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公开(公告)号:CN102533098B
公开(公告)日:2017-04-12
申请号:CN201110428362.7
申请日:2011-12-19
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09D183/00 , C09D133/00 , C09D7/12 , B32B9/04
Abstract: 本发明提供用于形成平坦性高、耐白化性、耐水性、耐化学品性等优良的透明被膜的涂布液及带该透明被膜的基材。透明被膜形成用涂布液是由基质形成成分和金属氧化物微粒和溶剂构成的透明被膜形成用涂布液,其特征在于,含有作为均化剂的平均分子量在5000~30000的范围的丙烯酸‑有机硅系树脂,且均化剂的含量以固体成分计在0.001~7.2重量%的范围。带透明被膜的基材由基材和形成于基材上的透明被膜构成,该透明被膜由基质成分和金属氧化物微粒形成,还含有作为均化剂的平均分子量在5000~30000的范围的丙烯酸‑有机硅系树脂,该基质成分的含量以固体成分计在20~99.5重量%的范围,该金属氧化物微粒的含量以固体成分计在0.5~80重量%的范围。
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公开(公告)号:CN102408798A
公开(公告)日:2012-04-11
申请号:CN201110212725.3
申请日:2011-07-19
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09D133/00 , C09D5/24 , B32B23/08 , B32B27/18
Abstract: 本发明提供导电性无机氧化物微粒的掺入量少的情况下也能够具有高导电性,透明性高,着色以及干涉条纹被抑制,经济性也良好的可形成带透明被膜的基材的透明被膜形成用涂布液。本发明的透明被膜形成用涂布液含有导电性无机氧化物微粒、基质形成成分以及分散介质,所述导电性无机氧化物微粒经以下述式(1)表示的有机硅化合物表面处理而形成,分散介质含有酮类,总固体成分的浓度在1-60质量%的范围内,表面处理了的导电性无机氧化物微粒为非凝聚且高分散,其作为固体成分的浓度在0.01-6质量%的范围内,基质形成成分的固体成分的浓度在0.1-59.4质量%的范围内,获得的透明被膜中导电性无机氧化物微粒能形成为链状结构,Rn-SiX4-n (1)其中,R为碳数1-10的非取代或取代的烃基,相互相同或不同,X:碳数1-4的烷氧基、羟基、卤素、氢、n:0-3的整数。
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公开(公告)号:CN101312909B
公开(公告)日:2011-11-16
申请号:CN200680043928.1
申请日:2006-11-17
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C01B33/18 , C09D7/12 , C09D201/00
CPC classification number: C08K7/26 , B01J21/08 , B82Y30/00 , C01B33/126 , C01B33/146 , C01B33/149 , C01B33/18 , C01P2002/88 , C01P2004/34 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C01P2006/12 , C01P2006/60 , C08K9/04 , C09C1/30 , C09C1/3063 , C09D7/67 , C09D7/68 , C09D7/70 , C09D133/14 , C09D183/08 , Y10T428/265 , Y10T428/2993 , Y10T428/2996
Abstract: 本发明提供一种可抑制透明涂膜泛白、可发挥优异的耐划擦性或密合性的中空二氧化硅微粒和其制造方法。本发明涉及一种通过动态光散射法测定的平均粒径为5~300nm、比表面积为50~1500m2/g、外壳的内部形成空洞的中空二氧化硅微粒,通过进行热重量测定(TG),在200℃~500℃的温度范围内显示出1.0重量%以上的重量减少。另外,此中空二氧化硅微粒在200℃~500℃的温度范围内的差热分析测定(DTA)中具有正的DTA峰。
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公开(公告)号:CN118043411A
公开(公告)日:2024-05-14
申请号:CN202280062506.8
申请日:2022-10-31
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
Abstract: 本发明提供了一种在分散介质中或在树脂中分散性高的粒子的分散液,其中,所述粒子具有包含硅的外壳、以及其内侧的空腔,有机硅化合物精密地负载于所述粒子的表面。该粒子含有官能团和硅。通过该粒子的图像解析得到的一次粒径的平均值为20nm~250nm,该粒子的碳含量为0.5质量%~10质量%。相对于该粒子100质量份,从含有该粒子的分散液中除去粒子后的液体中所含的有机硅化合物的量以固体成分计为0.50质量份以下。根据该分散液,可以得到能够制作覆膜的涂布液,所述覆膜具有低反射率,与基材的密合性优异,具有高硬度和强度。
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公开(公告)号:CN112573526B
