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公开(公告)号：CN101131231A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200710139069.2
申请日：2007-07-24
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 古畝孝幸
Abstract: 本发明提供一种光源装置，其能够简单且准确地检测到灯在光源装置上的安装状态。光源装置的灯头座(30)上设置有检测用光源(41A)、通过灯头座(30)的光纤的光传送路径(40A、40B)以及受光部(41B)。在未安装灯的灯头(20)的状态下，来自检测用光源(41A)的光经由光传送路径(40A、40B)被受光部(41B)感知。当灯的灯头(20)安装在灯头座(30)上时，从检测用光源(41A)发出的光被灯头的突出部遮断，能够利用受光部(41B)感知到安装有灯。通过受光部(41B)的检测输出，控制灯的点亮/非点亮。
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公开(公告)号：CN101082781A
公开(公告)日：2007-12-05
申请号：CN200710104680.1
申请日：2007-05-29
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 鹫山裕之
IPC: G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种描图系统，从而在描图处理中，不必根据know－how的知识的设定而形成适当的描图图案。根据预设的发光长度，根据二个式子而算出曝光动作间距(Epm)及扫瞄速度(Vm)。然后，在各种曝光量与发光长度以及与其对应的扫瞄速度与曝光动作间距中，对应于所选择的曝光量及发光长度而决定扫瞄速度及曝光动作间距，并将其作为曝光参数而在描图处理中做设定。
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公开(公告)号：CN101063826A
公开(公告)日：2007-10-31
申请号：CN200710092240.9
申请日：2007-04-02
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种投影曝光装置，抑制了装置的水平方向及垂直方向的大小而使其设置容积比现有的装置的设置容积小。投影曝光装置(20)使用配置于铅直方向的曝光台(24)，将掩模(M)的图案利用照射光投影在膜带状的工件(F)上而进行曝光，该投影曝光装置包括：搬运机构(25)，其将工件于铅直方向朝曝光台移动；以及投影光学机构，其具有戴森光学系统(23)，该戴森光学系统(23)配置在与该搬运机构以曝光台为边界的相邻位置上，戴森光学系统配置成使得入射到该戴森光学系统的照射光的光轴以及从该戴森光学系统射出的照射光的光轴与曝光台上的工件成正交。
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公开(公告)号：CN101025575A
公开(公告)日：2007-08-29
申请号：CN200710078862.6
申请日：2007-02-16
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 田端秀敏
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/00
Abstract: 本发明提供基板曝光装置与基板曝光方法。不需要推动基板的端面使之变形而给予负荷的方式的预定位机构，适用于大型且薄的基板的基板且可进行高精度曝光。基板曝光装置包括：曝光用光学系统(22)；曝光台(16)；晒相框(19)，其经由透光板支撑掩模；第一摄影装置(27)，其对调整标记M1、M2摄影；第二摄影装置(23)，其透过上述透光板，对上述基板的至少二边摄影；该第二摄影装置用的照明装置；控制装置(25)，其分析由上述第二摄影装置拍摄的图像，控制上述曝光台以对上述基板预定位，使得上述基板与上述掩模的各调整标记(24)进入上述第一摄影装置的视野内，并且分析由上述第一摄影装置所拍摄的图像，控制上述曝光台以调整上述基板的调整标记与上述掩模的调整标记。
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公开(公告)号：CN1953137A
公开(公告)日：2007-04-25
申请号：CN200610135727.6
申请日：2006-10-18
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: H01J61/36
Abstract: 本发明提供一种放电灯密封结构。在密封放电灯的组装工序中，能够准确高效地将安装部装配于放电管上。在电极(10)的内部导线棒(12)的圆周面上卷绕玻璃管固定部件(40)。在圆筒状的内部玻璃管(14)中插通内部导线棒(12)。从玻璃管固定部件(40)的卷绕部(40A)延伸出舌状的止挡部(40B)。使从内部玻璃管(14)的端面突出的止挡部(40B)弯曲，避免内部玻璃管(14)沿管轴方向的移动。在卷绕部(40A)和内部玻璃管(14)之间，设置与内部导线棒(12)同轴的卷绕箔(46)。玻璃管固定部件(40)含有钽、铌、钨、钼中的任意成分。卷绕部(40A)含有钽或铌，卷绕箔(46)含有钽、铌、钨、钼中的任意成分。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1941269A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200610139397.8
