公开(公告)号：CN203275819U

公开(公告)日：2013-11-06

申请号：CN201320286674.3

申请日：2013-05-23

申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 胡伟 ,  侯智 ,  吴代吾 ,  杨子衡 ,  訾玉宝 ,  肖冠华 ,  王俊

IPC分类号： G02F1/13

摘要： 本实用新型公开了一种基板承载装置，包括具有承载面的载台，位于载台背离其承载面的一侧、沿承载面垂线方向相对于载台往复运动的底座，穿过载台、且一端固定于底座的多根顶针；还包括定位机构，定位机构包括至少两个支撑杆，每一个支撑杆的一端固定于底座，另一端位于载台背离底座的一侧、且设置有限位单元；各限位单元确定多个垂直于承载面的限位面。由于顶针和支撑杆均固定在底座上，支撑杆上的限位单元可以随顶针同步移动，因此在顶针将基板自载台的承载面顶起的过程中，限位单元可以一直处于夹紧基板的状态，所以，本实用新型提供的基板承载装置可以降低基板在被顶针完全顶起至机械手夹取基板位置的过程中因抖动而发生偏移的可能性。

公开(公告)号：CN203242607U

公开(公告)日：2013-10-16

申请号：CN201320276243.9

申请日：2013-05-20

申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 马青青 ,  张洪波 ,  侯智 ,  吴代吾 ,  杨子衡 ,  黄二元

IPC分类号： H01L21/677 ,  H01L21/68

摘要： 本实用新型公开了一种导向轮、基板传送装置及基板加工设备，其中上述基板传送装置的导向轮，包括支撑杆、内环体、以及外环体，外环体可绕其轴线旋转地套设于内环体外围；内环体可沿其轴线延伸方向滑动地套设于支撑杆的外围，支撑杆与内环体之间具有锁定支撑杆与内环体相对位置的锁止机构。上述导向轮，其外环体与基板接触的部分磨损之后，可以沿内环体的轴线延伸方向滑动上述内环体，调节内环体与支撑杆之间的位置，将外环体已磨损的部位移开，将未与基板接触的部分调节至与基板接触的位置，然后通过锁止结构锁定内环体与支撑杆之间的相对位置，从而保证导向轮可以继续使用。所以，上述导向轮中外环体的利用率较高，导向轮的使用寿命较长。

公开(公告)号：CN202705232U

公开(公告)日：2013-01-30

申请号：CN201220364688.8

申请日：2012-07-25

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥京东方光电科技有限公司

发明人： 李登涛 ,  侯智 ,  吴代吾 ,  杨子衡 ,  梁亚东 ,  李茜茜

IPC分类号： C03C15/00

摘要： 本实用新型公开了一种空气刀装置，包括气刀本体，所述气刀本体包括固定连接、且相对的两个面形成气体腔室的第一板体和第二板体，所述第一板体和第二板体的一端形成具有一线气体喷射口的喷嘴部，所述气体喷射口与气体腔室流体连通，所述第一板体具有与气体腔室流体连通的至少一个气体通入口，所述第一板体背离所述气体腔室的外表面形成用于将第一板体上汇聚的液体导离气体喷射口对应区域的至少一个导流槽，所述导流槽贯穿所述第一板体的长度方向。本实用新型提供的空气刀装置在使用过程中通过导流槽，将溅落到第一板体的外表面的液滴汇聚而成的液流被导向别处流下，进而降低了液流对气体喷射口形成的气幕均匀性的影响。

公开(公告)号：CN203782235U

公开(公告)日：2014-08-20

申请号：CN201320833748.0

申请日：2013-12-17

申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 胡伟 ,  叶成枝 ,  肖冠华 ,  杨子衡 ,  吴代吾 ,  侯智

IPC分类号： C23F1/08

摘要： 本实用新型公开了一种湿法刻蚀机刻蚀装置，包括供液总管道与至少两组同心矩形管道，其特征在于：每组矩形管道均经由一供液支管连接至供液总管，矩形管道通过可旋转弯头固定在支撑架上，矩形管道上均布多个喷淋装置。本实用新型通过将喷淋装置进行环状排布以及通过相应阀门控制各矩形管道上流量压力的不同和驱动连杆控制的摆动不同，控制基板各区域的刻蚀速率，从而达到控制线宽、改善坡度角、提高刻蚀均一性的目的，进而提高基板刻蚀的合格率。

