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公开(公告)号：CN105706214A
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201380080755.0
申请日：2013-11-06
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0002 , B29C33/3835 , B29C33/3842 , B29C43/021 , B29C2043/025 , B29C2059/023 , B29K2995/0027 , G05D21/02
Abstract: 在本发明中，在包含压缩气体的气氛中执行的压印处理中，图案以比现有技术高的准确度形成在基板上。提供有一种用于使用计算机来确定模具的图案的确定方法，这种模具被用在通过执行以下步骤而在压印材料上形成图案的压印处理中：在包含通过压缩而液化的压缩气体的气氛中，将基板上的压印材料和模具的图案压在一起的步骤；固化压印材料的步骤；以及使压印材料和模具分离的步骤。在按压步骤中，作为压印材料和模具之间的压缩气体液化的结果并且已渗入压印材料中的凝结液体在按压步骤完成之后与压印材料分离，并且引起压印材料的图案的收缩；计算该收缩的量；并且使用收缩量来确定模具图案的尺寸。
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公开(公告)号：CN105580109A
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201480053312.7
申请日：2014-09-22
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L21/027 , B29C59/02
CPC classification number: H05K3/245 , G03F7/0002 , G03F7/027 , G03F7/038 , H01L21/0274
Abstract: 提供一种精确且简便地检测模具与基板的对准标记的方法，并相应地提供高通量的图案化膜的形成方法，以及还提供光学组件的制造方法、电路板的制造方法和电子组件的制造方法。图案化膜通过光-纳米压印来形成。在所述方法中，气体满足下述不等式(1)：|nM-nR|≤|nM-nR′| (1)在不等式(1)中，nR表示在光的波长下不含气体的组合物的折射率，nR′表示在所述光的波长下含有气体的光固化性组合物的折射率，和nM表示在所述光的波长下模具的折射率。
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公开(公告)号：CN105706214B
公开(公告)日：2018-10-02
申请号：CN201380080755.0
申请日：2013-11-06
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L21/027
Abstract: 在本发明中，在包含压缩气体的气氛中执行的压印处理中，图案以比现有技术高的准确度形成在基板上。提供有一种用于使用计算机来确定模具的图案的确定方法，这种模具被用在通过执行以下步骤而在压印材料上形成图案的压印处理中：在包含通过压缩而液化的压缩气体的气氛中，将基板上的压印材料和模具的图案压在一起的步骤；固化压印材料的步骤；以及使压印材料和模具分离的步骤。在按压步骤中，作为压印材料和模具之间的压缩气体液化的结果并且已渗入压印材料中的凝结液体在按压步骤完成之后与压印材料分离，并且引起压印材料的图案的收缩；计算该收缩的量；并且使用收缩量来确定模具图案的尺寸。
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公开(公告)号：CN105580109B
公开(公告)日：2017-09-15
申请号：CN201480053312.7
申请日：2014-09-22
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L21/027 , B29C59/02
CPC classification number: H05K3/245 , G03F7/0002 , G03F7/027 , G03F7/038 , H01L21/0274
Abstract: 提供一种精确且简便地检测模具与基板的对准标记的方法，并相应地提供高通量的图案化膜的形成方法，以及还提供光学组件的制造方法、电路板的制造方法和电子组件的制造方法。图案化膜通过光‑纳米压印来形成。在所述方法中，气体满足下述不等式(1)：|nM‑nR|≤|nM‑nR′| (1)在不等式(1)中，nR表示在光的波长下不含气体的组合物的折射率，nR′表示在所述光的波长下含有气体的光固化性组合物的折射率，和nM表示在所述光的波长下模具的折射率。
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