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公开(公告)号：CN111684569B
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN201980012129.5
申请日：2019-02-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , B05C11/00 , B05C11/08 , B05D1/40
Abstract: 涂布/显影装置(2)具备：去除液供给部(50)，其具有用于向晶圆(W)的周缘部喷出去除液的去除液喷嘴(52)；驱动部(60)，其使包括去除液喷嘴(52)的移动体(51)移动；传感器(70)，其检测与移动体(51)的位置有关的信息；以及控制部(100)，其构成为执行以下控制：向驱动部(60)输出用于使移动体(51)从将去除液喷嘴(52)配置于晶圆(W)的周缘(Wc)外的第一位置(P1)移动至将去除液喷嘴(52)配置于晶圆(W)的周缘部上的第二位置(P2)的控制指令；以及基于在移动体(51)从第一位置(P1)向第二位置(P2)移动的中途由传感器(70)检测出的信息同控制指令的关系来校正控制指令，以使移动体(51)的移动完成位置与第二位置(P2)的偏差缩小。
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公开(公告)号：CN102456601A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：CN201110328464.1
申请日：2011-10-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67265 , H01L21/67742
Abstract: 本申请提供能够可靠且容易地检测出保持部件的形状是否存在异常的保持部件的形状判定装置和方法。在使作为保持部件的叉(3A)前进时，按照使该叉(3A)通过其前方的方式，在叉(3A)的行进方向的侧面设置行传感器(4)。在使叉(3A)相对于行传感器(4)进退时，取得使该叉(3A)的上下方向的位置与叉(3A)的进退方向的位置对应的数据。根据该取得的数据，计算上下方向的位置对上述进退方向的位置取二次微分的值，根据该微分值来判定保持部件的形状有无异常。
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公开(公告)号：CN115145120A
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202210286399.9
申请日：2022-03-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基片处理装置的信息取得系统和信息取得方法、运算装置，在对基片进行液体处理的基片处理装置中，防止因喷嘴或杯状体相对于基片配置于不合适的位置而导致发生处理不良。信息取得系统用于取得关于基片处理装置的信息，基片处理装置包括：保持基片并使其旋转的基片保持部；向旋转的所述基片的表面供给处理液的喷嘴；和将保持在所述基片保持部上的所述基片包围的杯状体，信息取得系统包括：信息取得体，其能够代替所述基片而被所述基片保持部保持；摄像部，其为了拍摄所述杯状体来取得图像数据而被设置于所述信息取得体；取得部，其基于所述图像数据取得关于所述杯状体的高度的信息。
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公开(公告)号：CN107492513B
公开(公告)日：2022-06-07
申请号：CN201710443443.1
申请日：2017-06-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种液处理装置、液处理方法以及存储介质。在喷嘴载置区域与多个基板载置区域上的各处理位置之间进行喷嘴的输送的液处理装置抑制对与喷嘴连接的配管的损伤并且抑制生产率的下降。将装置构成为具备设置在基板载置区域的列的后方，用于载置喷嘴的喷嘴载置区域以及用于使臂绕转动轴在水平方向上转动并且使所述转动轴在左右方向上移动的驱动部。从喷嘴载置区域将所述喷嘴从与各处理位置对应地设定的待机位置中的与输送目的地的处理位置对应的待机位置的后方输送到该待机位置，接着使该喷嘴在该待机位置待机，之后将该喷嘴输送到所述处理位置。所述待机位置位于基板载置区域的外侧且在前后方向上观察时位于处理位置与喷嘴载置区域之间。
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公开(公告)号：CN112071771A
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN202010500958.2
申请日：2020-06-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供液处理装置和液处理方法。针对向基板供给涂敷液而形成涂敷膜的液处理装置，获得高生产率且省空间。构成如下装置，其具备：第1喷嘴，其在基板之上的各第1喷出位置向该基板喷出第1处理液，以各基板保持部为单位设置；第2喷嘴，其在各基板之上的第2喷出位置以迟于第1处理液从第1喷嘴的喷出的方式向该基板喷出涂敷膜形成用的第2处理液，被多个基板保持部共用；第3喷嘴，其为了在保持于各基板保持部的基板之上的第3喷出位置向基板喷出第3处理液而以各基板保持部为单位设置；回转机构，其使第1喷嘴于俯视时在第1待机部与第1喷出位置之间回转；以及直动机构，其使第3喷嘴于俯视时在第3待机部与第3喷出位置之间直线移动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116550496A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310045125.5
