敏感聚合物和组合物。所述聚合物和组合物提高了对激活辐射的敏感度。
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公开(公告)号：CN101017326B
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN200710092309.8
申请日：2007-01-29
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/004 , G03F7/00 , C09D201/02
Abstract: 与外涂的光致抗蚀剂组合物一起使用的底层涂料组合物。一方面，涂料组合物是可交联的，并包括一种或多种含有一种或多种对酸不稳定的基团和/或一种或多种碱反应基团的组分，这些基团随后进行交联反应。另一个方面，经处理底层涂料组合物可提供调节的水接触角。优选的底层涂料组合物可在等离子体蚀刻剂中显示出增加的刻蚀速度。另外优选的涂料组合物可提高相关光致抗蚀剂组合物平版印刷的性能。
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