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公开(公告)号：CN112611741A
公开(公告)日：2021-04-06
申请号：CN202011417600.X
申请日：2020-12-07
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明公开了一种用于光学元件表面荧光特性颗粒检测的装置及方法，包括：紫外荧光成像系统，其连接有控制电脑；运动机构，紫外荧光成像系统设置在运动机构上；将紫外荧光成像系统固定于运动机构上，将光学元件放置于底座内；通过运动机构的支架调整紫外荧光成像系统与光学元件的距离，使其成像最清晰；控制电脑控制紫外荧光成像系统，使用CCD相机拍照并分析检测结果；通过运动机构的纵向导轨、横向导轨和竖直导轨移动紫外荧光成像系统，并重复进行拍照分析，完成对光学元件的抽样检测。本发明可根据成像镜头的工作距离，通过运动机构调节紫外荧光成像系统与光学元件之间的距离。本发明检测方法为无损检测，与光学元件无接触，无二次污染产生。
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公开(公告)号：CN111229739A
公开(公告)日：2020-06-05
申请号：CN202010187983.X
申请日：2020-03-17
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明公开了一种激光除漆装置，包括：激光输出装置，导光臂，其与激光输出装置的输出端连接；振镜，其与导光臂的输出端连接；振镜放置在壳体中；聚焦透镜，其通过连接板与丝杠连接，且聚焦透镜位于振镜的下方；丝杠连接在电机上；壳体上连接支撑板，电机放置在支撑板上；丝杠穿过支撑板后与连接板连接，连接板上连接聚焦透镜；机械臂，其与壳体连接。本发明针对形状不是特别复杂的工件时，可通过只调节聚焦透镜的上下位置，机械臂保持不动即可实现清洗；当遇到结构比较复杂的结构时，采用聚焦透镜调节和机械臂调节相结合的方式，最终实现复杂形状工件的激光清洗。该方法绿色环保，对不同油漆层的适应性好，且除漆之后不会损伤样品本身的基底。
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公开(公告)号：CN110813953A
公开(公告)日：2020-02-21
申请号：CN201911291402.0
申请日：2019-12-16
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明公开了一种高压喷淋清洗机，包括：清洁水储液罐；高压柱塞泵，其与清洁水储液罐的出水管路连接；管道清洗单元，其与高压柱塞泵的出水管路连接；管道清洗单元上设置有脱水剂喷雾喷头、清洗剂喷雾喷头和自旋转高压喷头；管道推进单元，其连接在管道清洗单元上；箱体清洗单元，其通过供水软管与高压柱塞泵的出水管路连接；脱水剂储液罐，其通过供水软管和加液泵Ⅰ与管道清洗单元的脱水剂喷雾喷头连接；清洗剂储液罐，其通过供水软管和加液泵Ⅱ与管道清洗单元的清洗剂喷雾喷头连接。该清洗机通过管道清洗单元能够清洗不同长度和不同直径的管道，管道清洗单元在运行过程中应能够保持喷头沿管道中心行走；具备高效清洗和无残留等特点。
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公开(公告)号：CN110813924A
公开(公告)日：2020-02-21
申请号：CN201911291678.9
申请日：2019-12-16
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明公开了一种用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统，包括：底板，其上通过支撑柱放置有光学元件；风刀及离子棒单元，其通过支撑单元连接在底板上，且风刀及离子棒单元位于光学元件的一端，并使风刀及离子棒单元的出风口正对光学元件的上表面；静电吸附电极，其包括平行设置的正电极棒和负电极棒，正电极棒和负电极棒分别通过电极支撑架连接在底板上，且正电极棒位于光学元件的上方，负电极棒位于光学元件的的下方。本发明通过风刀及离子棒产生离子风或高速气流将光学元件表面的污染物去除并使污染物荷电，采用静电吸附电极在光学元件末端或将静电吸附电极带动在光学元件表面进行来回运动，对污染物进行收集，从而达到污染物去除的目的。
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公开(公告)号：CN108863093A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201810798186.8
申请日：2018-07-19
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明公开了一种控制熔石英静态酸蚀刻沉积物的方法，该方法利用短时间酸蚀刻过程六氟硅酸根的浓度扩散，酸蚀刻后把熔石英元件进行喷淋和超声清洗去除残留离子，再多次重复酸蚀刻、喷淋、超声漂洗此过程，实现一定深度的熔石英的蚀刻，不仅避免沉积物的出现，保持了面形，而且提高了激光损伤阈值，实现了熔石英抛光层和缺陷层有效完全去除，并且无沉积物产生；该方法具有操作简单、可控制、不破坏光学元件面形和粗糙度、经济等优点。
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公开(公告)号：CN105921453B
公开(公告)日：2018-10-09