申请日：2006-09-27
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: H01J61/26
Abstract: 本发明提供了一种短弧型放电灯，防止在亮灯时在一对电极位于上下的短弧型放电灯的光照射面上附着黑化物，不使照度下降。在上侧的阳极电极(4)的发光管端侧端面设置凹部(12)。凹部(12)的断面形状是凹字型、U字型、レ字型或V字型。借助凹部(12)使来自发光管(1)的上端部的对流气体再次循环到发光管(1)的上端部。通过阳极电极(4)的侧面的上升气流朝向发光管(1)的上端。下降气流和上升气流的合流气流与发光管(1)的上端附近的内面碰撞。由于包含黑化成分的气流与大大偏离了光照射所需要的发光管面区域的位置碰撞，因而可防止光照射所需要的面的黑化。
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公开(公告)号：CN1309008C
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN03126489.1
申请日：2003-09-28
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: H01J65/00
Abstract: 本发明提供一种可廉价且可靠地制造外侧电极的受激准分子灯。该受激准分子灯包含由形成为同轴圆筒状的内管(11)和外管(12)组成的放电管(10)，并通过在内管(11)的内侧的内侧电极(13)和配置于外管(12)的外表面的外侧电极(14)之间施加高电压，使封在内管(11)和外管(12)之间的空间(15)内的气体放电发光，其特征在于，外侧电极(14)是把金属电极图案从转印纸转印到外管(12)的表面并进行烧结形成的。根据本发明的实施方式，外侧电极(14)是具有70%以上的开口率的网状电极。外侧电极(14)是采用金、银、铂、镍或铬金属，或者两种或两种以上这些金属的合金形成的。
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公开(公告)号：CN1929084A
公开(公告)日：2007-03-14
申请号：CN200610151468.6
申请日：2006-09-08
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 安达伸雄
Abstract: 本发明提供一种高亮度放电灯和使用该高亮度放电灯的照射装置。对复合型高亮度放电灯的不同波长的光进行独立控制，从同一方向照射被照射物，使照射装置小型化。使用第1透明电介质管(1)和第2透明电介质管(4)构成独立的多个放电空间(D1和D2)。在各放电空间内填充放电发光介质(A和B)，形成不同的等离子体状态，产生不同波长的光。对设置在各透明电介质管(1、3、4)内的共同电极(2)与电极(5、6)之间独立施加高频电力，使各放电发光介质(A和B)单独发光。不同波长的光通过透明电介质管(1、3、4)朝同一方向放射。
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公开(公告)号：CN1913097A
公开(公告)日：2007-02-14
申请号：CN200610115445.X
申请日：2006-08-09
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: H01J65/00
Abstract: 本发明提供了一种受激准分子灯，能够防止受激准分子灯的石英玻璃制放电容器产生由紫外线劣化引起的裂纹，延长灯具寿命。在受激准分子灯的石英玻璃制的内管(1)的外侧圆筒面上涂布含有紫外线吸收物质的溶剂。使溶剂干燥来形成紫外线吸收物质的膜，之后以大于等于900℃且小于等于内管的软化点的温度进行热处理，使紫外线吸收物质从内管的外侧圆筒面扩散到石英玻璃内。进行氟酸清洗来去除紫外线吸收物质的膜。扩散物质是Ti、Ce以及Zr中的任意1种以上的物质。扩散浓度在接近放电空间的侧变浓。可防止紫外线入射到内管(1)中，可延长灯具寿命。
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公开(公告)号：CN1297834C
公开(公告)日：2007-01-31
申请号：CN200410045545.0
申请日：2004-05-28
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 李
IPC: G02B15/16 , G02B13/22 , G02B17/08 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70258 , G02B27/0043
Abstract: 一种投影曝光装置的投影光学系统，用于在印刷电路板及LCD基板等的工件上进行规定图案的曝光。投影光学系统(1)包括：反射体(4)，设有改变投影光的行进方向的第一反射面(4a)及第二反射面(4b)；入射侧凸透镜(2)，使所述投影光折射通过，并将其引导向所述反射体的第一反射面；出射侧凸透镜(3)，使从所述反射体的第二反射面反射的所述投影光射出；以及支撑移动机构(8)，将所述两凸透镜支撑为相距规定的距离的同轴状态，并使其能够相对光轴方向进行平行移动；反射修正光学系(7)，将第一反射面所反射的投影光反射到第二反射面，所述反射修正光学系具有凹面反射镜(6)以及修正光学系(5)。以此，当进行倍率调整时，减小图案的变形，保证成像的质量。
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