半导体激光装置
    45.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1213525C

    公开(公告)日:2005-08-03

    申请号:CN02160239.5

    申请日:2002-11-27

    申请人: 夏普公司

    IPC分类号: H01S5/00 G11B7/125

    摘要: 在本发明的半导体激光装置中,一P型扩散区(3A)被设置在硅底衬(16)的N-外延层(2)上,一N型扩散区(4A)被设置在P型扩散区(3A)上。P型扩散区(3A)和N型扩散区(4A)位于红光激光二极管(14)之下,且红光激光二极管(14)在没有绝缘膜的条件下通过电极(7,8)直接与N型扩散区(4A)连接。这样,可以防止红光激光二极管(14)和硅底衬(16)之间的短路。因此,根据这种半导体激光装置,可以防止在高温操作时半导体发光元件发生损坏或故障。