公开(公告)号：CN102687232A

公开(公告)日：2012-09-19

申请号：CN201080059452.7

申请日：2010-10-26

申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司

发明人： M.J-J.维兰德 ,  R.贾格尔 ,  A.H.V.范维恩 ,  S.W.H.K.斯蒂恩布林克

IPC分类号： H01J37/317 ,  H01J37/04

CPC分类号： H01J37/3177 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/045 ,  H01J37/07 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/0262 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/0437 ,  H01J2237/31774

摘要： 本发明涉及一种带电粒子多射束光刻系统，用来使用多个带电粒子射束将图案传送到目标表面上。该系统包括波束产生器（3）、射束阻断器阵列（9）、屏蔽结构（111）与投射系统。波束产生器布置成产生多个带电粒子射束。射束阻断器阵列被布置成根据图案来图案化多个射束。射束阻断器阵列包含多个调节器（101）和多个光敏元件（107），光敏元件被布置成接收图案数据承载光束并将光束转换成电信号。光敏元件被电连接到一个或更多个调节器，以提供所接收的图案数据。屏蔽结构（111）由导电材料制成，为调节器基本上屏蔽掉在光敏元件附近产生的电场，其中该屏蔽结构被布置成被设定在预定电位。该投射系统被布置成将图案化射束投射到目标表面上。

公开(公告)号：CN102414775A

公开(公告)日：2012-04-11

申请号：CN201080017651.1

申请日：2010-02-22

申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司

发明人： S.巴尔图森

IPC分类号： H01J37/16 ,  H01J37/18 ,  H01L21/677 ,  H01L21/00 ,  H01J37/317

CPC分类号： F17D1/00 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/18 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/1825 ,  Y10S417/901 ,  Y10T137/0396 ,  Y10T137/86083 ,  Y10T137/86131

摘要： 本发明涉及一种用于在真空腔(400)中实现真空的方法。该真空腔连接至抽吸系统(300)，该抽吸系统由多个真空腔共同使用。此方法包括将每个真空腔分别抽成真空。本发明还包括装置，该装置具有连接至抽吸系统的多个真空腔。在该装置中，抽吸系统被配置成将每个真空腔分别抽成真空。

公开(公告)号：CN101414126B

公开(公告)日：2012-02-15

申请号：CN200810166461.0

申请日：2003-10-30

申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司

发明人： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01J37/317

CPC分类号： H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

摘要： 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

公开(公告)号：CN102257593A

公开(公告)日：2011-11-23

申请号：CN200980151454.6

申请日：2009-11-06

申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司

发明人： A·鲁伊杰

IPC分类号： H01J37/317

CPC分类号： H01J37/3177 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

摘要： 本发明涉及一种确定多个射束中的单独调制的射束的强度的平版印刷系统，该系统包括具有传感器的测量设备，该传感器具有适于同时感测多个射束并且提供所述多个射束的聚合信号的传感器区域。根据相关联的暂时消隐图案对射束进行单独的调制。本发明进一步涉及用于根据测量的聚合信号和射束的暂时消隐图案来计算各个射束强度的方法。

公开(公告)号：CN101427184A

公开(公告)日：2009-05-06

申请号：CN200780014179.4

申请日：2007-03-09

申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司

发明人： 彼得·克勒伊特 ,  马尔科·扬-哈科·威兰 ,  斯泰恩·威廉·卡雷尔·赫尔曼·斯腾布林克 ,  雷姆科·亚赫

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01J37/317 ,  H01J37/302 ,  H01L21/00

CPC分类号： H01J37/3177 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70383 ,  G03F7/70508 ,  H01J37/3026 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/31764 ,  H01J2237/31766 ,  H01J2237/31771 ,  H01L21/67282

摘要： 本发明涉及一种形成光刻系统的探针，该用于光刻系统使用黑白记录策略，即，记录或不记录栅格单元，而在诸如晶片的目标表面上产生图形，从而在包括栅格单元的栅格上划分该图形，该图形包括尺寸大于栅格单元的尺寸的特征，在每个单元中探针被“接通”或“断开”，其中，探针在目标上覆盖了明显大于栅格单元的表面区域，并且其中，在特征内，在探针尺寸的范围内实现了位置取决于黑白记录的分布，本发明还涉及基于上述系统的方法。

