半导体方块电阻的测试方法及测试电路

    公开(公告)号:CN109444551B

    公开(公告)日:2020-09-15

    申请号:CN201811051617.0

    申请日:2018-09-10

    IPC分类号: G01R27/14

    摘要: 本发明公开了一种半导体方块电阻的方法及电路,方法包括:在待测掺杂区域内形成至少一个第一掺杂区域,第一掺杂区域为第二导电类型,第二导电类型与第一导电类型相反;并在第一掺杂区域内形成第二掺杂区域,第二掺杂区域为第一导电类型;在半导体基板表面上设置至少两个激励电极,其中至少一个激励电极与第二掺杂区域对应;在半导体基板表面上依次设置至少一个隔离层和与之分别对应的控制电极,隔离层和控制电极从一个第一掺杂区域的边缘延伸至内部第二掺杂区域的边缘;通过两个激励电极施加激励电流、测试位于两个激励电极之间的待测掺杂区域之间的电压,获得待掺杂区域的方块电阻值。用以上方法进行方块电阻测试,能够测得较准确的方块电阻值。

    一种金属电极制备方法及压接式IGBT

    公开(公告)号:CN108074802B

    公开(公告)日:2020-11-20

    申请号:CN201611000087.8

    申请日:2016-11-14

    摘要: 本发明提供了一种金属电极制备方法及压接式IGBT,所述方法包括在衬底上淀积氧化层,且衬底上预设的压力接触区对应的氧化层的厚度大于预设的非压力接触区对应的氧化层的厚度;在氧化层上顺次淀积第一金属层和第二金属层,形成金属电极。与现有技术相比,本发明提供的一种金属电极制备方法及压接式IGBT,其压力接触区对应的氧化层厚度大于非压力接触区对应的氧化层的厚度,可以减少压接式IGBT的沟道区承受的压力;同时,通过在衬底上顺次淀积第一金属层和第二金属层形成金属电极,能够增加压接式IGBT的金属层厚度,从而缓解整个压接式IGBT承受的压力。

    功率半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN108110040A

    公开(公告)日:2018-06-01

    申请号:CN201711061805.7

    申请日:2017-11-02

    IPC分类号: H01L29/06 H01L21/331

    摘要: 本发明公开了功率半导体器件及其制造方法,其中所述功率半导体器件包括:第一半导体区域,其具有第一导电类型;至少一个第二半导体区域,设置在第一半导体区域上,并且第二半导体区域的表面与第一半导体区域的表面齐平,第二半导体区域具有与第一导电类型相反的第二导电类型;第一绝缘层,设置在第一半导体区域和第二半导体区域的表面上;第一绝缘层上对应于第二半导体区域的位置设置有至少一个开口;第二半导体区域的表面内对应于开口的位置形成有至少一个凹陷区域,凹陷区域为具有第一导电类型的半导体材料。本发明实施例所提供的功率半导体器件能够在降低表面温度的同时缩短横向电阻区的长度,从而减小功率半导体器件的尺寸。

    IGBT芯片制造方法及IGBT芯片

    公开(公告)号:CN107578998B

    公开(公告)日:2021-02-09

    申请号:CN201710606477.8

    申请日:2017-07-24

    摘要: 本发明提供了一种IGBT芯片制造方法及IGBT芯片,其中,IGBT芯片制造方法包括:在N型掺杂硅片衬底的表面淀积多晶硅层;在所述多晶硅层的图形中通过多次离子注入和高温推结的方式形成P阱层。本发明通过多次离子注入和高温推结的方式形成P阱层,这样在N区下方的P阱拥有更高的浓度,更加有利于改善抗闩锁能力,从而解决了现有技术中IGBT芯片在过电流关断过程中,容易发生动态闩锁现象的问题,提高了IGBT在过电流关断过程中的抗闩锁能力,同时背面采用局部掺杂或者氧化层隔离的方式,降低有源区边缘的电流集中,提高IGBT的过流关断能力。

    一种绝缘栅双极晶体管及其制备方法

    公开(公告)号:CN110660668A

    公开(公告)日:2020-01-07

    申请号:CN201910828209.X

    申请日:2019-09-03

    摘要: 本发明公开了一种绝缘栅双极晶体管及其制备方法,该制备方法包括:在衬底的背面形成第一导电类型半导体层,在衬底的正面形成MOS结构;在第一导电类型半导体层上形成间隔设置的沟槽;在沟槽中形成第一部分第二导电类型集电区;在第一导电类型半导体层和沟槽中形成第二部分第二导电类型集电区,第一部分第二导电类型集电区和第二部分第二导电类型集电区构成第二导电类型集电区。通过实施本发明,在IGBT的集电区增加沟槽式设计,该沟槽结构可以使得该IGBT在工作时保持有源区具有足够的载流子浓度,降低终端区载流子浓度,从而优化集电区注入效率,提高器件的反偏安全工作区。该沟槽结构更有利于金属的粘附,可以优化背面集电极表面金属结构。

    一种金属电极制备方法及压接式IGBT

    公开(公告)号:CN108074802A

    公开(公告)日:2018-05-25

    申请号:CN201611000087.8

    申请日:2016-11-14

    摘要: 本发明提供了一种金属电极制备方法及压接式IGBT,所述方法包括在衬底上淀积氧化层,且衬底上预设的压力接触区对应的氧化层的厚度大于预设的非压力接触区对应的氧化层的厚度;在氧化层上顺次淀积第一金属层和第二金属层,形成金属电极。与现有技术相比,本发明提供的一种金属电极制备方法及压接式IGBT,其压力接触区对应的氧化层厚度大于非压力接触区对应的氧化层的厚度,可以减少压接式IGBT的沟道区承受的压力;同时,通过在衬底上顺次淀积第一金属层和第二金属层形成金属电极,能够增加压接式IGBT的金属层厚度,从而缓解整个压接式IGBT承受的压力。