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公开(公告)号：CN115485804A
公开(公告)日：2022-12-16
申请号：CN202180032940.7
申请日：2021-03-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/147 , H01J37/28
Abstract: 一种装置包括被定位在第一层中、被配置为影响带电粒子束的第一带电粒子束操纵器和被定位在第二层中、被配置为影响带电粒子束的第二带电粒子束操纵器。第一带电粒子束操纵器和第二带电粒子束操纵器各自可以包括具有第一组相对电极和第二组相对电极的多个电极。电连接到第一组的第一驱动器系统可以被配置为向第一组提供多个离散输出状态。电连接到第二组的第二驱动器系统可以被配置为向第二组提供多个离散输出状态。第一带电粒子束操纵器和第二带电粒子束操纵器各自可以包括多个段；以及控制器，具有被配置为个体地控制多个段中的每段的操作的电路系统。
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公开(公告)号：CN111681939A
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN202010663424.1
申请日：2016-07-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/147 , H01J37/06 , H01J37/12 , H01J37/141 , H01J37/145 , H01J37/28
Abstract: 提出了一种用于以高分辨率和高生产能力观察样本的多束装置。在该装置中，源转换单元通过使来自一个单电子源的平行初级电子束的多个小束偏转来形成该单电子源的多个且平行的图像，并且一个物镜将多个偏转的小束聚焦到样本表面上，并在样本表面上形成多个探测点。可移动聚光透镜用于使初级电子束准直，并改变多个探测点的电流，预小束形成部件弱化初级电子束的库仑效应，并且源转换单元通过最小化并补偿物镜和聚光透镜的离轴像差来最小化多个探测点的尺寸。
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公开(公告)号：CN111527582A
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN201880064414.7
申请日：2018-10-02
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/28
Abstract: 已经公开了一种用于多光束检查的多光束装置，其具有改进的源转换单元，该改进的源转换单元具有高电气安全性、机械可用性以及机械稳定性。该源转换单元包括具有多个图像形成元件的图像形成元件阵列、具有多个微补偿器的畸变补偿器阵列、以及具有多个预弯曲微偏转器的预弯曲元件阵列。在阵列中的每个中，相邻元件被放置在不同层中，并且一个元件阵列包括放置在不同层中的两个或更多个子元件。微补偿器的子元件可以具有不同的功能，诸如微透镜和微消象散器。
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公开(公告)号：CN111183503A
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201880063453.5
申请日：2018-09-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 刘学东
IPC: H01J37/26 , H01J37/302 , H01J37/147
Abstract: 公开了用于调节带电粒子的束状态的设备和方法。根据某些实施例，该设备包括在孔上方移位的一个或多个第一多极透镜，该一个或多个第一多极透镜被配置为调节穿过孔的带电粒子束的束电流。该设备还包括在孔下方移位的一个或多个第二多极透镜，该一个或多个第二多极透镜被配置为调节束的斑尺寸和斑形状中的至少一项。
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公开(公告)号：CN113646865B
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202080025519.9
申请日：2020-03-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了一种支持多种操作模式的多束检查设备。支持多种操作模式的用于检查样品的带电粒子束设备包括被配置为沿着主光轴发射带电粒子束的带电粒子束源、在第一位置与第二位置之间能够移动的可移动孔板、以及控制器，控制器具有电路系统并且被配置为改变该设备的配置以在第一模式与第二模式之间进行切换。在第一模式下，可移动孔板位于第一位置并且被配置为允许源自带电粒子束的第一带电粒子束波穿过。在第二模式下，可移动孔板位于第二位置并且被配置为允许第一带电粒子束波和第二带电粒子束波穿过。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112889127B
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN201980068721.7
申请日：2019-09-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/28 , H01J37/317
Abstract: 公开了一种改进的带电粒子束检查装置，并且更具体地，公开了一种包括改进的对准机制的粒子束检查装置。一种改进的带电粒子束检查装置可以包括第二电子检测器件，该第二电子检测器件用以在该对准模式期间生成多个次级电子束中的一个或多个束斑点的一个或多个图像。该束斑点图像可以被用来确定该多个次级电子束中的一个或多个次级电子束的对准特性，并且调节次级电子投影系统的配置。
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公开(公告)号：CN112352301B
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN201980039657.X
申请日：2019-06-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种改进的用于使用粒子束检查装置检查样品的系统和方法，更具体地，一种利用多个带电粒子束扫描样品的系统和方法。一种使用N个带电粒子束扫描样品区域的改进的方法，其中N是大于或等于2的整数，并且其中样品区域包括N个连续扫描线的多个扫描区段，该方法包括使样品在第一方向上移动。该方法还包括利用N个带电粒子束中的第一带电粒子束扫描多个扫描区段中朝向第一带电粒子束的探测斑点移动的至少部分扫描区段的第一扫描线。该方法还包括利用N个带电粒子束中的第二带电粒子束扫描多个扫描区段中朝向第二带电粒子束的探测斑点移动的至少部分扫描区段的第二扫描线。此外，一种提供多束工具，包括：束配置系统，包括被配置为生成带电粒子的一次束的带电粒子源、被配置为保持样品的载物台、以及位于带电粒子源与载物台之间配置成将一次束分成束阵列的偏转器系统；其中所述束配置系统被配置为提供旋转束配置，所述旋转束配置具有基于所述束阵列的行中的束数量而确定的旋转角度。
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公开(公告)号：CN111819654B
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN201980017872.X
申请日：2019-02-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/28 , H01J37/147 , H01J37/29
Abstract: 本公开提出了一种用于将多个电子束引导到电子检测装置上的光电系统的交叉形成偏转器阵列。交叉形成偏转器阵列包括位于光电系统的一个或多个光电透镜的集合的图像平面处或至少附近的多个交叉形成偏转器，其中每个交叉形成偏转器与多个电子束中的对应的电子束对准。
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公开(公告)号：CN116313708A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310393035.5
申请日：2017-12-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/141 , H01J37/28 , G01N23/2251
Abstract: 本公开提出一种防旋转透镜，并将其用作具有预子射束形成机构的多射束装置中的防旋转聚光透镜。防旋转聚光透镜在改变其电流时保持子射束的旋转角度不变，从而使得预子射束形成机构能够尽可能多地阻断未使用的电子。以这种方式，多射束装置可以以高分辨率和高吞吐量观察样本，并且能够用作检查和/或查看半导体制造工业中的晶片/掩模上的缺陷的产量管理工具。
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公开(公告)号：CN115881498A
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202211651256.X
申请日：2018-07-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/05 , H01J37/14 , H01J37/153 , H01J37/147 , H01J37/244 , H01J37/28
Abstract: 提供了用于补偿单束或多束设备中的分束器的色散的系统和方法。本公开的实施例提供了分散装置，分散装置包括被配置为诱导束色散的静电偏转器和磁性偏转器，束色散被设置以消除由分束器生成的色散。静电偏转器和磁性偏转器的组合可以用于在所诱导的束色散被改变以补偿由分束器生成的色散变化时，将由于分散装置引起的偏转角保持不变。在一些实施例中，由于分散装置而引起的偏转角可以被控制为零，并且没有由于分散装置而引起的初级束轴变化。
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