内板和具有该内板的用于沉积的坩埚组件

    公开(公告)号:CN101655315B

    公开(公告)日:2011-10-12

    申请号:CN200910009757.6

    申请日:2009-02-02

    Inventor: 闵庚秀 池昶恂

    CPC classification number: C23C14/243

    Abstract: 一种内板和具有该内板的用于沉积的坩埚组件。该坩埚组件包括:主体,具有容纳沉积材料的内部空间和布置在所述内部空间的上部的开口;盖子,具有布置在所述盖子的顶部的孔,所述盖子与所述主体结合;内板,布置在所述主体和所述盖子之间,所述内板遮盖所述主体的开口,坩埚组件包括内部通道,所述内部通道被布置成允许沉积材料的蒸汽经设置在内板的外侧表面和所述盖子的内侧表面之间的空间从主体的内部空间排出到所述盖子中的孔的外部。

    蒸发源和具备蒸发源的蒸镀装置

    公开(公告)号:CN1782120B

    公开(公告)日:2011-09-28

    申请号:CN200510126935.5

    申请日:2005-11-28

    Abstract: 本发明提供一种蒸发源和具备该蒸发源的蒸镀装置,其能通过使用反射板来有效提高喷嘴的热量,从而防止蒸镀物质在喷嘴处凝缩。本发明的蒸发源包括:蒸镀物质贮藏部,其放置有蒸镀物质并且局部开口;喷嘴部,其具有连结在所述蒸镀物质贮藏部的开口的部分上并用于喷射所述蒸镀物质的开口部;反射板,其把所述喷嘴部的至少一部分的角部包围;壳体,其包围所述蒸镀物质贮藏部包围;加热部,其位于所述壳体与所述蒸镀物质贮藏部之间。本发明的蒸镀装置具备所述蒸发源。另外,本发明的有机物蒸发源由于改善所述有机物贮藏部和喷嘴部的材质并在它们的表面上附有防止有机物泄漏部件,所以,提高了喷嘴部和有机物贮藏部的导热性,并防止了有机物的泄漏。

    单元掩模、掩模组件和制造显示设备的方法

    公开(公告)号:CN102201550A

    公开(公告)日:2011-09-28

    申请号:CN201110069548.8

    申请日:2011-03-17

    Inventor: 洪宰敏 金京汉

    CPC classification number: H01L51/0011 H01L51/50

    Abstract: 本发明涉及单元掩膜、掩膜组件和制造显示设备的方法。所述掩模组件包括:框架,包括开口部件;和单元掩模,其在沿一个方向施加拉力的状态下布置在所述开口上并且使所述单元掩模中的每一个的两个端部由所述框架支撑,所述单元掩模中的每一个包括:图案开口部件,沿所述一个方向布置;以及第一槽,布置成与所述图案部件相邻并且在所述图案开口部件与所述单元掩模的边缘之间,并且形成为从所述单元掩模的表面被压低。

    平板显示器
    76.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102194855A

    公开(公告)日:2011-09-21

    申请号:CN201110064207.1

    申请日:2011-03-15

    Abstract: 本发明公开了一种平板显示器,该平板显示器包括:第一基底,包括发射区域和非发射区域;发光单元,在发射区域上;第一感测单元,在非发射区域上;第二感测单元,在非发射区域上,其中,第一感测单元和第二感测单元被布置为通过使用第一感测单元和第二感测单元测量单位时间入射到第一感测单元和第二感测单元上的光量确定平板显示器的倾斜角度。

    视差屏障和使用视差屏障的三维显示装置

    公开(公告)号:CN1893672B

    公开(公告)日:2011-08-31

    申请号:CN200610094535.5

    申请日:2006-06-09

    CPC classification number: H04N13/31 H04N13/324

    Abstract: 本发明公开了一种三维显示装置。所述三维显示装置包括图像显示单元。所述图像显示单元包括具有对应于左眼图像的第一子像素和对应于右眼图像的第二子像素的像素。所述三维显示装置还包括位于图像显示单元附近的视差屏障。所述视差屏障包括在一个方向上交替和重复布置的光遮挡部和光透射部。所述视差屏障还包括在所述光遮挡部和光透射部之间布置的滤色器。所述滤色器控制来自于像素的光线的路径。本发明可以通过减少或最小化色散从而改善三维图像的质量并且改善使用者的移动自由度。

    用于处理基板的装置和用于处理基板的方法

    公开(公告)号:CN102163539A

    公开(公告)日:2011-08-24

    申请号:CN201010176631.0

    申请日:2010-05-12

    Inventor: 金旻首

    Abstract: 本发明涉及一种用于处理基板的装置和用于处理基板的方法。该装置包括:包括底座表面的底座部分,所述基板坐落在该底座表面上;罩单元,包括彼此相连接以形成具有不同大小的多个空间的多个罩,该罩单元与所述底座表面一起形成第一密封空间以密封所述基板;罩驱动器,沿与所述底座表面分离的方向分离所述多个罩中的至少一个罩,使得所述罩单元与所述底座表面一起形成大于所述第一密封空间的第二密封空间;以及层压部分,将粘结膜附接到所述基板。

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