-
公开(公告)号：CN1900824B
公开(公告)日：2011-09-14
申请号：CN200610101351.7
申请日：2006-07-05
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/0392 , G03F7/091
Abstract: 提供与外涂的光刻胶组合物一起使用的打底涂料组合物。一方面，所述涂料组合物可被交联并含有一种或多种含有一种或多种酸不稳定基团和/或一种或多种碱活性基团的组分，所述碱活性基团在交联之后是反应性的。另一方面，提供打底涂料组合物，该打底涂料组合物可进行处理，以得到已调节的水接触角。优选的涂料组合物可提高相关的光刻胶组合物的平版印刷性能。
-
公开(公告)号：CN1900824A
公开(公告)日：2007-01-24
申请号：CN200610101351.7
申请日：2006-07-05
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/0392 , G03F7/091
Abstract: 提供与外涂的光刻胶组合物一起使用的打底涂料组合物。一方面，所述涂料组合物可被交联并含有一种或多种含有一种或多种酸不稳定基团和/或一种或多种碱活性基团的组分，所述碱活性基团在交联之后是反应性的。另一方面，提供打底涂料组合物，该打底涂料组合物可进行处理，以得到已调节的水接触角。优选的涂料组合物可提高相关的光刻胶组合物的平版印刷性能。
-
公开(公告)号：CN105824197A
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201610177374.X
申请日：2010-05-20
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC classification number: G03F7/11 , C09D167/02 , G03F7/0045 , G03F7/091 , H01L21/0271 , C08G73/0655
Abstract: 本发明提供了一种与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物，其中该涂料组合物包含一种包含氰尿酸酯基团和疏水性基团的树脂。所述涂料组合物可以增强外涂光刻胶浮雕像的分辨率。
-
公开(公告)号：CN101030037B
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：CN200710084492.7
申请日：2007-02-27
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/004 , G03F7/16 , C09D201/08
CPC classification number: G03F7/091 , C08L33/066 , C08L35/00 , C08L67/00 , C08L2312/00 , C09D133/064 , C09D133/066 , C09D133/12 , C09D135/00 , C09D145/00 , C09D167/02 , G03F7/094 , G03F7/2004 , G03F7/2041 , H01L21/0276 , C08L2666/18 , C08L2666/04
Abstract: 提供了有机涂料组合物，该组合物包括减反射涂料组合物，该减反射涂料组合物能够减少从基片反射回外涂的光刻胶层的曝光辐射和/或作为平面化层或通路填充层。本发明优选的有机涂料组合物包含一种或多种树脂，这些树脂能够在进行热处理时发生硬化，且不会产生裂解产物。本发明特别优选的有机涂料组合物包含一种或多种含有酐部分和羟基部分的组分。
-
公开(公告)号：CN1737685A
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN200510109853.X
申请日：2005-07-04
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Inventor： M·K·加拉赫 , G·B·韦顿 , G·P·普罗科波维奇 , S·A·罗伯特森
CPC classification number: G03F7/2041 , G03F7/0046 , G03F7/11
Abstract: 本发明涉及涂覆在用于浸渍光刻工艺的光刻胶组合物上的阻挡组合物。另一方面，提供用于浸渍光刻工艺的新方法。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1737685B
公开(公告)日：2010-08-04
申请号：CN200510109853.X
申请日：2005-07-04
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Inventor： M·K·加拉赫 , G·B·韦顿 , G·P·普罗科波维奇 , S·A·罗伯特森
CPC classification number: G03F7/2041 , G03F7/0046 , G03F7/11
Abstract: 本发明涉及涂覆在用于浸渍光刻工艺的光刻胶组合物上的阻挡组合物。另一方面，提供用于浸渍光刻工艺的新方法。
-
公开(公告)号：CN101030037A
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200710084492.7
申请日：2007-02-27
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/004 , G03F7/16 , C09D201/08
CPC classification number: G03F7/091 , C08L33/066 , C08L35/00 , C08L67/00 , C08L2312/00 , C09D133/064 , C09D133/066 , C09D133/12 , C09D135/00 , C09D145/00 , C09D167/02 , G03F7/094 , G03F7/2004 , G03F7/2041 , H01L21/0276 , C08L2666/18 , C08L2666/04
Abstract: 提供了有机涂料组合物，该组合物包括减反射涂料组合物，该减反射涂料组合物能够减少从基片反射回外涂的光刻胶层的曝光辐射和/或作为平面化层或通路填充层。本发明优选的有机涂料组合物包含一种或多种树脂，这些树脂能够在进行热处理时发生硬化，且不会产生裂解产物。本发明特别优选的有机涂料组合物包含一种或多种含有酐部分和羟基部分的组分。
-
公开(公告)号：CN101017326A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200710092309.8
申请日：2007-01-29
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/004 , G03F7/00 , C09D201/02
Abstract: 与外涂的光致抗蚀剂组合物一起使用的底层涂料组合物。一方面，涂料组合物是可交联的，并包括一种或多种含有一种或多种对酸不稳定的基团和/或一种或多种碱反应基团的组分，这些基团随后进行交联反应。另一个方面，经处理底层涂料组合物可提供调节的水接触角。优选的底层涂料组合物可在等离子体蚀刻剂中显示出增加的刻蚀速度。另外优选的涂料组合物可提高相关光致抗蚀剂组合物平版印刷的性能。
-
公开(公告)号：CN101788763B
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN200910261590.2
申请日：2005-07-04
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Inventor： M·K·加拉赫 , G·B·韦顿 , G·P·普罗科波维奇 , S·A·罗伯特森
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/2041 , G03F7/0046 , G03F7/11
Abstract: 本发明涉及一种用于处理光刻胶组合物的方法，它包括：(a)将光刻胶组合物涂覆在基材上；(b)在该光刻胶组合物上涂覆有机阻挡组合物层；(c)在单独的步骤中，热处理所涂覆的光刻胶组合物和阻挡层组合物，以从所涂覆的光刻胶组合物和阻挡层组合物中除去溶剂，其中在涂覆所述阻挡层组合物之前，并不通过热处理除去所述光刻胶组合物的溶剂；和(d)将该光刻胶层浸渍曝光于活化辐射中。本发明主要涉及浸渍光刻技术的新材料和工艺。
-
公开(公告)号：CN101017326B
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN200710092309.8
申请日：2007-01-29
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/004 , G03F7/00 , C09D201/02
Abstract: 与外涂的光致抗蚀剂组合物一起使用的底层涂料组合物。一方面，涂料组合物是可交联的，并包括一种或多种含有一种或多种对酸不稳定的基团和/或一种或多种碱反应基团的组分，这些基团随后进行交联反应。另一个方面，经处理底层涂料组合物可提供调节的水接触角。优选的底层涂料组合物可在等离子体蚀刻剂中显示出增加的刻蚀速度。另外优选的涂料组合物可提高相关光致抗蚀剂组合物平版印刷的性能。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
12
records
(took 0.023 seconds)
