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公开(公告)号：CN106132564B
公开(公告)日：2019-12-20
申请号：CN201480077666.5
申请日：2014-02-24
申请人： 东京毅力科创株式会社
摘要： 本发明公开的技术提供一种如下的旋转涂布设备和旋转涂布方法：其抑制湍流流动导致的风痕和其他缺陷的形成，从而允许较高的旋转速度和减少的干燥时间，同时保持膜均匀性。本发明公开的技术包括定位在或悬吊在晶片或其他衬底的表面的上方的流体流动构件，如环或盖。该流体流动构件的径向曲率能够防止在晶片的涂布和旋转干燥处理期间的旋转过程中形成风痕。
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公开(公告)号：CN106463357A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580025296.5
申请日：2015-05-14
申请人： 东京毅力科创株式会社
发明人： 迈克尔·A·卡尔卡西 , 华莱士·P·普林茨 , 乔舒亚·S·霍格
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/16 , B05B7/26 , B05B12/006 , B05C11/1013 , G03F7/162 , H01L21/0274
摘要： 一种用于将液体分配至基片上的设备可以包括：贮存器，所述贮存器用于储存待分配的液体；过滤器，所述过滤器包括入口和出口，过滤器的入口经由第一阀与贮存器流体连通；定量泵，所述定量泵包括入口、第一出口、以及第二出口，定量泵的入口与贮存器流体连通，并且定量泵的第二出口经由第二阀与过滤器的入口流体连通，定量泵被配置成供给一定量的液体并且泵送液体；以及分配喷嘴，所述分配喷嘴与定量泵的第一出口流体连通，分配喷嘴被配置成将液体分配至基片上。
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公开(公告)号：CN107728432A
公开(公告)日：2018-02-23
申请号：CN201710687322.1
申请日：2017-08-11
申请人： 东京毅力科创株式会社
CPC分类号： H01L21/0275 , B05B15/557 , B05C5/02 , B05C11/1007 , B05C11/1047 , H01L21/02118 , H01L21/67017 , H01L21/67023 , H01L21/6715 , G03F7/16 , B05B9/04 , B05B12/081 , B05B12/085
摘要： 文中的技术包括一种基于囊状部的分配系统，该分配系统使用了构造成选择性地扩张及收缩以帮助进行分配动作的长形囊状部。该分配系统对通常伴随着用于微型品制造的流体过滤而出现的过滤器滞后进行补偿。该分配系统还提供了一种高纯度和高精度分配单元。过程流体过滤器位于过程流体源以及系统阀的下游。过程流体过滤器的下游未设置阀门。分配动作可以在系统阀打开时通过利用长形囊状部而开始及停止。该长形囊状部可以扩张以使分配动作停止或暂停，以及可以收缩以帮助进行分配动作。
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公开(公告)号：CN107728431A
公开(公告)日：2018-02-23
申请号：CN201710687321.7
申请日：2017-08-11
申请人： 东京毅力科创株式会社
CPC分类号： H01L21/0275 , B05C5/02 , B05C11/1007 , B05C11/1047 , H01L21/02118 , H01L21/67017 , H01L21/67023 , H01L21/6715 , H01L21/67253 , H01L22/12 , G03F7/16 , B05B9/04 , B05B12/081 , B05B12/085
摘要： 本发明提供了一种用于分配流体的装置。本文中的技术方案包括使用长形囊状部的基于囊状部的分配系统，该长形囊状部扩张以及收缩以辅助分配动作。该分配系统对通常与微型品制造的流体过滤相伴随的过滤器滞后进行补偿。该分配系统还提供了高纯度且高精度的分配单元。弯液面传感器检测过程流体在喷嘴处的弯液面的位置。长形囊状部单元通过使囊状部选择性地扩张或收缩而用于使弯液面的位置保持在特定位置处，从而移动弯液面位置或保持弯液面位置。长形囊状部的扩张还用于在完成分配动作之后的回吸动作。
