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公开(公告)号：CN115881498A
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202211651256.X
申请日：2018-07-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/05 , H01J37/14 , H01J37/153 , H01J37/147 , H01J37/244 , H01J37/28
Abstract: 提供了用于补偿单束或多束设备中的分束器的色散的系统和方法。本公开的实施例提供了分散装置，分散装置包括被配置为诱导束色散的静电偏转器和磁性偏转器，束色散被设置以消除由分束器生成的色散。静电偏转器和磁性偏转器的组合可以用于在所诱导的束色散被改变以补偿由分束器生成的色散变化时，将由于分散装置引起的偏转角保持不变。在一些实施例中，由于分散装置而引起的偏转角可以被控制为零，并且没有由于分散装置而引起的初级束轴变化。
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公开(公告)号：CN111213219B
公开(公告)日：2023-03-10
申请号：CN201880060710.X
申请日：2018-09-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·G·M·J·玛森 , P·P·亨佩尼尤斯 , 任伟明 , 陈仲玮
Abstract: 一种带电粒子束装置包括子束形成单元，该子束形成单元被配置为在样品(440)上形成子束阵列(410)并且对其进行扫描。子束阵列的第一部分被聚焦到焦平面(430)上，并且子束阵列的第二部分具有至少一个子束，该至少一个子束相对于焦平面具有离焦水平(490)。该带电粒子束装置还包括检测器，其被配置为检测由子束阵列形成的样品的图像；以及处理器，其被配置为基于检测的图像来估计焦平面与样品之间的分隔水平，并且然后基于估计水平来减小分隔水平。
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公开(公告)号：CN115151997A
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202080084220.0
申请日：2020-09-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了在带电粒子束设备的多种操作模式中提供探测斑的系统和方法。该方法可以包括：激活带电粒子源以生成初级带电粒子束，并且在带电粒子束设备的第一操作模式和第二操作模式之间进行选择。在泛射模式中，聚束透镜可以使通过孔径板中的孔径的初级带电粒子束的至少第一部分聚焦，以形成初级带电粒子束的第二部分，并且第二部分中的基本上所有带电粒子被用来泛射样品的表面。在检查模式中，聚束透镜可以使初级带电粒子束的第一部分聚焦，使得孔径板中的孔径阻挡外围带电粒子束，以形成用于检查样品表面的初级带电粒子束的第二部分。
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公开(公告)号：CN114420523A
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202210041735.3
申请日：2016-11-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/145 , H01J37/05 , H01J37/153 , H01J37/28 , G01N23/2251
Abstract: 本发明涉及多个带电粒子束的设备。提出了一种多束设备中的二次投影成像系统，该二次投影成像系统使二次电子检测具有高收集效率和低串扰。该系统采用一个变焦透镜，一个投影透镜和一个防扫描偏转单元。变焦透镜和投影透镜分别执行变焦功能和防旋转功能，以相对于多个一次细束的着陆能量和/或电流保持总成像放大倍率和总图像旋转。防扫描偏转单元执行防扫描功能以消除由于多个一次细束的偏转扫描而导致的动态图像移位。
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公开(公告)号：CN113906535A
公开(公告)日：2022-01-07
申请号：CN202080040172.5
申请日：2020-05-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/145 , H01J37/147 , H01J37/21 , H01J37/26
Abstract: 公开了一种降低带电粒子束设备中库仑相互作用效应的系统和方法。带电粒子束设备可以包括带电粒子源和源转换单元，该源转换单元包括：孔径透镜形成电极板，被配置为处于第一电压；孔径透镜板，被配置为处于与第一电压不同的第二电压以用于生成第一电场，使得孔径透镜形成电极板和孔径透镜板能够形成孔径透镜阵列的孔径透镜以分别使带电粒子束的多个子束聚焦；以及成像透镜，被配置为使多个子束聚焦在像平面上。带电粒子束设备可以包括物镜，该物镜被配置为将多个子束聚焦到样品的表面上并在样品的表面上形成多个探测斑。
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公开(公告)号：CN113192815A
公开(公告)日：2021-07-30
申请号：CN202110492081.1
申请日：2017-01-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/06 , H01J37/145 , H01J37/147 , H01J37/22 , H01J37/28 , G01N23/00
Abstract: 本公开的实施例涉及多个带电粒子束的装置。提出了一种具有尺寸、取向和入射角可变的总FOV的新多束装置。新装置提供了加速样本观察和使得更多样本可观察的更大灵活性。更具体地，作为在半导体制造工业中检查和/或审查晶片/掩模上的缺陷的产量管理工具，新装置提供了实现高吞吐量和检测更多种类的缺陷的更多可能性。
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公开(公告)号：CN113056806A
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN201980075411.8
申请日：2019-10-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/145 , H01J37/28 , H01J37/143
Abstract: 电磁复合透镜可以被配置为聚焦带电粒子束。复合透镜可以包括设置在次级光轴上的静电透镜和也设置在次级光轴上的磁透镜。磁透镜可以包括永磁体。带电粒子光学系统可以包括束流分离器，该束流分离器被配置为将由源沿初级光轴生成的初级带电粒子束的多个束波与次级带电粒子的次级光束分开。该系统可以包括次级成像系统，该次级成像系统被配置为沿次级光轴将次级光束聚焦到检测器上。次级成像系统可以包括复合透镜。
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公开(公告)号：CN112041965A
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：CN201980029418.6
申请日：2019-04-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/317
Abstract: 公开了一种带电粒子束装置的改进的源转换单元。源转换单元包括第一微结构阵列，该第一微结构阵列包括多个微结构。多个微结构被分组为一个或多个组。一个组中的微结构的对应电极由驱动器电连接和驱动以影响对应的一组束波。一个组中的微结构可以是单极结构或多极结构。一个组中的微结构具有相对于装置的光轴的相同或基本相同的径向偏移。一个组中的微结构相对于其径向偏移方向具有相同或基本相同的取向角。
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公开(公告)号：CN111819654A
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN201980017872.X
申请日：2019-02-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/28 , H01J37/147 , H01J37/29
Abstract: 本公开提出了一种用于将多个电子束引导到电子检测装置上的光电系统的交叉形成偏转器阵列。交叉形成偏转器阵列包括位于光电系统的一个或多个光电透镜的集合的图像平面处或至少附近的多个交叉形成偏转器，其中每个交叉形成偏转器与多个电子束中的对应的电子束对准。
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公开(公告)号：CN111164725A
公开(公告)日：2020-05-15
申请号：CN201880063509.7
申请日：2018-09-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本文公开了一种设备，该设备包括：带电粒子源，被配置为沿设备的主束轴发射带电粒子束；聚束透镜，被配置为使得束围绕主束轴集中；开孔；第一多极透镜；第二多极透镜；其中第一多极透镜相对于聚束透镜处于下游、并且相对于第二多极透镜处于上游；其中第二多极透镜相对于第一多极透镜处于下游、并且相对于开孔处于上游。
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