申请号：CN201610306605.2
申请日：2016-05-11
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明提供了一种高功率激光装置的大型箱体表面的洁净处理方法。所述的方法首先采用普通清洗方法以去除箱体表面的大粒径和大面积污染物，其后经脱水处理，再将元件浸泡于清水中浸润，浸润后的箱体经过两次清洗剂溶液高压喷淋清洗、清水高压喷淋漂洗和脱水处理过程。本发明的高功率激光装置的大型箱体表面的洁净处理方法，适用于高功率激光装置的大型箱体表面的清洁，污染物去除效果好，处理后的箱体表面洁净度等级高，具有可靠、经济、高效的特点。清洗后的大型箱体表面洁净度等级优于BJD 100级‑A/10A。
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公开(公告)号：CN107271402A
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：CN201710631027.4
申请日：2017-07-28
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G01N21/45
CPC分类号： G01N21/45 , G01N2021/458
摘要： 本发明公开了一种密闭空间内分子态有机污染物在线监测装置及检测方法，包括：超辐射发光二级管，其出射光的光路上依次连接偏振控制器、微纳光纤耦合器传感单元和光谱仪；其中，所述微纳光纤耦合器传感单元包括微纳光纤耦合器和包覆在其表面的用于吸附密闭空间内分子态有机污染物的纳米空心球膜层。利用在微纳光纤耦合器中传输的光谱受到环境影响特性，谐振波长与环境折射率存在对应关系，当微纳光纤耦合器表面的纳米空心球膜层吸附污染物后导致其表面折射率发生变化，从而使输出光谱中的波谷波发生偏移，利用光纤光谱仪对光谱进行在线监测，通过波长偏移量反推有机污染物浓度。
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公开(公告)号：CN107271401A
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：CN201710630999.1
申请日：2017-07-28
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G01N21/45
CPC分类号： G01N21/45 , G01N2021/458
摘要： 本发明公开了一种基于单模-拉制小芯单模-单模光纤结构的分子态有机污染物监测传感器，包括：第一单模光纤；表面附着溶胶-凝胶二氧化硅膜层的拉制小芯单模，其输入端与第一单模光纤的输出端熔接；第二单模光纤，其输入端与拉制小芯单模光纤的输出端熔接。当超辐射发光二极管光源发出的光在第一单模光纤中传输，进入拉制小芯单模光纤中形成干涉，部分波长的光在其中形成波谷，而后进入第二单模光纤中继续传输，当带有溶胶-凝胶二氧化硅膜层的拉制小芯单模光纤处于被监测环境中导致拉制小芯单模光纤环境折射率变化，从而影响波导干涉条件变化，导致谐振波长的偏移，依据谐振波长的偏移量，获得被监测环境中分子态有机污染物浓度。
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公开(公告)号：CN106896428A
公开(公告)日：2017-06-27
申请号：CN201710258100.8
申请日：2017-04-19
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G02B3/00
CPC分类号： G02B3/0087
摘要： 本发明公开了一种平面透镜的制备方法，包括：采用高折射率的纳米流体材料溶液滴加到疏松多孔、折射率低、损伤阈值高的凝胶块体材料上，通过纳米流体材料在凝胶块体材料中的扩散，利用纳米流体材料物理特性及凝胶块体材料孔洞结构，使纳米流体材料渗透后的凝胶块体材料折射率渐变(从中间横向纵向扩散或从边缘层层扩散)来制备平面透镜的方法，该方法过程简单，通过纳米流体材料和凝胶块体材料的选择，可以较好地控制形成透镜的折射率，形成的透镜比基于玻璃材料的透镜透过率更高，由本发明的方法形成的连续渐变折射率透镜，可以免去传统玻璃基透镜繁琐的制备工序，无需研磨、抛光等过程，节约生产成本，是一种较为理想的连续渐变折射率透镜。
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公开(公告)号：CN105203462A
公开(公告)日：2015-12-30
申请号：CN201510616546.4
申请日：2015-09-25
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G01N21/17
摘要： 本发明提供了一种氧气监测装置及其监测方法，所述装置中的激光发生器通过2×2耦合器，将所发生的激光分成两路，一路作为信号光依次输入至2×2耦合器、微纳光纤复合结构、信号光探测器，另一路作为参考光输入至用于检测参考光强度的参考光探测器。信号光探测器依次与放大器、差分器、AD转换器、锁相调制器、微型计算机电连接。本发明的监测装置及监测方法通过微纳光纤复合结构表面敏感材料物理化学性质的变化，影响其表面倏逝波的传输特性实现对氧气的传感。本发明精度较高、相应较快，能够满足对氧气监测的特殊要求，能够实现易集成、易扩展、灵敏度高、准分布及实时在线测量。
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