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公开(公告)号：CN115036434A
公开(公告)日：2022-09-09
申请号：CN202210681670.9
申请日：2022-06-15
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本公开实施例提供了一种显示面板及电子设备，显示面板包括：彩色滤光层、反光层、遮光层、发光层；彩色滤光层包括预定颜色的彩色滤光片，彩色滤光片设置在发光层的发光单元的对应位置；反光层包括反光单元，反光单元环绕彩色滤光片设置，反光单元用于反射或全反射来自发光单元的光；遮光层包括黑矩阵单元，黑矩阵单元设置在相邻的彩色滤光片之间，黑矩阵单元完全覆盖在反光单元之上。本公开实施例在彩色滤光片周围设置了反光单元，通过反光单元将来自发光单元的光进行一次反射或全反射，进而将原本无用的光进行了再次利用，提高了透过彩色滤光片的出光量，提升了整个出光面的出光量，同样电压下显示面板的亮度得到了明显提升，提升了产品的性能。
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公开(公告)号：CN106647162B
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：CN201710175508.9
申请日：2017-03-22
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种掩膜版、曝光方法及装置。该掩膜版上包括掩模图形区域，还包括：设置于所述掩模图形区域周围的图形标记所述图形标记包括第一组和第二组，分别设置于所述掩模图形区域相对的两侧，所述第一组包括第二左标记和第三左标记，所述第二组包括第二右标记和第三右标记；且所述第二左标记大于第三右标记，所述第二右标记大于第三左标记。本发明实施例所述方案，通过设置图形标记，监控图形标记对应的光刻胶图形从而监控遮光挡板的位置是否异常来判断曝光是否正确。
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公开(公告)号：CN102650819B
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201110221058.5
申请日：2011-08-03
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种掩模板和掩模板的定位方法，涉及微电子领域，能够采用单张掩模板实现重复曝光时图形的对位重合。一种掩膜板，所述掩膜板设置有基准对位标记和与所述基准对位标记相对位的对准对位标记。方法包括：使用掩模板正常曝光，将所述掩模板上的对位标记全部制作于基板上，所述掩模板上的对位标记包括基准对位标记和与所述基准对位标记相对位的对准对位标记；移动基板，将所述基板上的对准对位标记与所述掩模板基准对位标记相对位；设置曝光机的补偿值，根据输入的曝光机的补偿值，控制曝光机进行补偿，抵消所述基板上的对准对位标记和所述掩模板上的基准对位标记间的间距，完成掩膜板与基板的对位后曝光。
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公开(公告)号：CN103367166A
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201310306171.2
申请日：2013-07-19
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H01L21/336 , H01L21/027 , H01L21/28 , H01L29/786 , H01L27/12
CPC分类号： H01L29/66742 , H01L21/0273 , H01L21/283 , H01L21/30604 , H01L21/3081 , H01L21/3086 , H01L21/32133 , H01L21/32139 , H01L21/67069 , H01L21/67075 , H01L21/67109 , H01L21/67161 , H01L21/67207 , H01L21/6723 , H01L21/67742 , H01L27/1288 , H01L29/66765 , H01L29/786
摘要： 本发明提供一种薄膜晶体管制备方法，包括：依次形成半导体层薄膜、掺杂半导体层薄膜、源漏电极薄膜，以及第一图案化的光刻胶层；进行第一次刻蚀，去掉未被所述第一图案化的光刻胶层覆盖的区域上的源漏电极薄膜；进行第二次刻蚀，去掉未被所述第一图案化的光刻胶层覆盖的区域上的掺杂半导体层薄膜和半导体层薄膜；对所述光刻胶层进行灰化处理，去掉所述沟道区域上的光刻胶层；对灰化处理后的光刻胶层进行烘烤；进行第三次刻蚀，去掉未被所述灰化处理后的光刻胶层覆盖的区域上的源漏电极薄膜；进行第四次刻蚀，去掉未被所述灰化处理后的光刻胶层覆盖的区域上的掺杂半导体层薄膜。本发明提供的方法制备的薄膜晶体管内没有钻蚀的问题。
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公开(公告)号：CN103107135A
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：CN201310053700.2
申请日：2013-02-19
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
CPC分类号： H01L27/124 , H01L27/1218 , H01L27/1248 , H01L27/1259 , H01L29/66765 , H01L29/78678
摘要： 本发明提供一种阵列基板的制作方法、阵列基板和显示装置，其中，所述阵列基板的制作方法包括：在阵列基板上形成垫高层，所述垫高层位于平坦化层下方，且对应于所述平坦化层的过孔的位置，其中，所述平坦化层为热熔性材料形成。本发明的方案可以局部减小平坦化层的厚度，从而减少过孔形成所需要的曝光能量，进一步增加曝光时的曝光速度，提高生产效率。
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公开(公告)号：CN111857429B
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202010710537.2
申请日：2020-07-22
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 提供了一种触控显示模组及其制备方法、显示装置，该触控显示模组包括显示基板以及设置在所述显示基板上的触控电极、镜面反射层，所述镜面反射层与所述触控电极同层设置，且所述镜面反射层与所述触控电极互相绝缘。
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公开(公告)号：CN115207071A
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202210875218.6
申请日：2022-07-25
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本公开提供一种显示面板以及显示装置，属于显示技术领域，其中，显示面板其包括衬底基板，以及设置在衬底基板上、呈阵列排布的多个像素单元组，每一像素单元组包括设置在衬底基板上的第一像素单元和第二像素单元；第一像素单元包括像素驱动电路和与之电连接的第一发光器件，第二像素单元包括第二发光器件；其中，对于位于同一行的像素单元组，各个像素驱动电路和各个第二发光器件的第二电极连接同一栅线；对于位于同一列的像素单元组，各个像素驱动电路连接同一数据线，各个第二发光器件的第一电极连接同一数据线。
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公开(公告)号：CN114068662A
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202111356895.9
申请日：2021-11-16
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本申请提供一种显示面板及显示装置，所述显示面板包括有机发光层、覆盖所述有机发光层的封装层和位于所述封装层远离所述有机发光层的彩色滤光片层。所述彩色滤光片层包括间隔设置的红色彩膜片、绿色彩膜片和蓝色彩膜片，相邻的所述彩膜片之间设置有黑色吸光块，所述黑色吸光块的侧面设置有反射层。本申请通过在黑色吸光块侧面制备反射层，增强了对所述有机发光层所发出的光的反射，从而增加了显示面板及显示装置的显示亮度和对比度，降低功耗。
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公开(公告)号：CN111857429A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN202010710537.2
申请日：2020-07-22
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 提供了一种触控显示模组及其制备方法、显示装置，该触控显示模组包括显示基板以及设置在所述显示基板上的触控电极、镜面反射层，所述镜面反射层与所述触控电极同层设置，且所述镜面反射层与所述触控电极互相绝缘。
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公开(公告)号：CN108215523B
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201810043587.2
申请日：2018-01-17
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明涉及一种打标承载装置及打标机。所述打标承载装置包括：载台、设于所述载台周围的定位装置，所述定位装置包括底座、定位件和定位驱动结构，其中所述定位件高于所述载台设置；所述定位驱动结构驱动所述定位件相对所述载台在竖直方向上作上下运动。根据本发明的实施例，可以通过将定位装置设置为可升降结构，使得在对所述玻璃基板进行定位时，所述定位装置的定位件处于调节高度，有利于玻璃基板的定位，当然对于翘曲或较软等较难定位的玻璃基板，也能有效进行定位。
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