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公开(公告)号：CN114025885B
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202080047747.6
申请日：2020-06-25
申请人： 东京毅力科创株式会社
摘要： 一种涂布方法，是向基板供给处理液并通过旋涂法来在基板上涂布上述处理液的涂布方法，在所述涂布方法中，在上述处理液的供给开始的同时或者晚于上述处理液的供给开始地将表面张力比上述处理液的表面张力小的上述处理液的溶剂与上述处理液混合地供给到上述基板。
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公开(公告)号：CN106132564B
公开(公告)日：2019-12-20
申请号：CN201480077666.5
申请日：2014-02-24
申请人： 东京毅力科创株式会社
摘要： 本发明公开的技术提供一种如下的旋转涂布设备和旋转涂布方法：其抑制湍流流动导致的风痕和其他缺陷的形成，从而允许较高的旋转速度和减少的干燥时间，同时保持膜均匀性。本发明公开的技术包括定位在或悬吊在晶片或其他衬底的表面的上方的流体流动构件，如环或盖。该流体流动构件的径向曲率能够防止在晶片的涂布和旋转干燥处理期间的旋转过程中形成风痕。
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公开(公告)号：CN110164793A
公开(公告)日：2019-08-23
申请号：CN201910110985.6
申请日：2019-02-12
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明能够不降低生产性而除去在旋涂时产生的抗蚀剂液的异物。抗蚀剂涂敷装置(32)包括：保持晶片(W)并使其旋转的旋转吸盘(121)；对由旋转吸盘(121)保持的晶片(W)涂敷涂敷液的涂敷液供给喷嘴(154)；包围被旋转吸盘(121)保持的晶片(W)地配置于旋转吸盘(121)的外侧的罩(125)；设置在旋转吸盘与罩(125)的内周面之间的排气路径(d)；收集部件(181)，其覆盖排气路径(d)地设置在排气路径(d)的上方，具有在上下方向连通的开口部(181a)；供给溶剂的溶剂供给喷嘴(158)；和中继部(180)，其位于收集部件(181)的上方，从罩(125)的内周面向收集部件(181)突出。
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公开(公告)号：CN105404102B
公开(公告)日：2018-09-21
申请号：CN201510556969.1
申请日：2015-09-02
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： G03F7/30
摘要： 本发明提供能够在利用显影液对曝光后的基板进行显影时对基板的面内的显影的进展程度而言有助于面内均匀性的提高的显影方法等。对被水平保持于可旋转的基板保持部的曝光后的基板，使用具有与上述基板相对地设置的接触部的第一显影液喷嘴，在基板的表面的一部分形成积液，使第一显影液喷嘴在旋转的基板的上方移动而将积液扩展到基板的整个表面，进行显影处理。而且，在进行该显影处理之前或之后，为了使基板的面内的显影的进展程度的分布均匀，在使基板旋转的状态利用第二显影液喷嘴对基板的表面供给显影液，之后，来自第一、第二显影液喷嘴的显影液的供给在从基板表面除去先前供给的显影液之后进行。
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公开(公告)号：CN105413247A
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：CN201511001407.7
申请日：2013-02-22
申请人： 东京毅力科创株式会社
CPC分类号： B01D19/0063 , B01D19/0031 , B01D19/0068 , G03F7/16 , G03F7/30 , H01L21/6715
摘要： 本发明提供与对被处理基板供给处理液的处理液供给喷嘴连接的液体处理装置，其包括：将处理液存储容器和该处理液供给喷嘴连接的供给管路；设置于供给管路的过滤器装置；过滤器装置的二次侧的泵；将泵的排出侧和过滤器装置的吸入侧连接的循环管路；在泵的二次侧的供给管路设置的供给控制阀；在循环管路设置的循环控制阀；和控制泵、供给控制阀和循环控制阀的控制装置，利用控制装置，使得通过关闭供给控制阀使从该处理液供给喷嘴向被处理基板的处理液的供给停止时，打开循环控制阀，驱动泵，使处理液在具有过滤器装置的供给管路与循环管路之间循环。
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公开(公告)号：CN105404103A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201510566734.0
申请日：2015-09-08
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： G03F7/30
摘要： 本发明的目的是在对曝光后的基板进行显影处理时，提高基板的面内的抗蚀剂图案的线宽的均匀性。进行显影处理，包括以下步骤：使用具有显影液的排出口和形成得比上述基板的表面小的接触部的显影液喷嘴，在上述基板的中央部使上述接触部与基板的表面相对的步骤；接着，从上述显影液喷嘴的排出口向基板的表面排出显影液，从上述接触部看时使显影液溢出到比该接触部的外缘靠外侧的位置而形成积液的步骤；和像这样维持显影液溢出的状态，一边从上述排出口向正在旋转的基板排出显影液，一边使上述显影液喷嘴从基板的中央部向周缘部移动而将上述积液扩展到基板的整个面的步骤。