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公开(公告)号：CN107710384A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201680037660.4
申请日：2016-06-02
申请人： 东京毅力科创株式会社
发明人： 乔舒亚·S·霍格 , 本杰曼·M·拉特扎克 , 迈克尔·A·卡尔卡西 , 马克·H·萨默维尔 , 伊恩·J·布朗 , 华莱士·P·普林茨
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/311 , H01L21/28 , H01L21/02 , H01L21/762
CPC分类号： H01L21/31133 , H01L21/31058 , H01L21/67115 , H01L21/6776
摘要： 描述了用于SOC平坦化的系统和方法。在实施例中，用于SOC平坦化的设备包括被配置成支承微电子衬底的衬底保持器。另外，该设备可以包括被配置成朝向微电子衬底的表面发射紫外(UV)光的光源。在实施例中，该设备还可以包括布置在光源和微电子衬底之间的隔离窗。此外，该设备可以包括被配置成在隔离窗与微电子衬底之间的区域中注入气体的气体分配单元。另外，该设备可以包括被配置成降低微电子衬底的UV光处理的不均匀性的回蚀调平部件。
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公开(公告)号：CN106132564A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201480077666.5
申请日：2014-02-24
申请人： 东京毅力科创株式会社
CPC分类号： H01L21/6715
摘要： 本发明公开的技术提供一种如下的旋转涂布设备和旋转涂布方法：其抑制湍流流动导致的风痕和其他缺陷的形成，从而允许较高的旋转速度和减少的干燥时间，同时保持膜均匀性。本发明公开的技术包括定位在或悬吊在晶片或其他衬底的表面的上方的流体流动构件，如环或盖。该流体流动构件的径向曲率能够防止在晶片的涂布和旋转干燥处理期间的旋转过程中形成风痕。
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公开(公告)号：CN115101447A
公开(公告)日：2022-09-23
申请号：CN202210741104.2
申请日：2016-06-02
申请人： 东京毅力科创株式会社
发明人： 乔舒亚·S·霍格 , 本杰曼·M·拉特扎克 , 迈克尔·A·卡尔卡西 , 马克·H·萨默维尔 , 伊恩·J·布朗 , 华莱士·P·普林茨
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/027
摘要： 本发明公开了用于旋涂碳平坦化的技术，其中描述了用于SOC平坦化的系统和方法。在实施例中，用于SOC平坦化的设备包括被配置成支承微电子衬底的衬底保持器。另外，该设备可以包括被配置成朝向微电子衬底的表面发射紫外(UV)光的光源。在实施例中，该设备还可以包括布置在光源和微电子衬底之间的隔离窗。此外，该设备可以包括被配置成在隔离窗与微电子衬底之间的区域中注入气体的气体分配单元。另外，该设备可以包括被配置成降低微电子衬底的UV光处理的不均匀性的回蚀调平部件。
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公开(公告)号：CN106463357B
公开(公告)日：2019-06-28
申请号：CN201580025296.5
申请日：2015-05-14
申请人： 东京毅力科创株式会社
发明人： 迈克尔·A·卡尔卡西 , 华莱士·P·普林茨 , 乔舒亚·S·霍格
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/16 , B05B7/26 , B05B12/006 , B05C11/1013 , G03F7/162 , H01L21/0274
摘要： 一种用于将液体分配至基片上的设备可以包括：贮存器，所述贮存器用于储存待分配的液体；过滤器，所述过滤器包括入口和出口，过滤器的入口经由第一阀与贮存器流体连通；定量泵，所述定量泵包括入口、第一出口、以及第二出口，定量泵的入口与贮存器流体连通，并且定量泵的第二出口经由第二阀与过滤器的入口流体连通，定量泵被配置成供给一定量的液体并且泵送液体；以及分配喷嘴，所述分配喷嘴与定量泵的第一出口流体连通，分配喷嘴被配置成将液体分配至基片上。
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