公开(公告)日:2024-03-29
申请号:CN202011031633.0
申请日:2020-09-27
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C01B33/141 , B82Y40/00 , C09D7/62 , C09D133/00 , C08J7/046 , C08L1/12
Abstract: 本发明提供能够得到与基材的粘附性优异、具有高硬度及高强度的透明被膜的涂布液。涂布液中包含的粒子具有包含二氧化硅的致密外壳并且在其外壳的内侧具有空洞。粒子的平均粒径(D)为20~250nm,空洞的直径为粒子直径的0.5~0.9倍,粒子的利用N2吸附法的孔容小于1.0cm3/g,粒子的折射率(na)为1.08~1.34,利用式(1)求出的所述外壳的折射率(nS)为1.38以上。使用该涂布液后的带透明被膜的基材具有高硬度及高强度,尤其是对防止反射有用。
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公开(公告)号:CN113462219B
公开(公告)日:2024-03-12
申请号:CN202110342025.X
申请日:2021-03-30
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09D5/24 , C09D183/04 , C09D7/20
Abstract: [技术问题]提高含有导电粒子以及结合至该导电粒子的粘合剂成分的涂布液的保存稳定性。[技术手段]根据本发明的用于形成导电膜的涂布液含有链状导电粒子、高沸点溶剂、低沸点溶剂以及可结合至链状导电粒子的烷氧基硅烷低聚物。在该涂布液中,相对于链状导电粒子和烷氧基硅烷低聚物的总量,含有35质量%~75质量%的链状导电粒子;在用动态光散射式粒度分布计测定的涂布液的粒径分布中,平均粒径为100nm以上;以体积为基准,从粒径小的一侧累积到16%时的粒径D16与累积到84%时的粒径D84之间的差(D84‑D16)为200nm以上。
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公开(公告)号:CN117295691A
公开(公告)日:2023-12-26
申请号:CN202280033973.8
申请日:2022-05-11
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C01G23/053
Abstract: 一种金红石型氧化钛颗粒,其固溶有Fe和Zr,通过X射线衍射测定得到的(110)面的面间距为0.3250nm以上,平均粒径为5nm以上且50nm以下的范围。
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公开(公告)号:CN116769394A
公开(公告)日:2023-09-19
申请号:CN202310227685.2
申请日:2023-03-10
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
Abstract: [技术问题]提供一种可以形成低折射率且耐擦伤性高的膜的涂布液。[技术手段]在包含(甲基)丙烯酸酯基数为3个~8个的第一粘合剂以及中空粒子的涂布液中,使第一粘合剂的环氧烷烃平均加成摩尔数为3~8。此外,使环氧烷烃平均加成摩尔数(A1)与(甲基)丙烯酸酯基数(B1)的比[A1/B1]小于2。通过使用这样的涂布液形成膜,膜的折射率变低。此外,膜的耐擦伤性变高。
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公开(公告)号:CN116724362A
公开(公告)日:2023-09-08
申请号:CN202280009989.5
申请日:2022-01-27
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: H01B1/20
Abstract: 本发明提供一种即使在低pH区域内也具有良好分散稳定性的链状粒子的分散液。即,是ATO粒子连接而成的链状粒子的分散液,ATO粒子的平均粒径为5nm~20nm,链状粒子含有氧化硅,链状粒子的平均连接数为3~40,链状粒子的等电点小于pH2.0。根据使用这样的链状粒子的分散液制备的涂料,即使粒子的含量少,也能够形成表面电阻值低、与基材的粘着性优异的膜。此外,该链状粒子含有氧化锡和氧化锑,相对于它们的总和,优选含有氧化硅0.5重量%~10重量%、氧化锡70重量%~95重量%以及氧化锑4.5重量%~29.5重量%。
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公开(公告)号:CN116568391A
公开(公告)日:2023-08-08
申请号:CN202280008014.0
申请日:2022-01-17
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: B01J13/02
Abstract: 提供具有抗菌性且具有含硅外壳及其内侧的空腔的颗粒。该颗粒以氧化物为基准含有0.5质量%~40质量%的抗菌性金属成分,在含硅外壳的内侧具有空腔。颗粒的空隙率为10%~90%,并且所述空腔为一个的颗粒相对于全部颗粒的个数比例为80%以上。使用了该颗粒的带透明覆膜基材具有足够的硬度和强度以及高抗菌性,特别是在防反射用途中有用。
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