申请日：2023-01-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法以及存储介质。该基板处理装置是与对基板进行涂布液的涂布有关的便利性高的基板处理装置。抗蚀剂涂布装置具备：旋转保持盘，其保持基板来使基板旋转；杯，其以包围被保持于旋转保持盘的基板的方式配置；以及涂布液喷嘴，其构成为能够对基板喷出涂布液。另外，抗蚀剂涂布装置具备去除液喷嘴和喷嘴追踪摄像机，该喷嘴追踪摄像机通过安装于保持涂布液喷嘴的喷嘴臂来以追踪涂布液喷嘴的方式移动，该喷嘴追踪摄像机构成为能够拍摄涂布液喷嘴。并且，抗蚀剂涂布装置具备处理空间用摄像机，该处理空间用摄像机构成为能够拍摄旋转保持盘上的处理空间。
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公开(公告)号：CN107230656B
公开(公告)日：2022-03-15
申请号：CN201710183530.8
申请日：2017-03-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板输送装置和基板输送方法。在吸引并输送基板的基板输送装置中，高精度地检测基板的输送的异常。基板输送装置构成为具备：基板保持部，其具备用于吸引并保持基板的吸引孔；移动机构，其用于使所述基板保持部移动；压力检测部，其对与所述吸引孔连通的吸引通路的压力进行检测；以及控制部，其基于所述压力检测部的压力检测值的微分值来检测输送的异常。通过像这样获取微分值，能够高精度地掌握吸引通路的压力的变化，因此能够高精度地检测基板的输送的异常。
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公开(公告)号：CN111684569A
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN201980012129.5
申请日：2019-02-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , B05C11/00 , B05C11/08 , B05D1/40
Abstract: 涂布/显影装置(2)具备：去除液供给部(50)，其具有用于向晶圆(W)的周缘部喷出去除液的去除液喷嘴(52)；驱动部(60)，其使包括去除液喷嘴(52)的移动体(51)移动；传感器(70)，其检测与移动体(51)的位置有关的信息；以及控制部(100)，其构成为执行以下控制：向驱动部(60)输出用于使移动体(51)从将去除液喷嘴(52)配置于晶圆(W)的周缘(Wc)外的第一位置(P1)移动至将去除液喷嘴(52)配置于晶圆(W)的周缘部上的第二位置(P2)的控制指令；以及基于在移动体(51)从第一位置(P1)向第二位置(P2)移动的中途由传感器(70)检测出的信息同控制指令的关系来校正控制指令，以使移动体(51)的移动完成位置与第二位置(P2)的偏差缩小。
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公开(公告)号：CN107230656A
公开(公告)日：2017-10-03
申请号：CN201710183530.8
申请日：2017-03-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67739 , H01L21/67253 , H01L21/67703
Abstract: 本发明提供一种基板输送装置和基板输送方法。在吸引并输送基板的基板输送装置中，高精度地检测基板的输送的异常。基板输送装置构成为具备：基板保持部，其具备用于吸引并保持基板的吸引孔；移动机构，其用于使所述基板保持部移动；压力检测部，其对与所述吸引孔连通的吸引通路的压力进行检测；以及控制部，其基于所述压力检测部的压力检测值的微分值来检测输送的异常。通过像这样获取微分值，能够高精度地掌握吸引通路的压力的变化，因此能够高精度地检测基板的输送的异常。
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公开(公告)号：CN107492513A
公开(公告)日：2017-12-19
申请号：CN201710443443.1
申请日：2017-06-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/6715 , G03F7/162 , H01L21/02 , H01L21/02057 , H01L21/67051 , H01L2221/67
Abstract: 本发明提供一种液处理装置、液处理方法以及存储介质。在喷嘴载置区域与多个基板载置区域上的各处理位置之间进行喷嘴的输送的液处理装置抑制对与喷嘴连接的配管的损伤并且抑制生产率的下降。将装置构成为具备设置在基板载置区域的列的后方，用于载置喷嘴的喷嘴载置区域以及用于使臂绕转动轴在水平方向上转动并且使所述转动轴在左右方向上移动的驱动部。从喷嘴载置区域将所述喷嘴从与各处理位置对应地设定的待机位置中的与输送目的地的处理位置对应的待机位置的后方输送到该待机位置，接着使该喷嘴在该待机位置待机，之后将该喷嘴输送到所述处理位置。所述待机位置位于基板载置区域的外侧且在前后方向上观察时位于处理位置与喷嘴载置区域之间。
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