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公开(公告)号：CN104137225B
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201380011195.3
申请日：2013-02-22
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/027 , B01D19/00 , B05C11/10 , G03F7/30
CPC分类号： B01D19/0063 , B01D19/0031 , B01D19/0068 , G03F7/16 , G03F7/30 , H01L21/6715
摘要： 本发明提供与对被处理基板供给处理液的处理液供给喷嘴连接的液体处理装置，其包括：将处理液存储容器和该处理液供给喷嘴连接的供给管路；设置于供给管路的过滤器装置；过滤器装置的二次侧的泵；将泵的排出侧和过滤器装置的吸入侧连接的循环管路；在泵的二次侧的供给管路设置的供给控制阀；在循环管路设置的循环控制阀；和控制泵、供给控制阀和循环控制阀的控制装置，利用控制装置，使得通过关闭供给控制阀使从该处理液供给喷嘴向被处理基板的处理液的供给停止时，打开循环控制阀，驱动泵，使处理液在具有过滤器装置的供给管路与循环管路之间循环。
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公开(公告)号：CN102654735B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201210156325.X
申请日：2009-03-16
申请人： 东京毅力科创株式会社
CPC分类号： G03F7/168 , B08B3/024 , G03F7/3021 , H01L21/67051
摘要： 本发明是对水的静接触角是85度以上的基板表面进行洗净的方法。包含如下工序：以基板的中心部和旋转中心部一致的方式使基板保持部水平保持基板；使所述基板保持部围绕垂直轴旋转的同时，从洗净喷嘴向基板的中心部喷出洗净液，通过离心力扩展到基板的表面整体；接着在使基板保持部旋转的状态下将基板上的洗净液的喷出位置变更到从基板的中心部偏移的偏心位置上，并在将洗净液的喷出位置的气体喷出位置侧界面和气体喷嘴的气体喷出位置的洗净液喷出位置侧界面的距离设定为9mm～15mm的状态下，从所述气体喷嘴向所述基板的中心部喷出气体形成洗净液的干燥区域；在使基板保持部旋转的状态下，以比所述干燥区域向外扩展的速度慢的速度使洗净液的喷出位置向基板的周缘移动。
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公开(公告)号：CN104345580A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201410382270.3
申请日：2014-08-05
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： G03F7/30 , H01L21/027
摘要： 本发明提供一种显影方法，用于进行显影，其包括：将曝光后的基板水平地保持在基板保持部上的步骤；从显影液喷嘴向基板的一部分供给显影液形成积液的步骤；使基板旋转的步骤；使上述显影液喷嘴移动，以使得进行旋转的上述基板上的显影液的供给位置沿着该基板的径向进行移动，从而使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤；和与使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤并行进行，使与上述显影液喷嘴一起移动的接触部与上述积液接触的步骤，其中，上述接触部与上述基板相对的面比上述基板的表面小。根据该方法能够抑制落到基板外的液体量。另外，由于能够降低基板的转速，所以，能够抑制液体飞溅。并且，通过搅拌显影液，能够提高处理能力。
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公开(公告)号：CN103887209A
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201310713222.3
申请日：2013-12-20
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/67017 , F04B43/0081 , F04B49/065 , F04B2205/503 , H01L21/6715 , H01L21/67023 , H01L21/0274
摘要： 本发明提供液处理装置和液处理方法。利用一个过滤器得到与设有多个过滤器时相同的过滤效率并谋求防止生产率降低。根据来自控制部（101）的控制信号，将抗蚀剂液（L）经由过滤器（52）吸入到泵（70）内，将被吸入到泵内的抗蚀剂液的一部分自喷射嘴（7）喷射，使余下的抗蚀剂液返回到供给管路（51b）中的位于过滤器的初级侧的部分，将与喷射量相等的补充量加入到返回量中而进行合成，对合成后的抗蚀剂液以与喷射量和返回量之比的合成相应的次数进行抗蚀剂液的喷射和由过滤器进行的过滤。
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