等离子体处理装置以及等离子体处理方法

    公开(公告)号:CN103151234A

    公开(公告)日:2013-06-12

    申请号:CN201210517334.7

    申请日:2012-12-05

    Inventor: 奥村智洋

    Abstract: 本发明公开了等离子体处理装置及等离子体处理方法,该等离子体处理装置包括:(1)腔室,其被电介质部件包围,且具备作为等离子体喷出口的开口部;(2)气体供给配管,其向腔室内部导入气体;(3)螺线管线圈,其配置在腔室附近;(4)高频电源,其连接于螺线管线圈,且具备脉冲调制功能;以及(5)基材载置台,其配置在等离子体喷出口侧。根据该等离子体处理装置,能够稳定地生成等离子体。

    等离子体显示器面板的制造方法

    公开(公告)号:CN101630617A

    公开(公告)日:2010-01-20

    申请号:CN200910139979.X

    申请日:2009-07-17

    CPC classification number: H01J11/12 H01J9/261

    Abstract: 本发明提供一种能够以良好的均一性、简单并且低成本地去除保护层表面的变质层的PDP制造方法。该PDP制造方法构成为,包括:(i)准备在基板A上形成电极A、电介质层A和保护层的前面板、以及在基板B上形成电极B、电介质层B、隔壁和荧光体层的背面板的工序、(ii)在基板A或基板B的周边区域涂敷玻璃粉材料,并以夹着玻璃粉材料的方式将前面板与背面板对置配置的工序、(iii)在对前面板以及背面板进行加热的状态下,从前面板以及背面板的横向,向对置配置的前面板与背面板之间吹入气体的工序、以及(iv)使玻璃粉材料熔融,使前面板和背面板密封的工序。

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