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公开(公告)号：CN102138033B
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN200980134015.4
申请日：2009-08-27
Applicant: 应用材料公司
IPC: F16K1/24
CPC classification number: H01L21/67201 , F16K15/147 , F16K51/02 , H01L21/67126
Abstract: 在此公开的实施方式与一种用于密封腔室中的开口的狭缝阀门装置有关。当狭缝阀门开口收缩时，压向所述腔室以密封狭缝阀开口的狭缝阀门与所述腔室一起移动，使得受压于所述狭缝阀门与所述腔室之间的O形环与所述狭缝阀门和所述腔室一起移动。因此，O形环对腔室发生摩擦的情形会较少。由于较少摩擦，产生的颗粒可较少，因而可延长O形环的使用寿命。由于O形环的使用寿命较长，基板处理量即可增加。
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公开(公告)号：CN103014677A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210496884.5
申请日：2012-09-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C16/505 , C23C16/52 , H01J37/244
CPC classification number: H05H1/46 , H01J37/32091 , H01J37/32183 , H01J37/32935
Abstract: 本发明基本上涉及一种电容耦合的等离子体(CCP)处理腔、一种用于减小或防止杂散电容的方法和一种用于测量在所述处理腔内的等离子体状态的方法。由于CCP处理腔尺寸上的增大，杂散电容有会对工艺产生负面影响的趋势。此外，RF接地带可能断裂。通过增大腔背板和腔壁之间的间隔，可以将杂散电容最小化。此外，可以通过在背板而不是在匹配网络测量等离子体的状态来监控等离子体。在这样的测量中，可以分析等离子体的谐波数据以展示腔中的等离子体处理状态。
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公开(公告)号：CN1854743B
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN200610079074.4
申请日：2006-04-29
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 法耶茨·E·阿波德 , 西拉姆·克里施纳斯瓦弥 , 本杰明·M·约翰斯通 , 亨·T·恩古尹 , 麦特瑟斯·波拉纳 , 拉尔夫·施密德 , 约翰·M·怀特 , 栗田伸一 , 詹姆斯·C·亨特
CPC classification number: H01L21/67748 , H01J2237/2811 , H01J2237/2817 , H01L21/67201 , H01L21/67236
Abstract: 本发明公开了一种在线电子束测试系统。描述了一种用于测试衬底上的电子器件的方法和装置。在一个实施例中，该装置在至少一个室中沿一个线性轴对衬底进行测试，其中该室比被测衬底的尺寸稍宽。由于该系统较小的尺寸和体积，洁净室空间和处理时间可以被最小化。
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公开(公告)号：CN101689450B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN200880024220.0
申请日：2008-06-25
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01F17/06 , C23C16/455 , C23C16/505 , H01F27/08 , H01F2017/065 , H01J37/32082 , H01J37/3244 , H01J2237/0206 , Y10T117/10 , Y10T117/1004 , Y10T117/1008
Abstract: 在大面积等离子体工艺系统中，工艺气体经由喷气头组件而导入腔室中，而喷气头组件可作为RF电极驱动。接地的气体供应管与喷气头为电性隔离。气体供应管不但提供工艺气体，还提供来自远程等离子体源的清洁气体至工艺室。气体供应管的内侧可以维持在低RF场或是零RF场，以避免早期气体在气体供应管中分解，而早期气体在气体供应管中分解可能导致在气体源及喷气头之间形成寄生等离子体。将气体供应通过RF扼流器，则RF场及工艺气体可经过共同位置而导入工艺室中，并因而简化腔室设计。
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公开(公告)号：CN1959449A
公开(公告)日：2007-05-09
申请号：CN200610127593.3
