铜-氧化物大马士革结构的化学机械抛光

    公开(公告)号:CN1620355A

    公开(公告)日:2005-05-25

    申请号:CN02806870.X

    申请日:2002-01-23

    CPC classification number: B24B49/006 B24B37/042 B24B49/16 H01L21/3212

    Abstract: 本发明提供了一种金属大马士革结构的化学机械抛光的方法,该金属大马士革结构包括:绝缘层,其具有位于晶片上的刻槽;以及金属层,其具有位于绝缘层的刻槽内的下部和覆盖所述下部和绝缘层的上部。该方法包括:第一步骤,其对金属层的上部进行平面化;以及第二步骤,其对绝缘层和金属层的下部进行抛光。在第一步骤中,在接触模式下,通过在晶片与抛光垫之间施加压力p并产生相对速度v而将晶片和抛光垫负荷在一起,以提高金属的去除速率。在第二步骤中,在稳态模式下,对绝缘层和金属层的下部进行抛光,以在刻槽中形成单独的金属线,且使金属线的凹陷和绝缘层的过抛最小。

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