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公开(公告)号：CN103688603B
公开(公告)日：2017-05-03
申请号：CN201280035149.2
申请日：2012-06-12
Applicant: 住友重机械工业株式会社
CPC classification number: H05K3/0091 , H05K3/28 , H05K2201/09909 , H05K2203/0759
Abstract: 本发明提供一种薄膜形成方法及薄膜形成装置。通过反复进行薄膜材料的液滴向基板的表面中形成薄膜图案的区域的边缘的着落与已着落的薄膜材料的固化，在形成薄膜图案的区域的边缘形成由薄膜材料构成的边缘图案。以边缘图案来使薄膜材料的液滴着落于所划分出边缘的内部区域。使着落于内部区域的薄膜材料固化。形成由边缘图案和着落于内部区域的薄膜材料构成的薄膜图案。
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公开(公告)号：CN102554467B
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201110401771.8
申请日：2011-12-06
Applicant: 住友重机械工业株式会社
IPC: B23K26/067 , B23K26/382
Abstract: 本发明提供一种高速加工的激光加工装置及激光加工方法。本发明的激光加工装置具有：激光光源，射出激光束；分光系统，能够至少向第1方向和第2方向分配从激光光源射出的激光束；及第1偏转器，能够偏转通过分光系统向第1方向、第2方向分配的激光束而射出，其中，第1偏转器包含：第1偏转元件，配置于通过分光系统向第1方向分配的激光束的光路上，且能够偏转激光束而射出；第2偏转元件，配置于通过分光系统向第2方向分配的激光束的光路上，且能够偏转激光束而射出；及第3偏转元件，配置于经由第1偏转元件的激光束及经由第2偏转元件的激光束的光路上，且能够偏转入射的激光束而射出。
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公开(公告)号：CN103688602B
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201280033928.9
申请日：2012-06-20
Applicant: 住友重机械工业株式会社
CPC classification number: H05K3/3452 , B41J11/002 , H05K2203/013
Abstract: 本发明提供一种基板制造方法及基板制造装置。本发明的基板制造方法，反复进行使薄膜材料的液滴着落于底层基板表面中与着落对象像素对应的位置的工序，及使着落于底层基板的薄膜材料固化的工序，由此形成由薄膜材料构成的薄膜图案。以由二维分布的多个像素构成的图像数据定义薄膜图案的平面形状。着落对象像素是从底层基板表面中，应用薄膜材料涂布的满布区域内的多个像素中提取的一部分像素。着落于与着落对象像素对应的位置的薄膜材料向面内方向扩散至与没有提取为着落对象像素的像素对应的区域之后，使薄膜材料固化，由此形成覆盖满布区域的整个区域的薄膜图案。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103688603A
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201280035149.2
申请日：2012-06-12
Applicant: 住友重机械工业株式会社
CPC classification number: H05K3/0091 , H05K3/28 , H05K2201/09909 , H05K2203/0759
Abstract: 本发明提供一种薄膜形成方法及薄膜形成装置。通过反复进行薄膜材料的液滴向基板的表面中形成薄膜图案的区域的边缘的着落与已着落的薄膜材料的固化，在形成薄膜图案的区域的边缘形成由薄膜材料构成的边缘图案。以边缘图案来使薄膜材料的液滴着落于所划分出边缘的内部区域。使着落于内部区域的薄膜材料固化。形成由边缘图案和着落于内部区域的薄膜材料构成的薄膜图案。
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公开(公告)号：CN102554467A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201110401771.8
申请日：2011-12-06
Applicant: 住友重机械工业株式会社
IPC: B23K26/067 , B23K26/38
Abstract: 本发明提供一种高速加工的激光加工装置及激光加工方法。本发明的激光加工装置具有：激光光源，射出激光束；分光系统，能够至少向第1方向和第2方向分配从激光光源射出的激光束；及第1偏转器，能够偏转通过分光系统向第1方向、第2方向分配的激光束而射出，其中，第1偏转器包含：第1偏转元件，配置于通过分光系统向第1方向分配的激光束的光路上，且能够偏转激光束而射出；第2偏转元件，配置于通过分光系统向第2方向分配的激光束的光路上，且能够偏转激光束而射出；及第3偏转元件，配置于经由第1偏转元件的激光束及经由第2偏转元件的激光束的光路上，且能够偏转入射的激光束而射出。
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公开(公告)号：CN103718660B
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：CN201280035355.3
申请日：2012-07-06
Applicant: 住友重机械工业株式会社
CPC classification number: H05K3/28 , B05D1/26 , H05K2203/0126
Abstract: 本发明提供一种基板制造装置，其底层基板保持于涂布台。喷嘴单元与保持于涂布台的底层基板对置，并从多个喷嘴孔朝向底层基板吐出薄膜材料的液滴。在贮存槽中蓄积薄膜材料。供给系统从贮存槽向喷嘴单元供给薄膜材料。第1热源对贮存槽进行加热。第1温度传感器对贮存槽的温度进行测定。第2热源对供给系统的至少一处进行加热。第2温度传感器对供给系统的至少一处的温度进行测定。温度控制装置根据第1温度传感器及第2温度传感器的测定结果对第1热源及第2热源进行控制，以使贮存槽内的薄膜材料的温度与在供给系统中流动的薄膜材料的温度限制在温度的目标范围内。
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公开(公告)号：CN103718660A
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN201280035355.3
申请日：2012-07-06
Applicant: 住友重机械工业株式会社
CPC classification number: H05K3/28 , B05D1/26 , H05K2203/0126
Abstract: 本发明提供一种基板制造装置，其底层基板保持于涂布台。喷嘴单元与保持于涂布台的底层基板对置，并从多个喷嘴孔朝向底层基板吐出薄膜材料的液滴。在贮存槽中蓄积薄膜材料。供给系统从贮存槽向喷嘴单元供给薄膜材料。第1热源对贮存槽进行加热。第1温度传感器对贮存槽的温度进行测定。第2热源对供给系统的至少一处进行加热。第2温度传感器对供给系统的至少一处的温度进行测定。温度控制装置根据第1温度传感器及第2温度传感器的测定结果对第1热源及第2热源进行控制，以使贮存槽内的薄膜材料的温度与在供给系统中流动的薄膜材料的温度限制在温度的目标范围内。
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公开(公告)号：CN103688602A
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201280033928.9
申请日：2012-06-20
Applicant: 住友重机械工业株式会社
CPC classification number: H05K3/3452 , B41J11/002 , H05K2203/013
Abstract: 本发明提供一种基板制造方法及基板制造装置。本发明的基板制造方法，反复进行使薄膜材料的液滴着落于底层基板表面中与着落对象像素对应的位置的工序，及使着落于底层基板的薄膜材料固化的工序，由此形成由薄膜材料构成的薄膜图案。以由二维分布的多个像素构成的图像数据定义薄膜图案的平面形状。着落对象像素是从底层基板表面中，应用薄膜材料涂布的满布区域内的多个像素中提取的一部分像素。着落于与着落对象像素对应的位置的薄膜材料向面内方向扩散至与没有提取为着落对象像素的像素对应的区域之后，使薄膜材料固化，由此形成覆盖满布区域的整个区域的薄膜图案。
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