绝缘栅双极型晶体管IGBT的制造方法

    公开(公告)号:CN114512537A

    公开(公告)日:2022-05-17

    申请号:CN202210411916.0

    申请日:2022-04-19

    Abstract: 本发明实施例提供一种绝缘栅双极型晶体管IGBT的制造方法,属于芯片技术领域。所述绝缘栅双极型晶体管IGBT的制造方法包括:在第一类材料衬底的正面形成所述IGBT的基础结构;在所述基础结构表面沉积第二类材料薄膜;在所述第二类材料薄膜表面沉积层间介质层薄膜,以形成待刻蚀结构;通过接触孔刻蚀工艺,并通过预选的对第三类材料和第二类材料具有高选择比的气体、及预选的对第二类材料和第一类材料具有高选择比的气体,对所述待刻蚀结构进行接触孔刻蚀,形成接触孔槽。本发明实施例可以提高单晶片内各区域的接触孔刻蚀深度均一性,并使得IGBT器件在抗闩锁性能上更加稳定。

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