公开(公告)号：CN101414535A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200810166458.9

申请日：2003-10-30

申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司

发明人： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC分类号： H01J37/317 ,  G03F7/20

CPC分类号： H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

摘要： 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

公开(公告)号：CN100437882C

公开(公告)日：2008-11-26

申请号：CN200380102559.5

申请日：2003-10-30

申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司

发明人： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC分类号： H01J37/302 ,  H01J37/317 ,  H01J37/304 ,  G03F7/20

CPC分类号： H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

摘要： 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

公开(公告)号：CN101300656A

公开(公告)日：2008-11-05

申请号：CN200680040394.7

申请日：2006-09-14

申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司

发明人： 彼得·克勒伊特 ,  马尔科·扬·哈科·威兰 ,  埃尔温·斯洛特 ,  蒂斯·弗兰斯·泰佩恩 ,  斯泰恩·威廉·卡雷尔·赫尔曼·斯腾布林克

IPC分类号： H01J37/317

摘要： 本发明涉及光刻系统、传感器和方法，其用于测量带电粒子束系统，尤其是直接写入光刻系统的大量的带电粒子束的特性，其中带电粒子束通过使用转换器元件被转换成为光束，使用与所述转换器元件共线设置的诸如二极管、CCD或CMOS装置的光敏检测器阵列来检测所述光束，在其暴露于所述光束以后，从所述检测器中电子地读出产生的信号，利用所述信号来测定一个或多个射束特征的值，从而使用自动化的电子计算器，电子地调整该带电粒子系统，从而基于所述计算的特性值，对所有或多个所述带电粒子束校正超出规定范围的值，各个值对应一个或多个特性。

公开(公告)号：CN101228608A

公开(公告)日：2008-07-23

申请号：CN200680027074.8

申请日：2006-07-25

申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司

发明人： 斯泰恩·威廉·赫尔曼·卡雷尔·斯腾布林克 ,  彼得·克勒伊特 ,  马尔科·扬-哈科·威兰

IPC分类号： H01J37/317 ,  G03F7/20

CPC分类号： H01J37/3177 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70425 ,  H01J2237/31757

摘要： 本发明涉及一种用于将图案转移到目标表面上的无掩模光刻系统，包括：至少一个细光束光学单元，用于产生多个细光束；至少一个测量单元，用于测量每个细光束的性能；至少一个控制单元，用于产生图案数据并将图案数据递送到所述细光束光学单元，所述控制单元操作性耦合至所述测量单元，用于确定具有在所述性能的预定数值范围之外的测量性能值的无效细光束；至少一个致动器，用于引起所述细光束光学单元和所述目标彼此相对地移动，其中所述致动器与所述控制单元操作性耦合，所述控制单元确定所述移动，将有效细光束定位在所述无效细光束的位置，因而用有效细光束代替所述无效细光束。

公开(公告)号：CN1829945A

公开(公告)日：2006-09-06

申请号：CN200480021920.6

申请日：2004-07-23

申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司

发明人： 约翰内斯·克里斯蒂亚·范特斯皮杰克尔 ,  马尔科·扬-哈科·威兰 ,  恩斯特·哈贝科特 ,  弗洛里斯·佩皮杰恩·范德威尔特

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01J37/317

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70383 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435

摘要： 本发明涉及一种用于调制多射束光刻系统中的射束幅度的调制器，所述调制器包括：至少一个用于影响射束方向的装置；光敏元件，用于接收来自已调制的射束的光和将所述光转变成信号；以及离散化装置，耦合至所述光敏元件和至少一个用于影响射束的方向的装置，用于将从所述光敏元件接收的所述信号转变成具有选自一组预定离散值的离散值的离散信号，并且提供所述离散信号给所述用于影响射束的方向的装置。