申请日：2006-09-19
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本发明提供了一种形成像素矩阵的方法和设备。该方法包括用像素矩阵材料涂覆衬底，用疏墨水性材料涂覆像素矩阵材料，在像素矩阵材料和疏墨水性材料中形成像素井。提供一种用于形成像素矩阵的系统，其包括包含激光烧蚀系统的图案化工具，该工具可操作地在涂覆有疏墨水性材料的像素矩阵材料中形成像素井。激光烧蚀系统可操作在含氧环境下在涂覆有疏墨水性材料的像素矩阵材料中形成像素井，使得像素矩阵的侧壁制成亲墨水性的。本发明还包括像素井结构，其中，像素井的顶面是疏墨水性的，侧壁面是亲墨水性的。还提供了许多其它方面。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1896157A
公开(公告)日：2007-01-17
申请号：CN200610098569.1
申请日：2006-07-12
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: C09D11/322
Abstract: 本发明公开了用于显示器的蓝墨水。在一个方面，蓝墨水包括一种或多种蓝色有机颜料、一种或多种单体、一种或多种聚合分散剂以及一种或多种有机溶剂。在另一个方面，蓝墨水包括一种或多种蓝色有机颜料、一种或多种紫色颜料、一种或多种单体、一种或多种聚合分散剂以及一种或多种有机溶剂。还提供了形成显示器的方法，所述方法包括通过喷墨将蓝墨水分配到衬底上，并提供了包括蓝墨水的显示器。
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公开(公告)号：CN1854743A
公开(公告)日：2006-11-01
申请号：CN200610079074.4
申请日：2006-04-29
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 法耶茨·E·阿波德 , 西拉姆·克里施纳斯瓦弥 , 本杰明·M·约翰斯通 , 亨·T·恩古尹 , 麦特瑟斯·波拉纳 , 拉尔夫·施密德 , 约翰·M·怀特 , 栗田伸一 , 詹姆斯·C·亨特
CPC classification number: H01L21/67748 , H01J2237/2811 , H01J2237/2817 , H01L21/67201 , H01L21/67236
Abstract: 本发明公开了一种在线电子束测试系统。描述了一种用于测试衬底上的电子器件的方法和装置。在一个实施例中，该装置在至少一个室中沿一个线性轴对衬底进行测试，其中该室比被测衬底的尺寸稍宽。由于该系统较小的尺寸和体积，洁净室空间和处理时间可以被最小化。
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公开(公告)号：CN203983241U
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201420117178.X
申请日：2014-03-14
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本实用新型涉及带有加热器的基板支撑组件。本实用新型的实施方式提供一种提供均匀的温度分布的基板加热器。在一个实施方式中，基板支撑组件包括基板支撑基座和加热组件，其中所述基板支撑基座具有基板支撑表面。所述加热组件设置在所述基板支撑基座中，紧邻所述基板支撑表面。所述加热组件被配置成用于在所述加热组件的拐角处提供均匀的热量分布。在另一实施方式中，基板支撑组件包括基板支撑基座和加热组件，其中所述基板支撑基座具有基板支撑表面。所述加热组件设置在所述基板支撑基座中，并且包括内部加热区域和外部加热区域。所述内部加热区域被设置成在所述加热组件的中心中并且从所述中心延伸出。所述外部加热区域环绕所述加热组件的边缘。
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公开(公告)号：CN202617491U
公开(公告)日：2012-12-19
申请号：CN201220038959.0
申请日：2012-01-30
Applicant: 应用材料公司
IPC: H05H1/46
CPC classification number: H01P3/16 , H01J37/32229 , H01L21/02 , H01L21/02104 , H05H1/46 , H05H2001/4622
Abstract: 本实用新型涉及一种导波辐射器，所述导波辐射器包括两个导电的波导壁以及波导电介质。波导电介质的容积是由非气态的电介质材料构成并且位于两波导壁之间。波导电介质包括第一和第二长度端，并且波导电介质包括在两长度端之间沿长度方向延伸的第一、第二、第三和第四侧。第一波导壁定位为覆盖波导电介质的第一侧，并且第二波导壁定位为覆盖波导电介质的第二侧。操作时，向长度端之一或两者提供的电功率可以通过波导电介质的暴露侧耦合到等离子体。
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