公开(公告)号：CN203466163U

公开(公告)日：2014-03-05

申请号：CN201320516223.4

申请日：2013-08-22

申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 董康旭 ,  侯智 ,  吴代吾 ,  刘祖宏 ,  刘轩 ,  毛晓伟 ,  焦建超

IPC分类号： H01J37/32

摘要： 本实用新型公开了一种反应腔室，用于对基板进行干法刻蚀，该反应腔室包括：反应腔体、相对设置的第一电极和第二电极，所述第一电极和所述第二电极竖直固定在所述反应腔体内，所述第一电极和所述第二电极之间产生电场。在该反应腔室内，第一电极与第二电极竖直放置，在进行干法刻蚀时，不仅可以同时对两块基板进行刻蚀，增加了刻蚀效率，而且可以保护电极不受等离子体的刻蚀，间接的提高了等离子体的利用率。同时由于被刻蚀基板为竖直放置，进而可减小微粒落在基板表面的概率。

公开(公告)号：CN203454835U

公开(公告)日：2014-02-26

申请号：CN201320280584.3

申请日：2013-05-21

申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 谢少华 ,  侯智 ,  吴代吾 ,  杨子衡 ,  王明明 ,  喻玥 ,  胡伟 ,  肖冠华

IPC分类号： F28B3/00

摘要： 本实用新型的实施例提供一种排气管道，涉及气体冷凝技术领域，提高了产品品质，同时降低了生产成本。该排气管道具体包括：一水平设置的进气管、一水平设置的出气管、一非水平设置的第一中间管和一非水平设置的第二中间管，其中：所述进气管的非进气端通过侧管与底管连通；所述底管与所述第一中间管的下端连通；所述第一中间管的上端通过顶管与所述第二中间管的上端连通；所述第二中间管的下端通过侧管与底管连通；所述底管与所述出气管的非出气端连通。本实用新型的实施例应用于气体冷凝工艺中。

公开(公告)号：CN203259463U

公开(公告)日：2013-10-30

申请号：CN201320141899.X

申请日：2013-03-26

申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 周庆高 ,  张亮 ,  冯忠 ,  丁欣 ,  徐大林 ,  沈世妃 ,  刘祖宏 ,  吴代吾 ,  侯智

IPC分类号： G01N21/17

摘要： 本实用新型公开了一种洁净度检测装置和系统，所述洁净度检测装置可以包括光发射器、光接收器，所述光发射器和光接收器设置于待检测机构上；其中，所述光发射器用于向待检测机构内发射光；所述光接收器用于接收所述光发射器发射的光在待检测机构内因微粒而发生光路变化后的光，并根据接收到的光检测出待检测机构内的洁净度。所述洁净度检测系统则可以包括所述洁净度检测装置以及所述待检测机构。本实用新型属于自动检测装置，能够直接检测待检测机构内部的洁净度，在实现简单、精确的洁净度检测，提高洁净度检测效率的同时，能够节省洁净度检测中的人工成本，提高人员利用率，提高产能。并且，可以实时进行洁净度检测，能够有效保证良品率。

公开(公告)号：CN203209374U

公开(公告)日：2013-09-25

申请号：CN201320175376.7

申请日：2013-04-09

申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 喻玥 ,  侯智 ,  吴代吾 ,  杨子衡 ,  谢少华 ,  许明 ,  王明明

IPC分类号： B08B5/02

摘要： 本实用新型公开了一种气刀装置，包括气刀本体，所述气刀本体包括相对设置的第一板体和第二板体，所述第一板体和第二板体之间形成一气体腔室，所述第一板体的表面设置有至少一个进气口，所述气刀本体一侧设置有与所述气体腔室连通的气体喷射口，所述气刀装置还包括清洁刀，所述清洁刀包括刀体，所述刀体经所述气体喷射口延伸至所述气体腔室内，并可从所述气体腔室一端至另一端来回移动。本实用新型中，通过可编程控制的清洁刀清除影响气刀吹出气流的堵塞物，使气体喷射口吹出的气流均匀，减小基板表面的干燥不良区域，进而提高产品良率。